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1. 发明专利

TWI638988B 帶電粒子束裝置有权
简体标题：带电粒子束设备
公开(公告)号：TWI638988B
公开(公告)日：2018-10-21
申请号：TW103128094
申请日：2014-08-15
申请人：日商日立高新技術科學股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORPORATION
发明人：満欣 , MAN, XIN , 麻畑達也 , ASAHATA, TATSUYA , 上本敦 , UEMOTO, ATSUSHI
IPC分类号： G01N1/32 , H01J37/30

2. 发明专利

TWI636480B 帶電粒子束裝置、帶電粒子束裝置之控制方法及剖面加工觀察裝置有权
简体标题：带电粒子束设备、带电粒子束设备之控制方法及剖面加工观察设备
公开(公告)号：TWI636480B
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：TW104101176
申请日：2015-01-14
申请人：日商日立高新技術科學股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORPORATION
发明人：上本敦 , UEMOTO, ATSUSHI , MAN, XIN , 麻畑達也 , ASAHATA, TATSUYA
IPC分类号： H01J37/147 , H01J37/26

3. 发明专利

TW202004823A 帶電粒子束裝置审中-公开
简体标题：带电粒子束设备
公开(公告)号：TW202004823A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108106987
申请日：2019-03-04
申请人：日商日立高新技術科學股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORPORATION
发明人：鈴木将人 , SUZUKI, MASATO , 富松聡 , TOMIMATSU, SATOSHI , 佐藤誠 , SATO, MAKOTO , 麻畑達也 , ASAHATA, TATSUYA
IPC分类号： H01J37/20
摘要：自動反覆進行摘出試料片而使其移設於試料片保持器的動作，其中，該試料片是藉由離子束所致之試料的加工而形成的。帶電粒子束裝置具有電腦，其實施如下控制：不使令試料片固定在試料保持器上的針旋轉，而從帶電粒子束照射光學系統使帶電粒子束照射至附著於針的沉積膜。
简体摘要：自动反复进行摘出试料片而使其移设于试料片保持器的动作，其中，该试料片是借由离子束所致之试料的加工而形成的。带电粒子束设备具有电脑，其实施如下控制：不使令试料片固定在试料保持器上的针旋转，而从带电粒子束照射光学系统使带电粒子束照射至附着于针的沉积膜。

4. 发明专利

TWI642082B 聚焦離子束裝置有权
简体标题：聚焦离子束设备
公开(公告)号：TWI642082B
公开(公告)日：2018-11-21
申请号：TW104107906
申请日：2015-03-12
申请人：日商日立高新技術科學股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORPORATION
发明人：麻畑達也 , ASAHATA, TATSUYA , 鈴木秀和 , SUZUKI, HIDEKAZU , 佐藤誠 , SATO, MAKOTO
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/22 , H01J37/244

5. 发明专利

TWI639177B 帶電粒子束裝置有权
简体标题：带电粒子束设备
公开(公告)号：TWI639177B
公开(公告)日：2018-10-21
申请号：TW104107907
申请日：2015-03-12
申请人：日商日立高新技術科學股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORPORATION
发明人：佐藤誠 , SATO, MAKOTO , 麻畑達也 , ASAHATA, TATSUYA , 清原正寛 , KIYOHARA, MASAHIRO , 中谷郁子 , NAKATANI, IKUKO
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/22 , H01J37/24

6. 发明专利

TW201841112A 攜帶式資訊終端、射束照射系統、及程式审中-公开
简体标题：携带式信息终端、射束照射系统、及进程
公开(公告)号：TW201841112A
公开(公告)日：2018-11-16
申请号：TW107107260
申请日：2018-03-05
申请人：日商日立高新技術科學股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORPORATION
发明人：麻生拓篤 , ASO, TAKUMA , 上本敦 , UEMOTO, ATSUSHI , 麻畑達也 , ASAHATA, TATSUYA , 鈴木人 , SUZUKI, MASATO
IPC分类号： G06F3/048 , H01J37/244 , H01J37/28
摘要： [課題]提供一種攜帶式資訊終端，能夠在期望的位置進行第1操作項目的操作。　　[解決手段]一種攜帶式資訊終端，其係與對試樣照射帶電粒子束來對試樣進行處理的帶電粒子束照射裝置為不同體；其特徵為：　　具備：顯示控制部，其係使顯示部顯示包含GUI (Graphical User Interface)的影像，該GUI能夠根據來自使用者的操作來操作第1操作項目，該第1操作項目是能夠在帶電粒子束照射裝置進行操作的多個操作項目中1個以上的一部分操作項目。
简体摘要： [课题]提供一种携带式信息终端，能够在期望的位置进行第1操作项目的操作。　　[解决手段]一种携带式信息终端，其系与对试样照射带电粒子束来对试样进行处理的带电粒子束照射设备为不同体；其特征为：　　具备：显示控制部，其系使显示部显示包含GUI (Graphical User Interface)的影像，该GUI能够根据来自用户的操作来操作第1操作项目，该第1操作项目是能够在带电粒子束照射设备进行操作的多个操作项目中1个以上的一部分操作项目。

