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1. 发明专利

TWI669293B 咪唑化合物、金屬表面處理液、金屬之表面處理方法及層合體之製造方法有权
简体标题：咪唑化合物、金属表面处理液、金属之表面处理方法及层合体之制造方法
公开(公告)号：TWI669293B
公开(公告)日：2019-08-21
申请号：TW106142408
申请日：2015-08-28
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD. , 日商大賽璐股份有限公司 , DAICEL CORPORATION
发明人：石川達郎 , ISHIKAWA, TATSURO , 野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 大內康秀 , OHUCHI, YASUHIDE , 千坂博樹 , CHISAKA, HIROKI , 塩田大 , SHIOTA, DAI , 前田幸嗣 , MAEDA, YUKITSUGU , 井本文 , IMOTO, TAKAFUMI , 藤田浩平 , FUJITA, KOUHEI , 赤井泰之 , AKAI, YASUYUKI
IPC分类号： C07D233/60 , C23F11/14

2. 发明专利

TWI668512B 敏輻射線性樹脂組成物、圖型製造方法、透明絕緣膜、及顯示裝置有权
简体标题：敏辐射线性树脂组成物、图型制造方法、透明绝缘膜、及显示设备
公开(公告)号：TWI668512B
公开(公告)日：2019-08-11
申请号：TW104126876
申请日：2015-08-18
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：染谷和也 , SOMEYA, KAZUYA , 大內康秀 , OHUCHI, YASUHIDE , 西條秀樹 , SAIJYO, HIDEKI , 野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 引田二郎 , HIKIDA, JIRO
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027 , G02F1/1333

3. 发明专利

TW201829644A 著色劑分散液、感光性樹脂組合物、硬化物、有機EL元件、圖案之形成方法、及感光性樹脂組合物之製造方法审中-公开
简体标题：着色剂分散液、感光性树脂组合物、硬化物、有机EL组件、图案之形成方法、及感光性树脂组合物之制造方法
公开(公告)号：TW201829644A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106136324
申请日：2017-10-23
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：松本直純 , MATSUMOTO, NAOZUMI , 大內康秀 , OHUCHI, YASUHIDE , 石川達郎 , ISHIKAWA, TATSURO , 黒子麻祐美 , KUROKO, MAYUMI , 塩田大 , SHIOTA, DAI
IPC分类号： C09B67/46 , B01F17/54 , G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/032 , C08G63/676 , G03F7/075 , G03F7/20 , G02B5/20 , G02B5/22 , H05B33/02 , H01L51/50
摘要：本發明提供一種著色劑分散液、包含該著色劑分散液之感光性樹脂組合物、該感光性樹脂組合物之硬化物、具備該硬化物之有機EL元件、使用上述感光性樹脂組合物之圖案之形成方法、及使用上述著色劑分散液之感光性樹脂組合物之製造方法；上述著色劑分散液包含經良好分散之顏料，於調配至感光性樹脂組合物中之情形時可獲得能夠形成產生氣體量較少之硬化膜之感光性樹脂組合物。本發明係於含有包含顏料(E1)與分散劑(E2)之著色劑(E)之著色劑分散液中，使用包含特定結構之倍半矽氧烷化合物之分散劑(E2)。
简体摘要：本发明提供一种着色剂分散液、包含该着色剂分散液之感光性树脂组合物、该感光性树脂组合物之硬化物、具备该硬化物之有机EL组件、使用上述感光性树脂组合物之图案之形成方法、及使用上述着色剂分散液之感光性树脂组合物之制造方法；上述着色剂分散液包含经良好分散之颜料，于调配至感光性树脂组合物中之情形时可获得能够形成产生气体量较少之硬化膜之感光性树脂组合物。本发明系于含有包含颜料(E1)与分散剂(E2)之着色剂(E)之着色剂分散液中，使用包含特定结构之倍半硅氧烷化合物之分散剂(E2)。

4. 发明专利

TWI682925B 咪唑化合物、金屬表面處理液、金屬之表面處理方法及層合體之製造方法有权
简体标题：咪唑化合物、金属表面处理液、金属之表面处理方法及层合体之制造方法
公开(公告)号：TWI682925B
公开(公告)日：2020-01-21
申请号：TW104128396
申请日：2015-08-28
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：石川達郎 , ISHIKAWA, TATSURO , 野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 大內康秀 , OHUCHI, YASUHIDE , 千坂博樹 , CHISAKA, HIROKI , 塩田大 , SHIOTA, DAI , 前田幸嗣 , MAEDA, YUKITSUGU , 井本文 , IMOTO, TAKAFUMI , 藤田浩平 , FUJITA, KOUHEI , 赤井泰之 , AKAI, YASUYUKI
IPC分类号： C07D233/60 , C23F11/00 , G03F7/004 , C23C22/00 , G03F7/039 , H05K3/28

