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1. 发明专利

TWI694173B 蝕刻液、補給液以及銅配線的形成方法有权
简体标题：蚀刻液、补给液以及铜配线的形成方法
公开(公告)号：TWI694173B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW106105283
申请日：2016-06-17
申请人：日商MEC股份有限公司 , MEC COMPANY LTD.
发明人：小寺浩史 , KODERA, HIROFUMI , 片山育代 , KATAYAMA, IKUYO , 菱川翔太 , HISHIKAWA, SHOTA
IPC分类号： C23F1/18 , C23F1/02 , H05K3/06

2. 发明专利

TWI694172B 蝕刻液、補給液以及銅配線的形成方法有权
简体标题：蚀刻液、补给液以及铜配线的形成方法
公开(公告)号：TWI694172B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW106105282
申请日：2016-06-17
申请人：日商MEC股份有限公司 , MEC COMPANY LTD.
发明人：小寺浩史 , KODERA, HIROFUMI , 片山育代 , KATAYAMA, IKUYO , 菱川翔太 , HISHIKAWA, SHOTA
IPC分类号： C23F1/18

3. 发明专利

TWI679305B 被膜形成用組合物、表面處理金屬構件的製造方法以及金屬與樹脂的複合體的製造方法有权
简体标题：被膜形成用组合物、表面处理金属构件的制造方法以及金属与树脂的复合体的制造方法
公开(公告)号：TWI679305B
公开(公告)日：2019-12-11
申请号：TW107113178
申请日：2018-04-18
申请人：日商MEC股份有限公司 , MEC COMPANY LTD.
发明人：東松逸朗 , TOMATSU, ITSURO , 熊崎航介 , KUMAZAKI, KOSUKE , 網谷康孝 , AMITANI, YASUTAKA , 柴沼祐子 , SHIBANUMA, YUKO , 片山育代 , KATAYAMA, IKUYO
IPC分类号： C23C22/06 , C23C22/63 , C23C22/68

4. 发明专利

TW201720963A 蝕刻液、補給液以及銅配線的形成方法审中-公开
简体标题：蚀刻液、补给液以及铜配线的形成方法
公开(公告)号：TW201720963A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW106105283
申请日：2016-06-17
申请人： MEC股份有限公司 , MEC COMPANY LTD.
发明人：小寺浩史 , KODERA, HIROFUMI , 片山育代 , KATAYAMA, IKUYO , 菱川翔太 , HISHIKAWA, SHOTA
IPC分类号： C23F1/18 , C23F1/02 , H05K3/06
CPC分类号： C23F1/18 , C09K13/06 , H05K3/067 , H05K2203/0789
摘要：本發明提供一種蝕刻液及其補給液、以及銅配線的形成方法，可於不降低銅配線的直線性(銅配線頂部的配線寬度(W2))之情況下抑制側蝕，並且可抑制銅配線底部的配線寬度(W1)之不均。本發明之銅的蝕刻液包含酸、以及選自由脂肪族非環式化合物、脂肪族雜環式化合物、及雜芳香族化合物所組成之群組中的1種以上化合物；前述脂肪族非環式化合物為碳數2~10之飽和脂肪族非環式化合物(A)，僅具有2個以上的氮作為雜原子；前述脂肪族雜環式化合物為包含5員環至7員環之化合物(B)，前述5員環至7員環具有1個以上的氮作為構成環之雜原子；前述雜芳香族化合物為包含6員芳香雜環之化合物(C)，前述6員芳香雜環具有1個以上的氮作為構成環之雜原子。
简体摘要：本发明提供一种蚀刻液及其补给液、以及铜配线的形成方法，可于不降低铜配线的直线性(铜配线顶部的配线宽度(W2))之情况下抑制侧蚀，并且可抑制铜配线底部的配线宽度(W1)之不均。本发明之铜的蚀刻液包含酸、以及选自由脂肪族非环式化合物、脂肪族杂环式化合物、及杂芳香族化合物所组成之群组中的1种以上化合物；前述脂肪族非环式化合物为碳数2~10之饱和脂肪族非环式化合物(A)，仅具有2个以上的氮作为杂原子；前述脂肪族杂环式化合物为包含5员环至7员环之化合物(B)，前述5员环至7员环具有1个以上的氮作为构成环之杂原子；前述杂芳香族化合物为包含6员芳香杂环之化合物(C)，前述6员芳香杂环具有1个以上的氮作为构成环之杂原子。