7. 发明专利

TWI697934B 微量樣品台及其製造方法有权
简体标题：微量样品台及其制造方法
公开(公告)号：TWI697934B
公开(公告)日：2020-07-01
申请号：TW105112149
申请日：2016-04-19
申请人：日商日立高新技術科學股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORPORATION
发明人：麻畑達也 , ASAHATA, TATSUYA , 森昭登 , MORI, AKITO , 杠明日美 , YUZURIHA, ASUMI
IPC分类号： H01J37/20

8. 发明专利

TWI666675B 帶電粒子束裝置有权
简体标题：带电粒子束设备
公开(公告)号：TWI666675B
公开(公告)日：2019-07-21
申请号：TW104128140
申请日：2015-08-27
申请人：日商日立高新技術科學股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORPORATION
发明人：冨松聡 , TOMIMATSU, SATOSHI , 佐藤誠 , SATO, MAKOTO , 上本敦 , UEMOTO, ATSUSHI , 麻畑達也 , ASAHATA, TATSUYA , 山本洋 , YAMAMOTO, YO
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/317

9. 发明专利

TWI664658B 自動試料製作裝置有权
简体标题：自动试料制作设备
公开(公告)号：TWI664658B
公开(公告)日：2019-07-01
申请号：TW104120950
申请日：2015-06-29
申请人：日商日立高新技術科學股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORPORATION
发明人：上本敦 , UEMOTO, ATSUSHI , 麻畑達也 , ASAHATA, TATSUYA , 佐藤誠 , SATO, MAKOTO , 山本洋 , YAMAMOTO, YO
IPC分类号： H01J37/26 , G01N1/28

10. 发明专利

TW201824331A 複合光束裝置审中-公开
简体标题：复合光束设备
公开(公告)号：TW201824331A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106125457
申请日：2017-07-28
申请人：日商日立高新技術科學股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECH SCIENCE CORPORATION
发明人：麻畑達也 , ASAHATA, TATSUYA
IPC分类号： H01J37/317 , H01J37/28 , H01J37/30 , H01J37/10
摘要：本發明提供一種複合光束裝置，其在利用集束離子束對試樣進行截面加工之後利用其他光束對截面進行精加工時，能夠抑制來自電子束鏡筒的電場或磁場的洩漏所造成的影響或充電所造成的影響。本發明之複合光束裝置（100）具有：電子束鏡筒（10），其用於對試樣（200）照射電子束（10A）；集束離子束鏡筒（20），其用於對試樣照射集束離子束（20A）而形成截面；以及中性粒子束鏡筒（30），其加速電壓被設定得比集束離子束鏡筒低，用於對試樣照射中性粒子束（30A）而對截面進行精加工，電子束鏡筒、集束離子束鏡筒以及中性粒子束鏡筒被配置成各自的各照射光束在照射點P上交叉。
简体摘要：本发明提供一种复合光束设备，其在利用集束离子束对试样进行截面加工之后利用其他光束对截面进行精加工时，能够抑制来自电子束镜筒的电场或磁场的泄漏所造成的影响或充电所造成的影响。本发明之复合光束设备（100）具有：电子束镜筒（10），其用于对试样（200）照射电子束（10A）；集束离子束镜筒（20），其用于对试样照射集束离子束（20A）而形成截面；以及中性粒子束镜筒（30），其加速电压被设置得比集束离子束镜筒低，用于对试样照射中性粒子束（30A）而对截面进行精加工，电子束镜筒、集束离子束镜筒以及中性粒子束镜筒被配置成各自的各照射光束在照射点P上交叉。

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