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1. 发明专利

TW201840885A 成膜方法审中-公开
公开(公告)号：TW201840885A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107105460
申请日：2018-02-14
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：成嶋健索 , NARUSHIMA, KENSAKU , 山口克昌 , YAMAGUCHI, KATSUMASA
IPC分类号： C23C16/14 , C23C16/455
摘要：本發明提供一種可抑制下層膜的蝕刻，同時進行金屬膜的成膜之成膜方法。一實施型態之成膜方法係對處理容器內所配置之基板，複數次地交互供應金屬氯化物氣體以及會將金屬氯化物氣體還原的還原氣體來成膜出金屬膜之成膜方法，具有：成膜工序，係在重複複數次該金屬氯化物氣體的供應中，包含有會使每1次所供應之該金屬氯化物氣體的流量慢慢地增加之期間。
简体摘要：本发明提供一种可抑制下层膜的蚀刻，同时进行金属膜的成膜之成膜方法。一实施型态之成膜方法系对处理容器内所配置之基板，复数次地交互供应金属氯化物气体以及会将金属氯化物气体还原的还原气体来成膜出金属膜之成膜方法，具有：成膜工序，系在重复复数次该金属氯化物气体的供应中，包含有会使每1次所供应之该金属氯化物气体的流量慢慢地增加之期间。

2. 发明专利

TW201843341A 氣體供給裝置、氣體供給方法及成膜方法审中-公开
简体标题：气体供给设备、气体供给方法及成膜方法
公开(公告)号：TW201843341A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107106480
申请日：2018-02-27
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：山口克昌 , YAMAGUCHI, KATSUMASA , 成嶋健索 , NARUSHIMA, KENSAKU , 八木宏憲 , YAGI, HIRONORI , 關戶幸一 , SEKIDO, KOUICHI
IPC分类号： C23C16/455 , C23C16/52 , C23C16/14
摘要：提供一種可在短時間使程序開始時之原料氣體的流量穩定化的氣體供給裝置。一實施形態的氣體供給裝置，係讓原料容器內之原料氣化，而與載體氣體一同地朝處理容器內供給原料氣體的氣體供給裝置，具備有：緩衝槽，係設置於該原料容器與該處理容器之間；排氣管線，係可排氣地設置於該緩衝槽內及該原料容器內；記憶部，係記憶在將該原料氣體朝該處理容器內供給而進行處理時之該緩衝槽內之壓力；以及控制部，係在將該原料氣體朝該處理容器內供給前，以使該緩衝槽內之壓力成為該記憶部所記憶之壓力的方式來控制該排氣管線所排氣之流量以及填充至該緩衝槽的該原料氣體及該載體氣體之流量。
简体摘要：提供一种可在短时间使进程开始时之原料气体的流量稳定化的气体供给设备。一实施形态的气体供给设备，系让原料容器内之原料气化，而与载体气体一同地朝处理容器内供给原料气体的气体供给设备，具备有：缓冲槽，系设置于该原料容器与该处理容器之间；排气管线，系可排气地设置于该缓冲槽内及该原料容器内；记忆部，系记忆在将该原料气体朝该处理容器内供给而进行处理时之该缓冲槽内之压力；以及控制部，系在将该原料气体朝该处理容器内供给前，以使该缓冲槽内之压力成为该记忆部所记忆之压力的方式来控制该排气管线所排气之流量以及填充至该缓冲槽的该原料气体及该载体气体之流量。

3. 发明专利

TW201920754A 氣體供給裝置及成膜裝置审中-公开
简体标题：气体供给设备及成膜设备
公开(公告)号：TW201920754A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107130251
申请日：2018-08-30
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：八木宏憲 , YAGI, HIRONORI , 掛川崇 , KAKEGAWA, TAKASHI , 山口克昌 , YAMAGUCHI, KATSUMASA , 古屋雄一 , FURUYA, YUICHI , 孟賢男 , MO, KENNAN
IPC分类号： C23C16/455
摘要： [課題] 提供一種可使製程開始時之原料氣體的流量在短時間內穩定化之氣體供給裝置。 [解決手段] 一實施形態之氣體供給裝置，係可將原料氣體經由緩衝槽及第1高速開關閥間歇地供給至處理容器內，該氣體供給裝置，其特徵係，具有：抽空管線，被連接於前述緩衝槽之二次側，可對前述緩衝槽內進行排氣；及第2高速開關閥，被設置於前述抽空管線。
简体摘要： [课题] 提供一种可使制程开始时之原料气体的流量在短时间内稳定化之气体供给设备。 [解决手段] 一实施形态之气体供给设备，系可将原料气体经由缓冲槽及第1高速开关阀间歇地供给至处理容器内，该气体供给设备，其特征系，具有：抽空管线，被连接于前述缓冲槽之二次侧，可对前述缓冲槽内进行排气；及第2高速开关阀，被设置于前述抽空管线。

