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1. 发明专利

TW201829156A 附樹脂帶之玻璃薄膜之製造方法及玻璃薄膜之製造方法审中-公开
简体标题：附树脂带之玻璃薄膜之制造方法及玻璃薄膜之制造方法
公开(公告)号：TW201829156A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106136542
申请日：2017-10-24
申请人：日商日東電工股份有限公司 , NITTO DENKO CORPORATION , 日商日本電氣硝子股份有限公司 , NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD.
发明人：村重毅 , MURASHIGE, TAKESHI , 稻垣淳一 , INAGAKI, JUNICHI , 細川和人 , HOSOKAWA, KAZUHITO , 仲井宏太 , NAKAI, KOTA , 菅野敏廣 , KANNO, TOSHIHIRO , 長谷川義德 , HASEGAWA, YOSHINORI , 鑑繼薫 , MITSUGI, KAORU , 猪飼直弘 , IKAI, NAOHIRO , 森弘樹 , MORI, HIROKI , 桐畑洋平 , KIRIHATA, YOHEI
IPC分类号： B29C65/48 , B65H39/16 , B65D85/672 , B65D57/00 , B32B17/10 , C03B17/06 , C03B33/02 , C03C17/32
摘要：本發明提供一種能防止皺痕所致之裂紋延伸於未然、減輕耳部去除步驟之負擔的同時又可穩定製造玻璃薄膜之中間物的附樹脂帶之玻璃薄膜之方法。一種附樹脂帶之玻璃薄膜之製造方法，其包含下列步驟：成形步驟，係從熔融玻璃連續成形一長形且於寬度方向兩端部具有耳部的附耳部之玻璃薄膜，前述附耳部之玻璃薄膜具有前述耳部及有效部，該有效部形成於前述附耳部之玻璃薄膜的寬度方向中央部；徐冷步驟，係徐冷前述附耳部之玻璃薄膜；樹脂帶形成步驟，係分別自前述耳部隔一預定距離並沿前述附耳部之玻璃薄膜的長度方向，於前述耳部附近連續形成樹脂帶；及耳部去除步驟，係在前述耳部與前述樹脂帶之間或前述樹脂帶內之預定寬度方向位置上，自前述附耳部之玻璃薄膜連續去除前述耳部而製成附樹脂帶之玻璃薄膜。
简体摘要：本发明提供一种能防止皱痕所致之裂纹延伸于未然、减轻耳部去除步骤之负担的同时又可稳定制造玻璃薄膜之中间物的附树脂带之玻璃薄膜之方法。一种附树脂带之玻璃薄膜之制造方法，其包含下列步骤：成形步骤，系从熔融玻璃连续成形一长形且于宽度方向两端部具有耳部的附耳部之玻璃薄膜，前述附耳部之玻璃薄膜具有前述耳部及有效部，该有效部形成于前述附耳部之玻璃薄膜的宽度方向中央部；徐冷步骤，系徐冷前述附耳部之玻璃薄膜；树脂带形成步骤，系分别自前述耳部隔一预定距离并沿前述附耳部之玻璃薄膜的长度方向，于前述耳部附近连续形成树脂带；及耳部去除步骤，系在前述耳部与前述树脂带之间或前述树脂带内之预定宽度方向位置上，自前述附耳部之玻璃薄膜连续去除前述耳部而制成附树脂带之玻璃薄膜。

2. 发明专利

TWI472500B 摻雜劑源有权
简体标题：掺杂剂源
公开(公告)号：TWI472500B
公开(公告)日：2015-02-11
申请号：TW102110206
申请日：2008-11-04
申请人：日本電氣硝子股份有限公司 , NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD.
发明人：馬屋原芳夫 , UMAYAHARA, YOSHIO , 鈴木良太 , SUZUKI, RYOTA , 西川欣克 , NISHIKAWA, YOSHIKATSU , 池邊勝 , IKEBE, MASARU , 森弘樹 , MORI, HIROKI , 長谷川義德 , HASEGAWA, YOSHINORI
IPC分类号： C03C3/064 , C03C3/091 , C03C10/00 , C04B35/00 , H01L21/22
CPC分类号： C03B19/06 , C03C3/064 , C03C3/091 , C03C10/0054 , C03C12/00 , Y02P40/57

4. 发明专利

TWI525054B 玻璃捲以及玻璃捲處理方法有权
简体标题：玻璃卷以及玻璃卷处理方法
公开(公告)号：TWI525054B
公开(公告)日：2016-03-11
申请号：TW098133238
申请日：2009-09-30
申请人：日本電氣硝子股份有限公司 , NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD.
发明人：寺西妥夫 , TERANISHI, YASUO , 鑑繼薰 , MITSUGI, KAORU , 長谷川義德 , HASEGAWA, YOSHINORI , 江田道治 , ETA, MICHIHARU
IPC分类号： C03B35/00
CPC分类号： B65H20/00 , B32B17/064 , B65H16/00 , B65H18/00 , B65H2301/414 , B65H2301/41427 , C03B17/06

