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1. 发明专利

TWI701362B 石英玻璃坩堝有权
简体标题：石英玻璃坩埚
公开(公告)号：TWI701362B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW108105962
申请日：2019-02-22
申请人：日商勝高股份有限公司 , SUMCO CORPORATION
发明人：岸弘史 , KISHI, HIROSHI , 長谷部幸太 , HASEBE, KOUTA , 安部貴裕 , ABE, TAKAHIRO , 藤原秀樹 , FUJIWARA, HIDEKI
IPC分类号： C30B15/10 , C03C3/06 , C03C21/00 , C03C17/00 , C09D201/02 , C09D7/61 , F27B14/10

2. 发明专利

TWI651439B 石英玻璃坩堝及其製造方法有权
简体标题：石英玻璃坩埚及其制造方法
公开(公告)号：TWI651439B
公开(公告)日：2019-02-21
申请号：TW106131334
申请日：2017-09-13
申请人：日商勝高股份有限公司 , SUMCO CORPORATION
发明人：岸弘史 , KISHI, HIROSHI , 福井正德 , FUKUI, MASANORI
IPC分类号： C30B15/10

3. 发明专利

TW201825721A 石英玻璃坩堝及其製造方法、以及使用石英玻璃坩堝之矽單晶之製造方法审中-公开
简体标题：石英玻璃坩埚及其制造方法、以及使用石英玻璃坩埚之硅单晶之制造方法
公开(公告)号：TW201825721A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106131332
申请日：2017-09-13
申请人：日商勝高股份有限公司 , SUMCO CORPORATION
发明人：岸弘史 , KISHI, HIROSHI , 長谷部幸太 , HASEBE, KOUTA , 安部貴裕 , ABE, TAKAHIRO , 藤原秀樹 , FUJIWARA, HIDEKI
IPC分类号： C30B15/10 , C03B20/00
摘要：本發明提供一種可耐多重提拉等非常長時間之單晶提拉步驟之石英玻璃坩堝及其製造方法。本發明之石英玻璃坩堝1包括：坩堝本體10，其包含石英玻璃，且為有底圓筒狀；及第1含結晶化促進劑塗佈膜13A，其係以利用藉由丘克拉斯基法之矽單晶提拉步驟中之加熱而於坩堝本體10之內表面10a之表層部形成包含圓頂狀或柱狀晶粒之集合之內側結晶層的方式形成於上述內表面10a。
简体摘要：本发明提供一种可耐多重提拉等非常长时间之单晶提拉步骤之石英玻璃坩埚及其制造方法。本发明之石英玻璃坩埚1包括：坩埚本体10，其包含石英玻璃，且为有底圆筒状；及第1含结晶化促进剂涂布膜13A，其系以利用借由丘克拉布斯基法之硅单晶提拉步骤中之加热而于坩埚本体10之内表面10a之表层部形成包含圆顶状或柱状晶粒之集合之内侧结晶层的方式形成于上述内表面10a。

4. 发明专利

TWI664154B 石英玻璃坩堝及其製造方法有权
简体标题：石英玻璃坩埚及其制造方法
公开(公告)号：TWI664154B
公开(公告)日：2019-07-01
申请号：TW107113641
申请日：2018-04-23
申请人：日商勝高股份有限公司 , SUMCO CORPORATION
发明人：岸弘史 , KISHI, HIROSHI , 長谷部幸太 , HASEBE, KOUTA , 安部貴裕 , ABE, TAKAHIRO , 藤原秀樹 , FUJIWARA, HIDEKI , 北原江梨子 , KITAHARA, ERIKO
IPC分类号： C03B20/00 , C03C17/22 , C30B15/10 , C30B29/06

5. 发明专利

TW201843114A 石英玻璃坩堝及其製造方法审中-公开
简体标题：石英玻璃坩埚及其制造方法
公开(公告)号：TW201843114A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW107113641
申请日：2018-04-23
申请人：日商勝高股份有限公司 , SUMCO CORPORATION
发明人：岸弘史 , KISHI, HIROSHI , 長谷部幸太 , HASEBE, KOUTA , 安部貴裕 , ABE, TAKAHIRO , 藤原秀樹 , FUJIWARA, HIDEKI , 北原江梨子 , KITAHARA, ERIKO
IPC分类号： C03B20/00 , C03C17/22 , C30B15/10 , C30B29/06
摘要：本發明提供一種可耐受多次拉晶等極長時間之單晶提拉步驟之石英玻璃坩堝及其製造方法。石英玻璃坩堝1具備：有底圓筒狀之坩堝本體10，其包含石英玻璃；及含結晶化促進劑之塗佈膜13A、13B，其等以藉由利用柴可拉斯基法之單晶矽提拉步驟中之加熱而於坩堝本體10之表面附近形成結晶化促進劑濃縮層之方式形成於上述坩堝本體10之表面。
简体摘要：本发明提供一种可耐受多次拉晶等极长时间之单晶提拉步骤之石英玻璃坩埚及其制造方法。石英玻璃坩埚1具备：有底圆筒状之坩埚本体10，其包含石英玻璃；及含结晶化促进剂之涂布膜13A、13B，其等以借由利用柴可拉斯基法之单晶硅提拉步骤中之加热而于坩埚本体10之表面附近形成结晶化促进剂浓缩层之方式形成于上述坩埚本体10之表面。