5. 发明专利

TW201720962A 蝕刻液、補給液以及銅配線的形成方法审中-公开
简体标题：蚀刻液、补给液以及铜配线的形成方法
公开(公告)号：TW201720962A
公开(公告)日：2017-06-16
申请号：TW106105282
申请日：2016-06-17
申请人： MEC股份有限公司 , MEC COMPANY LTD.
发明人：小寺浩史 , KODERA, HIROFUMI , 片山育代 , KATAYAMA, IKUYO , 菱川翔太 , HISHIKAWA, SHOTA
IPC分类号： C23F1/18
CPC分类号： C23F1/18 , C09K13/06 , H05K3/067 , H05K2203/0789
摘要：本發明提供一種蝕刻液及其補給液、以及銅配線的形成方法，可於不降低銅配線的直線性(銅配線頂部的配線寬度(W2))之情況下抑制側蝕，並且可抑制銅配線底部的配線寬度(W1)之不均。本發明之銅的蝕刻液包含酸、以及選自由脂肪族非環式化合物、脂肪族雜環式化合物、及雜芳香族化合物所組成之群組中的1種以上化合物；前述脂肪族非環式化合物為碳數2~10之飽和脂肪族非環式化合物(A)，僅具有2個以上的氮作為雜原子；前述脂肪族雜環式化合物為包含5員環至7員環之化合物(B)，前述5員環至7員環具有1個以上的氮作為構成環之雜原子；前述雜芳香族化合物為包含6員芳香雜環之化合物(C)，前述6員芳香雜環具有1個以上的氮作為構成環之雜原子。
简体摘要：本发明提供一种蚀刻液及其补给液、以及铜配线的形成方法，可于不降低铜配线的直线性(铜配线顶部的配线宽度(W2))之情况下抑制侧蚀，并且可抑制铜配线底部的配线宽度(W1)之不均。本发明之铜的蚀刻液包含酸、以及选自由脂肪族非环式化合物、脂肪族杂环式化合物、及杂芳香族化合物所组成之群组中的1种以上化合物；前述脂肪族非环式化合物为碳数2~10之饱和脂肪族非环式化合物(A)，仅具有2个以上的氮作为杂原子；前述脂肪族杂环式化合物为包含5员环至7员环之化合物(B)，前述5员环至7员环具有1个以上的氮作为构成环之杂原子；前述杂芳香族化合物为包含6员芳香杂环之化合物(C)，前述6员芳香杂环具有1个以上的氮作为构成环之杂原子。

6. 发明专利

TWI577832B 蝕刻液、補給液以及銅配線的形成方法有权
简体标题：蚀刻液、补给液以及铜配线的形成方法
公开(公告)号：TWI577832B
公开(公告)日：2017-04-11
申请号：TW105119131
申请日：2016-06-17
申请人： MEC股份有限公司 , MEC COMPANY LTD.
发明人：小寺浩史 , KODERA, HIROFUMI , 片山育代 , KATAYAMA, IKUYO , 菱川翔太 , HISHIKAWA, SHOTA
IPC分类号： C23F1/18 , C23F1/02 , H05K3/06
CPC分类号： C23F1/18 , C09K13/06 , H05K3/067 , H05K2203/0789

7. 发明专利

TW201708614A 蝕刻液、補給液以及銅配線的形成方法审中-公开
简体标题：蚀刻液、补给液以及铜配线的形成方法
公开(公告)号：TW201708614A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105119131
申请日：2016-06-17
申请人： MEC股份有限公司 , MEC COMPANY LTD.
发明人：小寺浩史 , KODERA, HIROFUMI , 片山育代 , KATAYAMA, IKUYO , 菱川翔太 , HISHIKAWA, SHOTA
IPC分类号： C23F1/18 , C23F1/02 , H05K3/06
CPC分类号： C23F1/18 , C09K13/06 , H05K3/067 , H05K2203/0789
摘要：本發明提供一種蝕刻液及其補給液、以及銅配線的形成方法，可於不降低銅配線的直線性(銅配線頂部的配線寬度(W2))之情況下抑制側蝕，並且可抑制銅配線底部的配線寬度(W1)之不均。本發明之銅的蝕刻液包含酸、以及選自由脂肪族非環式化合物、脂肪族雜環式化合物、及雜芳香族化合物所組成之群組中的1種以上化合物；前述脂肪族非環式化合物為碳數2~10之飽和脂肪族非環式化合物(A)，僅具有2個以上的氮作為雜原子；前述脂肪族雜環式化合物為包含5員環至7員環之化合物(B)，前述5員環至7員環具有1個以上的氮作為構成環之雜原子；前述雜芳香族化合物為包含6員芳香雜環之化合物(C)，前述6員芳香雜環具有1個以上的氮作為構成環之雜原子。
简体摘要：本发明提供一种蚀刻液及其补给液、以及铜配线的形成方法，可于不降低铜配线的直线性(铜配线顶部的配线宽度(W2))之情况下抑制侧蚀，并且可抑制铜配线底部的配线宽度(W1)之不均。本发明之铜的蚀刻液包含酸、以及选自由脂肪族非环式化合物、脂肪族杂环式化合物、及杂芳香族化合物所组成之群组中的1种以上化合物；前述脂肪族非环式化合物为碳数2~10之饱和脂肪族非环式化合物(A)，仅具有2个以上的氮作为杂原子；前述脂肪族杂环式化合物为包含5员环至7员环之化合物(B)，前述5员环至7员环具有1个以上的氮作为构成环之杂原子；前述杂芳香族化合物为包含6员芳香杂环之化合物(C)，前述6员芳香杂环具有1个以上的氮作为构成环之杂原子。

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