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1. 发明专利

TWI640659B 基板處理系統及基板處理方法有权
简体标题：基板处理系统及基板处理方法
公开(公告)号：TWI640659B
公开(公告)日：2018-11-11
申请号：TW105137875
申请日：2016-11-18
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：錦內榮史 , NISHIKIUCHI, HISASHI
IPC分类号： C25D19/00 , C25D5/02 , C25D7/12 , C25D17/06 , B08B3/02

2. 发明专利

TWI623997B 鍍覆裝置及鍍覆方法有权
简体标题：镀覆设备及镀覆方法
公开(公告)号：TWI623997B
公开(公告)日：2018-05-11
申请号：TW105137876
申请日：2016-11-18
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：錦內榮史 , NISHIKIUCHI, HISASHI , 上代和男 , JODAI, KAZUO
IPC分类号： H01L21/677 , C23C14/54 , C23C16/52

3. 发明专利

TW201800623A 基板處理系統及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理系统及基板处理方法
公开(公告)号：TW201800623A
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW105137875
申请日：2016-11-18
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：錦內榮史 , NISHIKIUCHI, HISASHI
IPC分类号： C25D19/00 , C25D5/02 , C25D7/12 , C25D17/06 , B08B3/02
CPC分类号： B08B3/02 , C25D5/02 , C25D7/12 , C25D17/00 , C25D17/06
摘要：本發明的基板處理系統係具備有：鍍覆裝置，係具有用以搬運第一基板之第一搬運部，並在靜止的狀態下對第一基板的表面施予鍍覆處理後，藉由第一搬運部搬出第一基板；以及前段裝置，係具有用以搬運第二基板之第二搬運部，並與第一搬運部所為之第一基板的搬出對應地藉由第二搬運部將第二基板作為第一基板搬運至鍍覆裝置；並且，因應鍍覆處理的時間控制第二搬運部將第二基板搬運至鍍覆裝置之時序。
简体摘要：本发明的基板处理系统系具备有：镀覆设备，系具有用以搬运第一基板之第一搬运部，并在静止的状态下对第一基板的表面施予镀覆处理后，借由第一搬运部搬出第一基板；以及前段设备，系具有用以搬运第二基板之第二搬运部，并与第一搬运部所为之第一基板的搬出对应地借由第二搬运部将第二基板作为第一基板搬运至镀覆设备；并且，因应镀覆处理的时间控制第二搬运部将第二基板搬运至镀覆设备之时序。

4. 发明专利

TW201731007A 鍍覆裝置及鍍覆方法审中-公开
简体标题：镀覆设备及镀覆方法
公开(公告)号：TW201731007A
公开(公告)日：2017-09-01
申请号：TW105137876
申请日：2016-11-18
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：錦內榮史 , NISHIKIUCHI, HISASHI , 上代和男 , JODAI, KAZUO
IPC分类号： H01L21/677 , C23C14/54 , C23C16/52
CPC分类号： C25D5/02 , C25D7/12 , C25D17/00 , C25D17/06 , H01L21/304
摘要：本發明的鍍覆裝置係具備有：框體，係具有圍繞被鍍覆區域之形狀；搬運部，係在將被鍍覆區域朝向上方的狀態下，一邊支撐基板的另一主面一邊將基板搬運至框體的下方位置；升降部，係使基板相對於框體相對性地上升，並藉由框體與被鍍覆區域形成用以儲留鍍覆液之儲留空間；供給部，係將鍍覆液供給至儲留空間；陰極電極，係電性連接至被鍍覆區域；以及陽極電極，係與儲留於儲留空間的鍍覆液接液；並且，一邊藉由升降部及搬運部中的至少一者從下方支撐基板的另一主面，一邊於陰極電極與陽極電極之間流通電流並進行鍍覆處理。
简体摘要：本发明的镀覆设备系具备有：框体，系具有围绕被镀覆区域之形状；搬运部，系在将被镀覆区域朝向上方的状态下，一边支撑基板的另一主面一边将基板搬运至框体的下方位置；升降部，系使基板相对于框体相对性地上升，并借由框体与被镀覆区域形成用以储留镀覆液之储留空间；供给部，系将镀覆液供给至储留空间；阴极电极，系电性连接至被镀覆区域；以及阳极电极，系与储留于储留空间的镀覆液接液；并且，一边借由升降部及搬运部中的至少一者从下方支撑基板的另一主面，一边于阴极电极与阳极电极之间流通电流并进行镀覆处理。

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