5. 发明专利

TWI589509B 片捲繞體及片狀連結體有权
简体标题：片卷绕体及片状链接体
公开(公告)号：TWI589509B
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW100125139
申请日：2011-07-15
申请人：日本電氣硝子股份有限公司 , NIPPON ELECTRIC GLASS CO. LTD.
发明人：長谷川義德 , HASEGAWA, YOSHINORI , 安達弘 , ADACHI, HIROSHI , 森弘樹 , MORI, HIROKI , 鑑繼薰 , MITSUGI, KAORU , 豬飼直弘 , IKAI, NAOHIRO
IPC分类号： B65H18/00 , B65D85/672
CPC分类号： B65H21/00 , B65H2301/46325 , Y10T403/76 , Y10T428/19 , Y10T428/192 , Y10T428/197

6. 发明专利

TWI576295B 玻璃卷的製造方法與玻璃卷有权
简体标题：玻璃卷的制造方法与玻璃卷
公开(公告)号：TWI576295B
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW101122915
申请日：2012-06-27
申请人：日本電氣硝子股份有限公司 , NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD.
发明人：鑑繼薰 , MITSUGI, KAORU , 梅村博通 , UMEMURA, HIROMICHI , 江田道治 , ETA, MICHIHARU , 寺西妥夫 , TERANISHI, YASUO , 長谷川義德 , HASEGAWA, YOSHINORI , 森浩一 , MORI, KOICHI , 森弘樹 , MORI, HIROKI
IPC分类号： B65D85/672 , B65D81/05 , B32B17/06 , C03B17/06
CPC分类号： B65H18/10 , B65H2301/4127 , B65H2301/4148 , B65H2801/61

7. 发明专利

TW201305029A 玻璃卷的製造方法與玻璃卷审中-公开
简体标题：玻璃卷的制造方法与玻璃卷
公开(公告)号：TW201305029A
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW101122915
申请日：2012-06-27
申请人：日本電氣硝子股份有限公司 , NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD.
发明人：鑑繼薰 , MITSUGI, KAORU , 梅村博通 , UMEMURA, HIROMICHI , 江田道治 , ETA, MICHIHARU , 寺西妥夫 , TERANISHI, YASUO , 長谷川義德 , HASEGAWA, YOSHINORI , 森浩一 , MORI, KOICHI , 森弘樹 , MORI, HIROKI
IPC分类号： B65D85/672 , B65D81/05 , B32B17/06 , C03B17/06
CPC分类号： B65H18/10 , B65H2301/4127 , B65H2301/4148 , B65H2801/61
摘要：本發明的玻璃卷的製造方法包括：成形步驟S1，一邊藉由下拉法連續成形玻璃膜G一邊搬送；臨時捲繞步驟S3，在成形步驟S1的搬送路徑的下游端，將保護膜F1重疊於玻璃膜G上並捲繞成卷狀，從而製造原料玻璃卷14；以及正式捲繞步驟S4，一邊從原料玻璃卷14中捲出玻璃膜G一邊向下游側搬送，並且，在搬送路徑的下游端，將保護膜F2重疊於玻璃膜G上並重新捲繞成卷狀，從而製造玻璃卷16。而且，使正式捲繞步驟S4中作用於玻璃膜G的捲繞方向的張力比臨時捲繞步驟S3中作用於玻璃膜G的捲繞方向的張力大。
简体摘要：本发明的玻璃卷的制造方法包括：成形步骤S1，一边借由下拉法连续成形玻璃膜G一边搬送；临时卷绕步骤S3，在成形步骤S1的搬送路径的下游端，将保护膜F1重叠于玻璃膜G上并卷绕成卷状，从而制造原料玻璃卷14；以及正式卷绕步骤S4，一边从原料玻璃卷14中卷出玻璃膜G一边向下游侧搬送，并且，在搬送路径的下游端，将保护膜F2重叠于玻璃膜G上并重新卷绕成卷状，从而制造玻璃卷16。而且，使正式卷绕步骤S4中作用于玻璃膜G的卷绕方向的张力比临时卷绕步骤S3中作用于玻璃膜G的卷绕方向的张力大。

8. 发明专利

TWI405739B 摻雜劑源及其製造方法失效
简体标题：掺杂剂源及其制造方法
公开(公告)号：TWI405739B
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：TW097142480
申请日：2008-11-04
申请人：日本電氣硝子股份有限公司 , NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD.
发明人：馬屋原芳夫 , UMAYAHARA, YOSHIO , 鈴木良太 , SUZUKI, RYOTA , 西川欣克 , NISHIKAWA, YOSHIKATSU , 池邊勝 , IKEBE, MASARU , 森弘樹 , MORI, HIROKI , 長谷川義德 , HASEGAWA, YOSHINORI
IPC分类号： C03C3/064 , C03C3/091 , C03C10/00 , C04B35/00 , H01L21/22
CPC分类号： C03B19/06 , C03C3/064 , C03C3/091 , C03C10/0054 , C03C12/00 , Y02P40/57

