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    • 4. 发明专利
    • 法布立-培若干涉濾波器
    • 法布立-培若干涉滤波器
    • TW202026604A
    • 2020-07-16
    • TW108135440
    • 2019-10-01
    • 日商濱松赫德尼古斯股份有限公司HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
    • 笠原隆KASAHARA, TAKASHI柴山勝己SHIBAYAMA, KATSUMI廣瀬真樹HIROSE, MASAKI大山泰生OYAMA, HIROKI蔵本有未KURAMOTO, YUMI
    • G01J3/26G02B26/00G02B5/28
    • 本發明之法布立-培若干涉濾波器具備:基板,其具有第1表面;第1積層體,其具有配置於第1表面之第1鏡部;第2積層體,其具有於相對於第1鏡部與基板相反側介隔空隙而與第1鏡部對向之第2鏡部;中間層,其具有於第1積層體與第2積層體之間劃定空隙的劃定部;第1電極,其形成於構成第1積層體之第1層;及第2電極,其形成於構成第2積層體之第2層,並與第1電極對向。中間層進而具有:被覆部,其被覆構成第1積層體之層中包含第1層之複數層的外緣;及延伸部,其沿著平行於第1表面之方向自被覆部向外側延伸。第2積層體以藉由被覆部被覆形成於劃定部與延伸部之間之階差面、及延伸部之外端面之方式延伸。
    • 本发明之法布立-培若干涉滤波器具备:基板,其具有第1表面;第1积层体,其具有配置于第1表面之第1镜部;第2积层体,其具有于相对于第1镜部与基板相反侧介隔空隙而与第1镜部对向之第2镜部;中间层,其具有于第1积层体与第2积层体之间划定空隙的划定部;第1电极,其形成于构成第1积层体之第1层;及第2电极,其形成于构成第2积层体之第2层,并与第1电极对向。中间层进而具有:被覆部,其被覆构成第1积层体之层中包含第1层之复数层的外缘;及延伸部,其沿着平行于第1表面之方向自被覆部向外侧延伸。第2积层体以借由被覆部被覆形成于划定部与延伸部之间之阶差面、及延伸部之外端面之方式延伸。
    • 5. 发明专利
    • 光測量控制程式、光測量系統及光測量方法
    • 光测量控制进程、光测量系统及光测量方法
    • TW201907199A
    • 2019-02-16
    • TW107114623
    • 2018-04-30
    • 日商濱松赫德尼古斯股份有限公司HAMAMATSU PHOTONICS K.K.
    • 笠原隆KASAHARA, TAKASHI柴山勝己SHIBAYAMA, KATSUMI廣瀬真樹HIROSE, MASAKI川合敏光KAWAI, TOSHIMITSU大山泰生OYAMA, HIROKI蔵本有未KURAMOTO, YUMI
    • G02B26/00
    • 本發明之光測量控制程式係於包含法布里-佩洛干涉濾光器及光檢測器之光檢測裝置中,藉由取得自光檢測器輸出之電信號而使電腦執行對成為測量對象之光進行測量之處理的光測量控制程式;上述法布里-佩洛干涉濾光器具有介隔空隙而彼此對向之一對鏡面部,且一對鏡面部間之距離對應於一對鏡面部間產生之電位差而變化;上述光檢測器檢測透過法布里-佩洛干涉濾光器之光;且該光測量控制程式係使電腦作為以下兩者發揮功能:電壓控制部,其於開始電信號之取得前,將一對鏡面部間產生之電位差控制為階段性增加至達到與測量對象之光之波長對應之設定電位差;及信號取得部,其於電壓控制部於一對鏡面部間產生設定電位差之狀態下取得電信號。
    • 本发明之光测量控制进程系于包含法布里-佩洛干涉滤光器及光检测器之光检测设备中,借由取得自光检测器输出之电信号而使电脑运行对成为测量对象之光进行测量之处理的光测量控制进程;上述法布里-佩洛干涉滤光器具有介隔空隙而彼此对向之一对镜面部,且一对镜面部间之距离对应于一对镜面部间产生之电位差而变化;上述光检测器检测透过法布里-佩洛干涉滤光器之光;且该光测量控制进程系使电脑作为以下两者发挥功能:电压控制部,其于开始电信号之取得前,将一对镜面部间产生之电位差控制为阶段性增加至达到与测量对象之光之波长对应之设置电位差;及信号取得部,其于电压控制部于一对镜面部间产生设置电位差之状态下取得电信号。