专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI688600B 奈米壓印液體材料，製造奈米壓印液體材料之方法，製造固化產物圖案之方法，製造光學組件之方法及製造電路板之方法有权
简体标题：奈米压印液体材料，制造奈米压印液体材料之方法，制造固化产物图案之方法，制造光学组件之方法及制造电路板之方法
公开(公告)号：TWI688600B
公开(公告)日：2020-03-21
申请号：TW106142235
申请日：2016-02-25
申请人：日商佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：加藤順 , KATO, JUN , 本間猛 , HONMA, TAKESHI , 伊藤俊樹 , ITO, TOSHIKI
IPC分类号： C08L33/04 , C08K7/16 , B29C59/02 , B29C59/16 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , H05K3/20 , B01D37/00

2. 发明专利

TWI667117B 圖型形成方法、壓印前處理塗覆材料及基板之前處理方法有权
简体标题：图型形成方法、压印前处理涂覆材料及基板之前处理方法
公开(公告)号：TWI667117B
公开(公告)日：2019-08-01
申请号：TW107107614
申请日：2018-03-07
申请人：日商佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：大谷智教 , OTANI, TOMONORI , 伊藤俊樹 , ITO, TOSHIKI , 克斯迪諾夫尼亞茲 , KHUSNATDINOV, NIYAZ
IPC分类号： B29C43/02 , B29C35/08 , B29C59/02 , B29C59/16 , G03F7/00 , B82Y40/00 , H01L21/027

3. 发明专利

TWI666512B 用於光壓印之可固化組成物、經固化之產物、以及使用該組成物製造具有圖案之膜、光學組件、電路板、或電子組件之方法有权
简体标题：用于光压印之可固化组成物、经固化之产物、以及使用该组成物制造具有图案之膜、光学组件、电路板、或电子组件之方法
公开(公告)号：TWI666512B
公开(公告)日：2019-07-21
申请号：TW104103437
申请日：2015-02-02
申请人：日商佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：本間猛 , HONMA, TAKESHI , 伊藤俊樹 , ITO, TOSHIKI , 米澤詩織 , YONEZAWA, SHIORI , 川陽司 , KAWASAKI, YOUJI , 飯村晶子 , IIMURA, AKIKO
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/027 , G03F7/031 , B29C59/02 , B29C59/16 , C03C15/00 , C03C21/00 , H01L21/027 , H05K3/20

4. 发明专利

TWI644181B 圖型形成方法、加工基板之製造方法、光學元件之製造方法、電路基板之製造方法、電子元件之製造方法、轉印模具之製造方法有权
简体标题：图型形成方法、加工基板之制造方法、光学组件之制造方法、电路基板之制造方法、电子组件之制造方法、转印模具之制造方法
公开(公告)号：TWI644181B
公开(公告)日：2018-12-11
申请号：TW106111219
申请日：2017-03-31
申请人：日商佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：伊藤俊樹 , ITO, TOSHIKI , 劉衛軍 , LIU, WEIJUN , 史塔維克堤墨希 , STACHOWIAK, TIMOTHY BRIAN , 克斯迪諾夫尼亞茲 , KHUSNATDINOV, NIYAZ , 大谷智教 , OTANI, TOMONORI , 田邉正幸 , TANABE, MASAYUKI
IPC分类号： G03F7/20 , G03F7/004

5. 发明专利

TWI642714B 奈米壓印液體材料，製造奈米壓印液體材料之方法，製造固化產物圖案之方法，製造光學組件之方法及製造電路板之方法有权
简体标题：奈米压印液体材料，制造奈米压印液体材料之方法，制造固化产物图案之方法，制造光学组件之方法及制造电路板之方法
公开(公告)号：TWI642714B
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW105105679
申请日：2016-02-25
申请人：日商佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：加藤順 , KATO, JUN , 本間猛 , HONMA, TAKESHI , 伊藤俊樹 , ITO, TOSHIKI
IPC分类号： C08L33/04 , C08K7/16 , B29C59/02 , B29C59/16 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , H05K3/20 , B01D37/00

6. 发明专利

TW201820410A 形成密著層組成物及物品之製造方法审中-公开
简体标题：形成密着层组成物及物品之制造方法
公开(公告)号：TW201820410A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106139431
申请日：2017-11-15
申请人：日商佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：田邉正幸 , TANABE, MASAYUKI , 伊藤俊樹 , ITO, TOSHIKI
IPC分类号： H01L21/027 , C09D5/00 , B32B27/00
摘要：本發明有關用以使基板與光硬化性組成物密著之形成密著層組成物，前述形成密著層組成物至少含有具有與基材鍵結之至少一個官能基及至少一個自由基聚合性官能基之硬化性主劑(A)、聚合抑制劑(B)及有機溶劑(C)，前述聚合抑制劑(B)之含量相對於前述硬化性主劑(A)100重量份，為0.1質量份以上且10重量份以下。
简体摘要：本发明有关用以使基板与光硬化性组成物密着之形成密着层组成物，前述形成密着层组成物至少含有具有与基材键结之至少一个官能基及至少一个自由基聚合性官能基之硬化性主剂(A)、聚合抑制剂(B)及有机溶剂(C)，前述聚合抑制剂(B)之含量相对于前述硬化性主剂(A)100重量份，为0.1质量份以上且10重量份以下。