5. 发明专利

TW201808913A 咪唑化合物、金屬表面處理液、金屬之表面處理方法及層合體之製造方法审中-公开
简体标题：咪唑化合物、金属表面处理液、金属之表面处理方法及层合体之制造方法
公开(公告)号：TW201808913A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106142408
申请日：2015-08-28
申请人：日商東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：石川達郎 , ISHIKAWA, TATSURO , 野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 大內康秀 , OHUCHI, YASUHIDE , 千坂博樹 , CHISAKA, HIROKI , 塩田大 , SHIOTA, DAI , 前田幸嗣 , MAEDA, YUKITSUGU , 井本文 , IMOTO, TAKAFUMI , 藤田浩平 , FUJITA, KOUHEI , 赤井泰之 , AKAI, YASUYUKI
IPC分类号： C07D233/60 , C23F11/14
CPC分类号： C07D233/60 , C08K5/3445 , C23C22/02 , C23C22/05 , C23F11/00 , G03F7/004 , G03F7/031 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/322 , G03F7/40 , H05K1/09 , H05K3/28 , H05K3/4644 , H05K2201/032
摘要：本發明係提供可供予遷移(migration)或配線表面之氧化之抑制效果優異之表面處理液的新規咪唑化合物，提供含有該咪唑化合物之金屬表面處理液，提供使用該金屬表面處理液之金屬之表面處理方法、及使用該表面處理液之層合體之製造方法。本發明係使用在所定之位置被所定之結構的芳香族基與可具有取代基之咪唑基取代之含有特定之結構之飽和脂肪酸或飽和脂肪酸酯之表面處理液，將金屬進行表面處理。
简体摘要：本发明系提供可供予迁移(migration)或配线表面之氧化之抑制效果优异之表面处理液的新规咪唑化合物，提供含有该咪唑化合物之金属表面处理液，提供使用该金属表面处理液之金属之表面处理方法、及使用该表面处理液之层合体之制造方法。本发明系使用在所定之位置被所定之结构的芳香族基与可具有取代基之咪唑基取代之含有特定之结构之饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯之表面处理液，将金属进行表面处理。

6. 发明专利

TW201624111A 敏輻射線性樹脂組成物、圖型製造方法、透明絕緣膜、及顯示裝置审中-公开
简体标题：敏辐射线性树脂组成物、图型制造方法、透明绝缘膜、及显示设备
公开(公告)号：TW201624111A
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW104126876
申请日：2015-08-18
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：染谷和也 , SOMEYA, KAZUYA , 大內康秀 , OHUCHI, YASUHIDE , 西條秀樹 , SAIJYO, HIDEKI , 野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 引田二郎 , HIKIDA, JIRO
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/038 , H01L21/027 , G02F1/1333
摘要：本發明課題在於提供一種與基板之密接性及光微影特性優良的敏輻射線性樹脂組成物、使用上述敏輻射線性樹脂組成物之圖型製造方法、使用上述敏輻射線性樹脂組成物而得之透明絕緣膜、及具備上述透明絕緣膜之顯示裝置。解決手段為，本發明之敏輻射線性樹脂組成物係：包含從選自由La、Ce、Nd、Gd、Ho、Lu、Hf、及Ta所成之群的至少1種元素的單體、上述元素的氧化物、上述元素的鉗合化合物、上述元素的鹽、以及由上述元素的合金所成之群中選出的1種以上，且平均粒徑為200nm以下的填充材、鹼可溶性樹脂、多官能單體、及光聚合起始劑。上述多官能單體較佳為5官能以上之多官能單體。又，上述多官能單體的含量，相對於上述鹼可溶性樹脂100質量份，較佳為25~55質量份。
简体摘要：本发明课题在于提供一种与基板之密接性及光微影特性优良的敏辐射线性树脂组成物、使用上述敏辐射线性树脂组成物之图型制造方法、使用上述敏辐射线性树脂组成物而得之透明绝缘膜、及具备上述透明绝缘膜之显示设备。解决手段为，本发明之敏辐射线性树脂组成物系：包含从选自由La、Ce、Nd、Gd、Ho、Lu、Hf、及Ta所成之群的至少1种元素的单体、上述元素的氧化物、上述元素的钳合化合物、上述元素的盐、以及由上述元素的合金所成之群中选出的1种以上，且平均粒径为200nm以下的填充材、碱可溶性树脂、多官能单体、及光聚合起始剂。上述多官能单体较佳为5官能以上之多官能单体。又，上述多官能单体的含量，相对于上述碱可溶性树脂100质量份，较佳为25~55质量份。