9. 发明专利

TW201329012A 摻雜劑源审中-公开
简体标题：掺杂剂源
公开(公告)号：TW201329012A
公开(公告)日：2013-07-16
申请号：TW102110206
申请日：2008-11-04
申请人：日本電氣硝子股份有限公司 , NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD.
发明人：馬屋原芳夫 , UMAYAHARA, YOSHIO , 鈴木良太 , SUZUKI, RYOTA , 西川欣克 , NISHIKAWA, YOSHIKATSU , 池邊勝 , IKEBE, MASARU , 森弘樹 , MORI, HIROKI , 長谷川義德 , HASEGAWA, YOSHINORI
IPC分类号： C03C3/064 , C03C3/091 , C03C10/00 , C04B35/00 , H01L21/22
CPC分类号： C03B19/06 , C03C3/064 , C03C3/091 , C03C10/0054 , C03C12/00 , Y02P40/57
摘要：本發明之目的係提供一種耐熱性高且B2O3之揮發量多的摻雜劑源(dopant host)，以及材質均勻、所揮發之硼的量於每次使用皆安定而且廉價的半導體用硼摻雜材料。本發明之摻雜劑源係含有SiO2 20至50莫耳%、Al2O3 30至60莫耳%(惟不包含30莫耳%)、B2O3 10至40莫耳%、RO(R為鹼土族金屬)2至10莫耳%之組成，或是由積層體所形成，該積層體包括：含有SiO2 30至60莫耳%、Al2O3 10至30莫耳%、B2O3 15至50莫耳%、RO(R為鹼土族金屬)2至10莫耳%之組成之硼成分揮發層；及含有SiO2 8至30莫耳%、Al2O3 50至85莫耳%、B2O3 5至20莫耳%、RO(R為鹼土族金屬)0.5至7莫耳%之組成之耐熱層。本發明之半導體用硼摻雜材料之製造方法係包括：將包含含有硼之結晶性玻璃粉末之原料粉末漿液化之步驟、將製得之漿液實施成型後製得片狀坯件之步驟、及將片狀坯件燒結之步驟。
简体摘要：本发明之目的系提供一种耐热性高且B2O3之挥发量多的掺杂剂源(dopant host)，以及材质均匀、所挥发之硼的量于每次使用皆安定而且廉价的半导体用硼掺杂材料。本发明之掺杂剂源系含有SiO2 20至50莫耳%、Al2O3 30至60莫耳%(惟不包含30莫耳%)、B2O3 10至40莫耳%、RO(R为碱土族金属)2至10莫耳%之组成，或是由积层体所形成，该积层体包括：含有SiO2 30至60莫耳%、Al2O3 10至30莫耳%、B2O3 15至50莫耳%、RO(R为碱土族金属)2至10莫耳%之组成之硼成分挥发层；及含有SiO2 8至30莫耳%、Al2O3 50至85莫耳%、B2O3 5至20莫耳%、RO(R为碱土族金属)0.5至7莫耳%之组成之耐热层。本发明之半导体用硼掺杂材料之制造方法系包括：将包含含有硼之结晶性玻璃粉末之原料粉末浆液化之步骤、将制得之浆液实施成型后制得片状坯件之步骤、及将片状坯件烧结之步骤。

10. 发明专利

TW201305074A 積層體、積層體的切斷方法與積層體的加工方法以及脆性板狀物的切斷裝置與切斷方法审中-公开
简体标题：积层体、积层体的切断方法与积层体的加工方法以及脆性板状物的切断设备与切断方法
公开(公告)号：TW201305074A
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW101117137
申请日：2012-05-14
申请人：日本電氣硝子股份有限公司 , NIPPON ELECTRIC GLASS CO., LTD.
发明人：三和義治 , MIWA, YOSHIHARU , 長谷川義德 , HASEGAWA, YOSHINORI , 野田隆行 , NODA, TAKAYUKI , 森弘樹 , MORI, HIROKI , 江田道治 , ETA, MICHIHARU
IPC分类号： C03B33/00 , B24B9/08
CPC分类号： B32B17/10155 , B23K26/083 , B23K26/40 , B23K2203/16 , B23K2203/172 , B23K2203/50 , B28D1/221 , B29C67/0044 , B32B17/10036 , B32B17/10293 , B32B17/10706 , B32B17/10743 , B32B17/1099 , B32B37/14 , B32B2250/40 , B32B2315/08 , B32B2457/12 , B32B2457/20 , B32B2457/208 , C03B33/04 , C03B33/074 , C03B33/076 , C03B33/091 , G02F1/133351 , Y10T156/1052 , Y10T156/1082 , Y10T428/24322 , Y10T428/24488 , B32B17/10 , B32B2369/00
摘要：一種積層體1，其是將玻璃板4分別積層於樹脂板2的兩個面，而實現一體化所得的積層體1。玻璃板4的厚度為300 μm以下，且對玻璃板4的端面4a實施倒角加工。
简体摘要：一种积层体1，其是将玻璃板4分别积层于树脂板2的两个面，而实现一体化所得的积层体1。玻璃板4的厚度为300 μm以下，且对玻璃板4的端面4a实施倒角加工。

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