7. 发明专利

TW201809116A 奈米壓印液體材料，製造奈米壓印液體材料之方法，製造固化產物圖案之方法，製造光學組件之方法及製造電路板之方法审中-公开
简体标题：奈米压印液体材料，制造奈米压印液体材料之方法，制造固化产物图案之方法，制造光学组件之方法及制造电路板之方法
公开(公告)号：TW201809116A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW106142235
申请日：2016-02-25
申请人：日商佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：加藤順 , KATO, JUN , 本間猛 , HONMA, TAKESHI , 伊藤俊樹 , ITO, TOSHIKI
IPC分类号： C08L33/04 , C08K7/16 , B29C59/02 , B29C59/16 , B82Y30/00 , B82Y40/00 , H05K3/20 , B01D37/00
CPC分类号： G03F7/0002 , B29C59/005 , B29C59/02 , B29D11/00269 , B29D11/00769 , B29K2033/08 , C08L35/02 , C08L2205/02 , C08L2205/03 , G02B1/04 , G03F7/027 , G03F7/029 , G03F7/16 , H01L21/266 , H01L21/3105 , H01L21/481 , H05K3/0017 , H05K3/0079
摘要：本發明提供一種奈米壓印液體材料，其中具有0.07μm或更大之粒徑的粒子之粒子數濃度低於310/mL。
简体摘要：本发明提供一种奈米压印液体材料，其中具有0.07μm或更大之粒径的粒子之粒子数浓度低于310/mL。

8. 发明专利

TWI649297B 化合物、光可固化組成物、及藉由使用該光可固化組成物製造圖案膜、光學組件、電路板、電子組件之方法，及經固化之產物有权
简体标题：化合物、光可固化组成物、及借由使用该光可固化组成物制造图案膜、光学组件、电路板、电子组件之方法，及经固化之产物
公开(公告)号：TWI649297B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW103116083
申请日：2014-05-06
申请人：日商佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：伊藤俊樹 , ITO, TOSHIKI , 本間猛 , HONMA, TAKESHI , 米澤詩織 , YONEZAWA, SHIORI , 佐藤仁至 , SATO, HITOSHI , 川陽司 , KAWASAKI, YOUJI
IPC分类号： C07C217/08 , C08K5/17 , C08F2/50 , B29C59/02 , H01L21/312 , H01L21/027

9. 发明专利

TW201833661A 圖型形成方法、以及加工基板、光學零件及石英複製模的製造方法、以及壓印前處理塗佈材料及其與壓印抗蝕劑的套組审中-公开
简体标题：图型形成方法、以及加工基板、光学零件及石英复制模的制造方法、以及压印前处理涂布材料及其与压印抗蚀剂的套组
公开(公告)号：TW201833661A
公开(公告)日：2018-09-16
申请号：TW107107549
申请日：2018-03-07
申请人：日商佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：千葉啓子 , CHIBA, KEIKO , 石田晋吾 , ISHIDA, SHINGO , 安藤敏明 , ANDO, TOSHIAKI , 伊藤俊樹 , ITO, TOSHIKI , 史塔維克堤墨希 , STACHOWIAK, TIMOTHY BRIAN , 劉衛軍 , LIU, WEIJUN
IPC分类号： G03F7/00 , H01L21/027
摘要：本發明提供高處理量且可以均一精度加工注料區域的圖型形成方法。　　該圖型形成方法係光奈米壓印技術，且其特徵係依序具有下述步驟之硬化物圖型製造方法：於基板表面層合由至少包含聚合性化合物的成分(a1)之硬化性組成物(A1)所成之層的步驟(1)、於硬化性組成物(A1)層上離散地滴下至少包含聚合性化合物的成分(a2)之硬化性組成物(A2)的液滴並層合之步驟(2)、於模具與前述基板之間夾入前述硬化性組成物(A1)及前述硬化性組成物(A2)經部分混合而成之層的步驟(3)、藉由自前述模具側照射光而使前述硬化性組成物(A1)及前述硬化性組成物(A2)經部分混合而成之層一次硬化之步驟(4)、及自硬化後之硬化性組成物所成之層拉離前述模具之步驟(5)，其中位於注料區域之前述硬化性組成物(A2)之體積(Vr)除以前述硬化性組成物(A1)之體積(Vc)之值Vr/Vc為4以上15以下。
简体摘要：本发明提供高处理量且可以均一精度加工注料区域的图型形成方法。　　该图型形成方法系光奈米压印技术，且其特征系依序具有下述步骤之硬化物图型制造方法：于基板表面层合由至少包含聚合性化合物的成分(a1)之硬化性组成物(A1)所成之层的步骤(1)、于硬化性组成物(A1)层上离散地滴下至少包含聚合性化合物的成分(a2)之硬化性组成物(A2)的液滴并层合之步骤(2)、于模具与前述基板之间夹入前述硬化性组成物(A1)及前述硬化性组成物(A2)经部分混合而成之层的步骤(3)、借由自前述模具侧照射光而使前述硬化性组成物(A1)及前述硬化性组成物(A2)经部分混合而成之层一次硬化之步骤(4)、及自硬化后之硬化性组成物所成之层拉离前述模具之步骤(5)，其中位于注料区域之前述硬化性组成物(A2)之体积(Vr)除以前述硬化性组成物(A1)之体积(Vc)之值Vr/Vc为4以上15以下。

10. 发明专利

TWI686676B 圖案形成方法有权
简体标题：图案形成方法
公开(公告)号：TWI686676B
公开(公告)日：2020-03-01
申请号：TW107127749
申请日：2018-08-09
申请人：日商佳能股份有限公司 , CANON KABUSHIKI KAISHA
发明人：齋藤有弘 , SAITO, TOMOHIRO , 伊藤俊樹 , ITO, TOSHIKI , 大谷智教 , OTANI, TOMONORI
IPC分类号： G03F7/20

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式