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    • 9. 发明专利
    • 半導體製造裝置用元件及其製法
    • 半导体制造设备用组件及其制法
    • TW201830513A
    • 2018-08-16
    • TW106134515
    • 2017-10-06
    • 日商日本碍子股份有限公司NGK INSULATORS, LTD.
    • 竹林央史
    • H01L21/3065
    • 半導體製造裝置用元件10之製法係包含:(a)準備:具有晶圓載置面22之陶瓷製且平板狀的靜電吸盤20;具有凹面32,由與陶瓷的40~570℃的線熱膨脹係數差的絕對值為0.2×10-6/K以下的複合材料所成之支持基板30;及平板狀的金屬接合材401的工序;及(b)在支持基板30的凹面32與靜電吸盤20之與晶圓載置面22為相反側的面23之間夾著金屬接合材401,以金屬接合材401的固相線溫度以下的溫度,將支持基板30與靜電吸盤20進行熱壓接合,藉此使靜電吸盤20變形為與凹面32為相同形狀的工序。
    • 半导体制造设备用组件10之制法系包含:(a)准备:具有晶圆载置面22之陶瓷制且平板状的静电吸盘20;具有凹面32,由与陶瓷的40~570℃的线热膨胀系数差的绝对值为0.2×10-6/K以下的复合材料所成之支持基板30;及平板状的金属接合材401的工序;及(b)在支持基板30的凹面32与静电吸盘20之与晶圆载置面22为相反侧的面23之间夹着金属接合材401,以金属接合材401的固相线温度以下的温度,将支持基板30与静电吸盘20进行热压接合,借此使静电吸盘20变形为与凹面32为相同形状的工序。