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1. 发明专利

TW202018758A 電漿處理裝置审中-公开
简体标题：等离子处理设备
公开(公告)号：TW202018758A
公开(公告)日：2020-05-16
申请号：TW108133771
申请日：2019-09-19
申请人：日商日立全球先端科技股份有限公司 , HITACHI HIGH-TECHNOLOGIES CORPORATION
发明人：磯崎真一 , ISOZAKI, MASAKAZU , 橋本尊久 , HASHIMOTO, TAKAHISA
IPC分类号： H01J37/32 , H01J37/02
摘要： [課題] 提供將良率、處理的效率提升的電漿處理裝置。 [解決手段] 一種電漿處理裝置，具備形成電漿的真空腔室、可從此卸除的內側腔室、配置於內側腔室內的樣品台、被配置於內側腔室內並被環狀地配置於樣品台的下方的周圍的樣品台環體基底、在真空腔室與內側腔室之間的空間與樣品台環體基底連結並將樣品台吊掛而從上方支撐的吊樑、真空腔室的內側被氣密地密封的狀態下，內側腔室被載於樣品台環體基底上而其內側被氣密地密封且被從真空腔室外部氣密地密封，吊樑之上部被保持為相對於構成真空腔室上部而覆蓋內部的樣品台底板可上下方向移動，在該吊樑的SUS製之上部構材與樣品台底板之間被夾住的導電連接器。
简体摘要： [课题] 提供将良率、处理的效率提升的等离子处理设备。 [解决手段] 一种等离子处理设备，具备形成等离子的真空腔室、可从此卸除的内侧腔室、配置于内侧腔室内的样品台、被配置于内侧腔室内并被环状地配置于样品台的下方的周围的样品台环体基底、在真空腔室与内侧腔室之间的空间与样品台环体基底链接并将样品台吊挂而从上方支撑的吊梁、真空腔室的内侧被气密地密封的状态下，内侧腔室被载于样品台环体基底上而其内侧被气密地密封且被从真空腔室外部气密地密封，吊梁之上部被保持为相对于构成真空腔室上部而覆盖内部的样品台底板可上下方向移动，在该吊梁的SUS制之上部构材与样品台底板之间被夹住的导电连接器。

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