4. 发明专利

TWI686844B 基板處理方法及基板處理裝置有权
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TWI686844B
公开(公告)日：2020-03-01
申请号：TW105107031
申请日：2016-03-08
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：東条利洋 , TOJO, TOSHIHIRO , 山口克昌 , YAMAGUCHI, KATSUMASA , 宇津木康史 , UTSUGI, YASUFUMI
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/3065

5. 发明专利

TW201843755A 氣體供應裝置、氣體供應方法及成膜方法审中-公开
简体标题：气体供应设备、气体供应方法及成膜方法
公开(公告)号：TW201843755A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107106481
申请日：2018-02-27
申请人：日商東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：山口克昌 , YAMAGUCHI, KATSUMASA , 成嶋健索 , NARUSHIMA, KENSAKU , 八木宏憲 , YAGI, HIRONORI
IPC分类号： H01L21/67 , C23C16/455 , H01L21/285 , H01L21/31 , B05B13/00
摘要：本發明係提供一種可在成膜原料槽的更換後，容易地以穩定狀態來供應原料氣體之氣體供應裝置。一實施型態之氣體供應裝置係使原料容器內的原料氣化，來連同載置氣體一起朝處理容器內供應原料氣體之氣體供應裝置，具備有：質流控制器，係連接於該原料容器的上游側，來控制該載置氣體的流量；流量計，係連接於該原料容器的下游側；以及控制部，係以下述方式來進行控制：在該原料容器的更換後，直到該流量計針對藉由該質流控制器而被控制為一定流量之該載置氣體的檢測值達穩定之前不會朝該處理容器內供應該原料氣體。
简体摘要：本发明系提供一种可在成膜原料槽的更换后，容易地以稳定状态来供应原料气体之气体供应设备。一实施型态之气体供应设备系使原料容器内的原料气化，来连同载置气体一起朝处理容器内供应原料气体之气体供应设备，具备有：质流控制器，系连接于该原料容器的上游侧，来控制该载置气体的流量；流量计，系连接于该原料容器的下游侧；以及控制部，系以下述方式来进行控制：在该原料容器的更换后，直到该流量计针对借由该质流控制器而被控制为一定流量之该载置气体的检测值达稳定之前不会朝该处理容器内供应该原料气体。

6. 发明专利

TW201705194A 基板處理方法及基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理方法及基板处理设备
公开(公告)号：TW201705194A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105107031
申请日：2016-03-08
申请人：東京威力科創股份有限公司 , TOKYO ELECTRON LIMITED
发明人：東条利洋 , TOJO, TOSHIHIRO , 山口克昌 , YAMAGUCHI, KATSUMASA , 宇津木康史 , UTSUGI, YASUFUMI
IPC分类号： H01L21/02 , H01L21/3065
摘要：提供一種可正確地檢測基板從載置台的剝離之基板處理方法。基板處理裝置(11)，係具備有：腔室 (20)，收容基板(G)，藉由電漿對該基板(G)施予電漿蝕刻；載置台(21)，設置於該腔室(20)的內部，載置基板(G)；靜電吸附電極(27)，內建於該載置台(21)，使基板(G)靜電吸附於載置台(21)；直流電源(28)，將直流電壓施加至該靜電吸附電極(27)；電漿生成用高頻電源(41)，供給用以生成電漿的高頻電力；及直流電壓監視器(46)，監視被施加至靜電吸附電極(27)的直流電壓，在藉由直流電壓監視器(46)所監視到的直流電壓超過預定閾值後時，電漿生成用高頻電源(41)，係停止高頻電力的供給。
简体摘要：提供一种可正确地检测基板从载置台的剥离之基板处理方法。基板处理设备(11)，系具备有：腔室 (20)，收容基板(G)，借由等离子对该基板(G)施予等离子蚀刻；载置台(21)，设置于该腔室(20)的内部，载置基板(G)；静电吸附电极(27)，内置于该载置台(21)，使基板(G)静电吸附于载置台(21)；直流电源(28)，将直流电压施加至该静电吸附电极(27)；等离子生成用高频电源(41)，供给用以生成等离子的高频电力；及直流电压监视器(46)，监视被施加至静电吸附电极(27)的直流电压，在借由直流电压监视器(46)所监视到的直流电压超过预定阈值后时，等离子生成用高频电源(41)，系停止高频电力的供给。

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