6. 发明专利

TW201812119A 石英玻璃坩堝及其製造方法审中-公开
简体标题：石英玻璃坩埚及其制造方法
公开(公告)号：TW201812119A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106131334
申请日：2017-09-13
申请人：日商勝高股份有限公司 , SUMCO CORPORATION
发明人：岸弘史 , KISHI, HIROSHI , 福井正德 , FUKUI, MASANORI
IPC分类号： C30B15/10
CPC分类号： C30B29/06 , C03B20/00 , C30B15/10
摘要：本發明之課題在於提供一種可耐受多重提拉等極長時間之單晶提拉步驟的石英玻璃坩堝及其製造方法。本發明之石英玻璃坩堝1具備：高含鋁層14B，其包含鋁平均濃度相對較高之石英玻璃，且係以構成石英玻璃坩堝1之外表面10b之方式設置；及低含鋁層14A，其包含鋁平均濃度低於高含鋁層14B之石英玻璃，且設置於高含鋁層14B之內側；低含鋁層14A包含不透明層11，該不透明層11包含含有大量微小氣泡之石英玻璃，高含鋁層14B包含氣泡含有率較不透明層11降低之透明或半透明之石英玻璃。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种可耐受多重提拉等极长时间之单晶提拉步骤的石英玻璃坩埚及其制造方法。本发明之石英玻璃坩埚1具备：高含铝层14B，其包含铝平均浓度相对较高之石英玻璃，且系以构成石英玻璃坩埚1之外表面10b之方式设置；及低含铝层14A，其包含铝平均浓度低于高含铝层14B之石英玻璃，且设置于高含铝层14B之内侧；低含铝层14A包含不透明层11，该不透明层11包含含有大量微小气泡之石英玻璃，高含铝层14B包含气泡含有率较不透明层11降低之透明或半透明之石英玻璃。

7. 发明专利

TWI410534B 石英玻璃坩堝及使用其之矽單晶拉提方法失效
简体标题：石英玻璃坩埚及使用其之硅单晶拉提方法
公开(公告)号：TWI410534B
公开(公告)日：2013-10-01
申请号：TW097126101
申请日：2008-07-10
申请人：日本超精石英股份有限公司 , JAPAN SUPER QUARTZ CORPORATION , 勝高股份有限公司 , SUMCO CORPORATION
发明人：岸弘史 , KISHI, HIROSHI , 神田稔 , KANDA, MINORU
IPC分类号： C30B15/10 , C30B15/20 , C30B15/00

8. 发明专利

TW202030383A 石英玻璃坩堝、及使用此之矽單結晶的製造方法、石英玻璃坩堝的紅外線透過率測定方法及其製造方法审中-公开
简体标题：石英玻璃坩埚、及使用此之硅单结晶的制造方法、石英玻璃坩埚的红外线透过率测定方法及其制造方法
公开(公告)号：TW202030383A
公开(公告)日：2020-08-16
申请号：TW108146392
申请日：2019-12-18
申请人：日商SUMCO股份有限公司 , SUMCO CORPORATION
发明人：北原賢 , KITAHARA, KEN , 福井正徳 , FUKUI, MASANORI , 岸弘史 , KISHI, HIROSHI , 片野智一 , KATANO, TOMOKAZU , 北原江梨子 , KITAHARA, ERIKO
IPC分类号： C30B15/10 , C30B29/06 , C03B20/00
摘要：提供可以提高氧濃度低的矽單結晶製造良率的石英玻璃坩堝。具有圓筒狀的側壁部10a、底部10b、連結側壁部10a與底部10b的轉角部10c之石英玻璃坩堝1，包括：透明層11，由不含氣泡的石英玻璃構成；氣泡層12，在透明層11的外側形成，以包含多數氣泡的石英玻璃構成；以及半熔化層13，在氣泡層12的外側形成，原料二氧化矽粉以半熔化狀態凝固。除去半熔化層13的狀態下的轉角部10c的紅外線透過率是25〜51%，除去半熔化層13的狀態下的轉角部10c的紅外線透過率比側壁部10a的紅外線透過率低，除去半熔化層13的狀態下的側壁部10a的紅外線透過率比底部10b的紅外線透過率低。
简体摘要：提供可以提高氧浓度低的硅单结晶制造良率的石英玻璃坩埚。具有圆筒状的侧壁部10a、底部10b、链接侧壁部10a与底部10b的转角部10c之石英玻璃坩埚1，包括：透明层11，由不含气泡的石英玻璃构成；气泡层12，在透明层11的外侧形成，以包含多数气泡的石英玻璃构成；以及半熔化层13，在气泡层12的外侧形成，原料二氧化硅粉以半熔化状态凝固。除去半熔化层13的状态下的转角部10c的红外线透过率是25〜51%，除去半熔化层13的状态下的转角部10c的红外线透过率比侧壁部10a的红外线透过率低，除去半熔化层13的状态下的侧壁部10a的红外线透过率比底部10b的红外线透过率低。

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