7. 发明专利

TW201708954A 感光性組成物、圖型形成方法、硬化膜、絕緣膜，及顯示裝置审中-公开
简体标题：感光性组成物、图型形成方法、硬化膜、绝缘膜，及显示设备
公开(公告)号：TW201708954A
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW105114293
申请日：2016-05-09
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：大內康秀 , OHUCHI, YASUHIDE , 染谷和也 , SOMEYA, KAZUYA , 引田二郎 , HIKIDA, JIRO
IPC分类号： G03F7/028 , C07C251/64 , H01L21/027 , H01B3/30 , G09F9/00
摘要：本發明提供一種可賦予透過率及對曝光具有充分之感度的硬化膜的感光性組成物，與使用該感光性組成物的圖型形成方法，與使用該感光性組成物所形成的硬化膜及絕緣膜，及具備該絕緣膜的顯示裝置。一種感光性組成物，其為含有(A)含交聯性基之樹脂、(B)光聚合性單體及(C)光聚合起始劑，前述(C)光聚合起始劑，含有下述式(1)所表示之化合物。 (R1為氫原子、硝基或1價之有機基，R2及R3，各自為鏈狀烷基、環狀烴基，或雜芳基，R2與R3可互相鍵結形成螺環，R4為1價之有機基，R5為，氫原子、可具有取代基之碳原子數1~11之烷基，或可具有取代基之芳基，m為0或1)。
简体摘要：本发明提供一种可赋予透过率及对曝光具有充分之感度的硬化膜的感光性组成物，与使用该感光性组成物的图型形成方法，与使用该感光性组成物所形成的硬化膜及绝缘膜，及具备该绝缘膜的显示设备。一种感光性组成物，其为含有(A)含交联性基之树脂、(B)光聚合性单体及(C)光聚合起始剂，前述(C)光聚合起始剂，含有下述式(1)所表示之化合物。 (R1为氢原子、硝基或1价之有机基，R2及R3，各自为链状烷基、环状烃基，或杂芳基，R2与R3可互相键结形成螺环，R4为1价之有机基，R5为，氢原子、可具有取代基之碳原子数1~11之烷基，或可具有取代基之芳基，m为0或1)。

8. 发明专利

TW201623248A 咪唑化合物、金屬表面處理液、金屬之表面處理方法及層合體之製造方法审中-公开
简体标题：咪唑化合物、金属表面处理液、金属之表面处理方法及层合体之制造方法
公开(公告)号：TW201623248A
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW104128396
申请日：2015-08-28
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：石川達郎 , ISHIKAWA, TATSURO , 野田国宏 , NODA, KUNIHIRO , 大內康秀 , OHUCHI, YASUHIDE , 千坂博樹 , CHISAKA, HIROKI , 塩田大 , SHIOTA, DAI , 前田幸嗣 , MAEDA, YUKITSUGU , 井本文 , IMOTO, TAKAFUMI , 藤田浩平 , FUJITA, KOUHEI , 赤井泰之 , AKAI, YASUYUKI
IPC分类号： C07D233/60 , C23F11/00 , G03F7/004 , C23C22/00 , G03F7/039 , H05K3/28
CPC分类号： C07D233/60 , C08K5/3445 , C23C22/02 , C23C22/05 , C23F11/00 , G03F7/004 , G03F7/031 , G03F7/038 , G03F7/039 , G03F7/162 , G03F7/168 , G03F7/20 , G03F7/322 , G03F7/40 , H05K1/09 , H05K3/28 , H05K3/4644 , H05K2201/032
摘要：本發明係提供可供予遷移(migration)或配線表面之氧化之抑制效果優異之表面處理液的新規咪唑化合物，提供含有該咪唑化合物之金屬表面處理液，提供使用該金屬表面處理液之金屬之表面處理方法、及使用該表面處理液之層合體之製造方法。本發明係使用在所定之位置被所定之結構的芳香族基與可具有取代基之咪唑基取代之含有特定之結構之飽和脂肪酸或飽和脂肪酸酯之表面處理液，將金屬進行表面處理。
简体摘要：本发明系提供可供予迁移(migration)或配线表面之氧化之抑制效果优异之表面处理液的新规咪唑化合物，提供含有该咪唑化合物之金属表面处理液，提供使用该金属表面处理液之金属之表面处理方法、及使用该表面处理液之层合体之制造方法。本发明系使用在所定之位置被所定之结构的芳香族基与可具有取代基之咪唑基取代之含有特定之结构之饱和脂肪酸或饱和脂肪酸酯之表面处理液，将金属进行表面处理。

