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    • 1. 发明专利
    • 安裝結構體之製造方法及使用於其之片材
    • 安装结构体之制造方法及使用于其之片材
    • TW201921603A
    • 2019-06-01
    • TW107134551
    • 2018-09-28
    • 日商長瀨化成股份有限公司NAGASE CHEMTEX CORPORATION
    • 橋本卓幸HASHIMOTO, TAKAYUKI石橋卓也ISHIBASHI, TAKUYA岡田浩之OKADA, HIROYUKI西村和樹NISHIMURA, KAZUKI
    • H01L23/02
    • 一種安裝結構體之製造方法,具備:準備安裝構件的步驟,該安裝構件具備第1電路構件及搭載於第1電路構件之數個第2電路構件;準備熱硬化性片材的步驟;配置步驟,將片材以面向第2電路構件的方式配置於安裝構件;及密封步驟,將片材對第1電路構件按壓同時加熱片材,藉此來密封第2電路構件,並使片材硬化。其中,第2電路構件具備:基準構件;及第1鄰接構件與第2鄰接構件,其等各自鄰接於基準構件。其中,基準構件與第1鄰接構件之間的分隔距離D1,不同於基準構件與第2鄰接構件之間的分隔距離D2。再者,數個第2電路構件中的至少一個為中空構件,具備形成在其與第1電路構件之間的空間。在密封步驟中,係在維持空間的同時仍可密封數個第2電路構件。
    • 一种安装结构体之制造方法,具备:准备安装构件的步骤,该安装构件具备第1电路构件及搭载于第1电路构件之数个第2电路构件;准备热硬化性片材的步骤;配置步骤,将片材以面向第2电路构件的方式配置于安装构件;及密封步骤,将片材对第1电路构件按压同时加热片材,借此来密封第2电路构件,并使片材硬化。其中,第2电路构件具备:基准构件;及第1邻接构件与第2邻接构件,其等各自邻接于基准构件。其中,基准构件与第1邻接构件之间的分隔距离D1,不同于基准构件与第2邻接构件之间的分隔距离D2。再者,数个第2电路构件中的至少一个为中空构件,具备形成在其与第1电路构件之间的空间。在密封步骤中,系在维持空间的同时仍可密封数个第2电路构件。
    • 3. 发明专利
    • 安裝結構體之製造方法及使用於其之積層片材
    • 安装结构体之制造方法及使用于其之积层片材
    • TW201921612A
    • 2019-06-01
    • TW107134552
    • 2018-09-28
    • 日商長瀨化成股份有限公司NAGASE CHEMTEX CORPORATION
    • 橋本卓幸HASHIMOTO, TAKAYUKI石橋卓也ISHIBASHI, TAKUYA西村和樹NISHIMURA, KAZUKI
    • H01L23/29
    • 本發明係一種安裝結構體之製造方法,具備以下步驟:準備安裝構件之步驟,該安裝構件具有第1電路構件與多數第2電路構件,並且於前述第1電路構件與前述第2電路構件之間形成有空間;準備積層片材之步驟,該積層片材具有第1與第2熱傳導層,前述第1熱傳導層配置於至少一側之最外側;配置步驟,以使前述第1熱傳導層與前述第2電路構件相向之方式將前述積層片材配置於前述安裝構件;及密封步驟,將前述積層片材對前述第1電路構件按壓並同時加熱,一面維持前述空間一面密封前述第2電路構件,使前述積層片材硬化。硬化後之前述第1熱傳導層在常溫下厚度方向之熱傳導率為主面方向之熱傳導率以上;硬化後之前述第2熱傳導層在常溫下主面方向之熱傳導率大於厚度方向之熱傳導率。
    • 本发明系一种安装结构体之制造方法,具备以下步骤:准备安装构件之步骤,该安装构件具有第1电路构件与多数第2电路构件,并且于前述第1电路构件与前述第2电路构件之间形成有空间;准备积层片材之步骤,该积层片材具有第1与第2热传导层,前述第1热传导层配置于至少一侧之最外侧;配置步骤,以使前述第1热传导层与前述第2电路构件相向之方式将前述积层片材配置于前述安装构件;及密封步骤,将前述积层片材对前述第1电路构件按压并同时加热,一面维持前述空间一面密封前述第2电路构件,使前述积层片材硬化。硬化后之前述第1热传导层在常温下厚度方向之热传导率为主面方向之热传导率以上;硬化后之前述第2热传导层在常温下主面方向之热传导率大于厚度方向之热传导率。
    • 4. 发明专利
    • 安裝結構體之製造方法及用於其之片材
    • 安装结构体之制造方法及用于其之片材
    • TW201903977A
    • 2019-01-16
    • TW107111236
    • 2018-03-30
    • 日商長瀨化成股份有限公司NAGASE CHEMTEX CORPORATION
    • 橋本卓幸HASHIMOTO, TAKAYUKI石橋卓也ISHIBASHI, TAKUYA西村和樹NISHIMURA, KAZUKI
    • H01L23/02H01L23/29H01L23/31
    • 本發明課題在於,即使在如高溫高濕偏壓試驗之環境下,也能抑制從片材產生離子性不純物。 其解決手段為一種安裝結構體之製造方法,具備下列步驟:準備安裝構件之步驟,該安裝構件具備第1電路構件及多個搭載在前述第1電路構件的第2電路構件,並且在前述第1電路構件與前述第2電路構件之間形成有空間;準備片材之步驟,該片材含有熱硬化性樹脂、硬化劑、熱可塑性樹脂及無機充填劑;將前述片材以與前述第2電路構件相對向的方式配置在前述安裝構件上之步驟;及密封步驟,將前述片材壓上前述第1電路構件並將前述片材加熱,在維持前述空間的情況下將前述第2電路構件予以密封;並且,前述熱可塑性樹脂中所含氯化物離子、鈉離子與鉀離子之合計以質量基準計為30ppm以下。
    • 本发明课题在于,即使在如高温高湿偏压试验之环境下,也能抑制从片材产生离子性不纯物。 其解决手段为一种安装结构体之制造方法,具备下列步骤:准备安装构件之步骤,该安装构件具备第1电路构件及多个搭载在前述第1电路构件的第2电路构件,并且在前述第1电路构件与前述第2电路构件之间形成有空间;准备片材之步骤,该片材含有热硬化性树脂、硬化剂、热可塑性树脂及无机充填剂;将前述片材以与前述第2电路构件相对向的方式配置在前述安装构件上之步骤;及密封步骤,将前述片材压上前述第1电路构件并将前述片材加热,在维持前述空间的情况下将前述第2电路构件予以密封;并且,前述热可塑性树脂中所含氯化物离子、钠离子与钾离子之合计以质量基准计为30ppm以下。