会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 2. 发明专利
    • 基板處理裝置
    • 基板处理设备
    • TW201822904A
    • 2018-07-01
    • TW106127781
    • 2017-08-16
    • 日商斯庫林集團股份有限公司SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
    • 矢野航YANO, WATARU橋詰彰夫HASHIZUME, AKIO
    • B08B13/00B08B3/04H01L21/67
    • 本發明之課題,在於抑制洗淨刷之刷本體中抵接於基板之基板抵接部之大小的變動。 本發明之基板處理裝置具備有基板之旋轉保持機構、及使安裝有洗淨刷之軸移動之刷移動機構,刷本體包含構成柱狀部分之前端面之基板抵接部,且基板處理裝置進一步具備有矯正構件、及將矯正構件相對地定位於目標位置之相對定位機構。在矯正構件被定位於目標位置時,矯正構件之接觸部與對象部分相互地重疊,該對象部分係將設計刷之設計本體之設計柱狀部分之外周面中之設計抵接部與帶狀之環狀部分合併而成者,且接觸部係形成為使設計刷之對象部分之形狀反轉之形狀,並且接觸部中對應於帶狀之環狀部分的部分,係對向於軸之中心軸線之中心軸線對向面。
    • 本发明之课题,在于抑制洗净刷之刷本体中抵接于基板之基板抵接部之大小的变动。 本发明之基板处理设备具备有基板之旋转保持机构、及使安装有洗净刷之轴移动之刷移动机构,刷本体包含构成柱状部分之前端面之基板抵接部,且基板处理设备进一步具备有矫正构件、及将矫正构件相对地定位于目标位置之相对定位机构。在矫正构件被定位于目标位置时,矫正构件之接触部与对象部分相互地重叠,该对象部分系将设计刷之设计本体之设计柱状部分之外周面中之设计抵接部与带状之环状部分合并而成者,且接触部系形成为使设计刷之对象部分之形状反转之形状,并且接触部中对应于带状之环状部分的部分,系对向于轴之中心轴线之中心轴线对向面。
    • 6. 发明专利
    • 基板處理裝置
    • 基板处理设备
    • TW201834138A
    • 2018-09-16
    • TW107106598
    • 2018-02-27
    • 日商斯庫林集團股份有限公司SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
    • 矢野航YANO, WATARU野野村正浩NONOMURA, MASAHIRO古川正晃FURUKAWA, MASAAKI
    • H01L21/683H01L21/302H01L21/67
    • 基板處理裝置包括:底座,圍繞著沿鉛垂方向的旋轉軸線進行旋轉;多個保持銷,設置在所述底座上,在較所述底座更靠上方的位置保持基板的周緣;對向構件,配置在所述底座與所述基板之間,可在自所述基板向下方隔開的分離位置、與較所述分離位置更接近所述基板的接近位置之間進行升降,自下方與所述基板相對向;遮簷構件,在較所述基板更靠下方的位置上以自上方與所述對向構件相對向的方式與所述保持銷連結;以及密封構造,在所述對向構件位於所述接近位置的狀態下,對所述對向構件的上表面的周緣與所述遮簷構件之間進行密封。
    • 基板处理设备包括:底座,围绕着沿铅垂方向的旋转轴线进行旋转;多个保持销,设置在所述底座上,在较所述底座更靠上方的位置保持基板的周缘;对向构件,配置在所述底座与所述基板之间,可在自所述基板向下方隔开的分离位置、与较所述分离位置更接近所述基板的接近位置之间进行升降,自下方与所述基板相对向;遮檐构件,在较所述基板更靠下方的位置上以自上方与所述对向构件相对向的方式与所述保持销链接;以及密封构造,在所述对向构件位于所述接近位置的状态下,对所述对向构件的上表面的周缘与所述遮檐构件之间进行密封。
    • 7. 发明专利
    • 基板處理裝置以及基板處理方法
    • 基板处理设备以及基板处理方法
    • TW201834000A
    • 2018-09-16
    • TW107106067
    • 2018-02-23
    • 日商斯庫林集團股份有限公司SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
    • 矢野航YANO, WATARU野野村正浩NONOMURA, MASAHIRO古川正晃FURUKAWA, MASAAKI
    • H01L21/02H01L21/67H01L21/687
    • 基板處理裝置包括:底座,圍繞著沿鉛垂方向的旋轉軸線進行旋轉;多個保持銷,在所述底座的旋轉方向上相互隔開間隔而設置在所述底座上,在較所述底座更靠上方的位置保持所述基板的周緣部;對向構件,配置在所述底座與所述基板之間,可在與所述基板向下方隔開的隔開位置、與較所述隔開位置更接近所述基板的接近位置之間進行升降,自下方與所述基板相對向;以及第1進入抑制構件,設置在所述對向構件上,在所述對向構件位於所述接近位置的狀態下,抑制氣流進入至所述基板的下表面與所述對向構件之間的空間。
    • 基板处理设备包括:底座,围绕着沿铅垂方向的旋转轴线进行旋转;多个保持销,在所述底座的旋转方向上相互隔开间隔而设置在所述底座上,在较所述底座更靠上方的位置保持所述基板的周缘部;对向构件,配置在所述底座与所述基板之间,可在与所述基板向下方隔开的隔开位置、与较所述隔开位置更接近所述基板的接近位置之间进行升降,自下方与所述基板相对向;以及第1进入抑制构件,设置在所述对向构件上,在所述对向构件位于所述接近位置的状态下,抑制气流进入至所述基板的下表面与所述对向构件之间的空间。
    • 8. 发明专利
    • 搬送條件設定裝置、基板處理裝置及搬送條件設定方法
    • 搬送条件设置设备、基板处理设备及搬送条件设置方法
    • TW201824440A
    • 2018-07-01
    • TW106125526
    • 2017-07-28
    • 日商斯庫林集團股份有限公司SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
    • 矢野航YANO, WATARU橋詰彰夫HASHIZUME, AKIO
    • H01L21/677
    • 本發明之課題,在於抑制搬送機器人之機械臂的劣化。本發明之搬送條件設定裝置具備有:製程時間取得部,其根據基板處理裝置之配方時間,來取得該基板處理裝置之產出率;以及搬送速度設定部,其根據所取得之產出率、及對應於既定之機械手數量之搬送能力與產出率之被預先設定之對應關係,來決定對應於該機械手數量之搬送速度;在對應於該機械手數量之最大搬送能力相對於取得之產出率有餘裕之情形時,搬送速度設定部將搬送速度決定為與低於最大搬送能力之搬送能力對應之搬送速度。
    • 本发明之课题,在于抑制搬送机器人之机械臂的劣化。本发明之搬送条件设置设备具备有:制程时间取得部,其根据基板处理设备之配方时间,来取得该基板处理设备之产出率;以及搬送速度设置部,其根据所取得之产出率、及对应于既定之机械手数量之搬送能力与产出率之被预先设置之对应关系,来决定对应于该机械手数量之搬送速度;在对应于该机械手数量之最大搬送能力相对于取得之产出率有余裕之情形时,搬送速度设置部将搬送速度决定为与低于最大搬送能力之搬送能力对应之搬送速度。