9. 发明专利

TW201715307A 感光性組合物、圖案形成方法、硬化物、及顯示裝置审中-公开
简体标题：感光性组合物、图案形成方法、硬化物、及显示设备
公开(公告)号：TW201715307A
公开(公告)日：2017-05-01
申请号：TW105127562
申请日：2016-08-26
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：大內康秀 , OHUCHI, YASUHIDE , 染谷和也 , SOMEYA, KAZUYA , 引田二郎 , HIKIDA, JIRO
IPC分类号： G03F7/031 , C07C291/04 , C08F2/46 , G03F7/038 , G03F7/20 , G02F1/1333 , G02F1/1339
摘要：本發明提供一種對於曝光之感度充分，可藉由硬化而提供透過率充分之硬化物的感光性組合物、使用該感光性組合物之圖案形成方法、使用該感光性組合物所形成之硬化物、具備該硬化物之顯示裝置。本發明之感光性組合物包含式(1)所表示之光聚合起始劑(A1)、及具有鍵結有硝基之芳香環骨架的光聚合起始劑(A2)。式(1)中，R1為氫原子或1價有機基，R2及R3分別為可具有取代基之鏈狀烷基、可具有取代基之環狀有機基、或氫原子，R2與R3亦可相互鍵結而形成環，R4為具有特定環狀結構之有機基，R5為氫原子、可具有取代基之碳原子數1～11之烷基、或可具有取代基之芳基，n為0～4之整數。其中，光聚合起始劑(A1)不具有硝基。
简体摘要：本发明提供一种对于曝光之感度充分，可借由硬化而提供透过率充分之硬化物的感光性组合物、使用该感光性组合物之图案形成方法、使用该感光性组合物所形成之硬化物、具备该硬化物之显示设备。本发明之感光性组合物包含式(1)所表示之光聚合起始剂(A1)、及具有键结有硝基之芳香环骨架的光聚合起始剂(A2)。式(1)中，R1为氢原子或1价有机基，R2及R3分别为可具有取代基之链状烷基、可具有取代基之环状有机基、或氢原子，R2与R3亦可相互键结而形成环，R4为具有特定环状结构之有机基，R5为氢原子、可具有取代基之碳原子数1～11之烷基、或可具有取代基之芳基，n为0～4之整数。其中，光聚合起始剂(A1)不具有硝基。

10. 发明专利

TW201348871A 絕緣膜形成用感光性樹脂組成物、絕緣膜、及絕緣膜之形成方法审中-公开
简体标题：绝缘膜形成用感光性树脂组成物、绝缘膜、及绝缘膜之形成方法
公开(公告)号：TW201348871A
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW102102885
申请日：2013-01-25
申请人：東京應化工業股份有限公司 , TOKYO OHKA KOGYO CO., LTD.
发明人：大內康秀 , OHUCHI, YASUHIDE , 染谷和也 , SOMEYA, KAZUYA
IPC分类号： G03F7/028 , H01L21/027 , H01L21/312
摘要：本發明之課題為提供一種絕緣膜形成用感光性樹脂組成物，其可形成絕緣性及耐藥品性優異之絕緣膜，且形成絕緣膜之圖型時的曝光裕度廣。又，提供使用前述絕緣膜形成用感光性樹脂組成物所形成之絕緣膜，以及前述使用絕緣膜形成用感光性樹脂組成物之絕緣膜之形成方法。本發明之解決手段為，於包含(A)鹼可溶性樹脂、(B)光聚合性單體、及(C)光聚合起始劑之感光性樹脂組成物中，調配特定構造之化合物，且使用含有包含特定量的環氧基之不飽和化合物由來的構成單位之樹脂作為(A)鹼可溶性樹脂。
简体摘要：本发明之课题为提供一种绝缘膜形成用感光性树脂组成物，其可形成绝缘性及耐药品性优异之绝缘膜，且形成绝缘膜之图型时的曝光裕度广。又，提供使用前述绝缘膜形成用感光性树脂组成物所形成之绝缘膜，以及前述使用绝缘膜形成用感光性树脂组成物之绝缘膜之形成方法。本发明之解决手段为，于包含(A)碱可溶性树脂、(B)光聚合性单体、及(C)光聚合起始剂之感光性树脂组成物中，调配特定构造之化合物，且使用含有包含特定量的环氧基之不饱和化合物由来的构成单位之树脂作为(A)碱可溶性树脂。

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