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1. 发明专利

TWI675823B 丙烷之製造方法及丙烷製造裝置有权
简体标题：丙烷之制造方法及丙烷制造设备
公开(公告)号：TWI675823B
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：TW105102553
申请日：2016-01-27
申请人：日商住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：桑名晃裕 , KUWANA, AKIHIRO , 川上純一 , KAWAKAMI, JUNICHI , 津野修司 , TSUNO, SHUJI
IPC分类号： C07C5/03 , C07C9/08 , C07C7/10 , C07C7/09 , C07C7/04

2. 发明专利

TW201835013A 石蠟之製造方法审中-公开
简体标题：石蜡之制造方法
公开(公告)号：TW201835013A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW106140683
申请日：2017-11-23
申请人：日商住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：津野修司 , TSUNO, SHUJI , 桑名晃裕 , KUWANA, AKIHIRO , 酒井良一郎 , SAKAI, RYOICHIRO
IPC分类号： C07C5/03 , B01J23/42 , B01J21/04 , B01J32/00 , B01J35/02 , B01J8/06 , C07C9/06 , C07C9/08
摘要：本發明提供一種能夠由可容易獲取之高純度烯烴，於抑制副反應並且雜質生成量不產生偏差之狀況下，穩定地高效地製造高純度之石蠟的方法。本發明係將不具有觸媒活性之複數個粒狀構件填充至反應塔10，將上述粒狀構件之中之至少一部分設為擔載有觸媒之載體，於上述反應塔10中於上述觸媒之存在下藉由氣相狀態之烯烴與氫氣之反應而製造石蠟。將上述載體各者所擔載之上述觸媒之重量相對於上述載體各者之重量與上述載體各者所擔載之上述觸媒之重量之和的比率設為0.001%以上且未達0.01%。
简体摘要：本发明提供一种能够由可容易获取之高纯度烯烃，于抑制副反应并且杂质生成量不产生偏差之状况下，稳定地高效地制造高纯度之石蜡的方法。本发明系将不具有触媒活性之复数个粒状构件填充至反应塔10，将上述粒状构件之中之至少一部分设为担载有触媒之载体，于上述反应塔10中于上述触媒之存在下借由气相状态之烯烃与氢气之反应而制造石蜡。将上述载体各者所担载之上述触媒之重量相对于上述载体各者之重量与上述载体各者所担载之上述触媒之重量之和的比率设为0.001%以上且未达0.01%。

3. 发明专利

TW201834730A 液化氣體的純化方法及裝置审中-公开
简体标题：液化气体的纯化方法及设备
公开(公告)号：TW201834730A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW107102517
申请日：2018-01-24
申请人：日商住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：津野修司 , TSUNO, SHUJI , 高橋源宜 , TAKAHASHI, GENKI , 上田翔太 , UEDA, SHOTA
IPC分类号： B01D19/00
摘要：液化氣體的純化裝置包括容納包含雜質之粗製液化氣體的缸體(1)、對該缸體(1)施加超音波的超音波產生裝置(2)、連接至該缸體(1)以從上述缸體(1)排出氣相成分的配管(6)、調節透過該配管(6)排出之氣相成分的流量的流量調整器(4)。
简体摘要：液化气体的纯化设备包括容纳包含杂质之粗制液化气体的缸体(1)、对该缸体(1)施加超音波的超音波产生设备(2)、连接至该缸体(1)以从上述缸体(1)排出气相成分的配管(6)、调节透过该配管(6)排出之气相成分的流量的流量调整器(4)。

4. 发明专利

TWI500579B 氨純化系統有权
简体标题：氨纯化系统
公开(公告)号：TWI500579B
公开(公告)日：2015-09-21
申请号：TW100132471
申请日：2011-09-08
申请人：住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：田井慎一 , TAI, SHINICHI , 北岸信之 , KITAGISHI, NOBUYUKI , 網谷富治 , AMITANI, TOMIHARU , 森本茂 , MORIMOTO, SHIGERU , 福島豐仁 , FUKUSHIMA, ATSUHITO , 津野修司 , TSUNO, SHUJI
IPC分类号： C01C1/02 , B01D3/34 , B01D53/04 , B01J20/18 , B01J20/20

5. 发明专利

TW201400415A 氨純化系統审中-公开
简体标题：氨纯化系统
公开(公告)号：TW201400415A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW101150685
申请日：2012-12-27
申请人：住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：田井慎一 , TAI, SHINICHI , 森本茂 , MORIMOTO, SHIGERU , 津野修司 , TSUNO, SHUJI
IPC分类号： C01C1/02
CPC分类号： B01D53/04 , B01D53/002 , B01D2259/403 , B01D2259/4146 , B01J20/08 , B01J20/103 , B01J20/18 , B01J20/186 , B01J20/20 , B01J20/28052 , B01J20/3408 , B01J20/3416 , B01J20/3433 , B01J20/3483 , B01J2220/603 , B01J2220/606 , C01C1/024
摘要：本發明提供一種氨純化系統，其可以簡化之方法將氨純化，並且可抑制能量消耗而將氨高效率地純化。於本發明之氨純化系統(100)中，第1吸附塔(31)及第2吸附塔(32)將自原料貯存槽(1)導出之粗氨中所含之雜質吸附去除。第1吸附塔(31)及第2吸附塔(32)分別具有積層有塔頂吸附層、第1中間吸附層、第2中間吸附層及塔底吸附層之構造。冷凝器(4)將自第1吸附塔(31)及第2吸附塔(32)導出之氨分凝而分離為氣相成分與液相成分，藉此將揮發性較高之雜質以氣相成分之形式分離去除。
简体摘要：本发明提供一种氨纯化系统，其可以简化之方法将氨纯化，并且可抑制能量消耗而将氨高效率地纯化。于本发明之氨纯化系统(100)中，第1吸附塔(31)及第2吸附塔(32)将自原料贮存槽(1)导出之粗氨中所含之杂质吸附去除。第1吸附塔(31)及第2吸附塔(32)分别具有积层有塔顶吸附层、第1中间吸附层、第2中间吸附层及塔底吸附层之构造。冷凝器(4)将自第1吸附塔(31)及第2吸附塔(32)导出之氨分凝而分离为气相成分与液相成分，借此将挥发性较高之杂质以气相成分之形式分离去除。

6. 发明专利

TW201632485A 丙烷之製造方法及丙烷製造裝置审中-公开
简体标题：丙烷之制造方法及丙烷制造设备
公开(公告)号：TW201632485A
公开(公告)日：2016-09-16
申请号：TW105102553
申请日：2016-01-27
申请人：住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：桑名晃裕 , KUWANA, AKIHIRO , 川上純一 , KAWAKAMI, JUNICHI , 津野修司 , TSUNO, SHUJI
IPC分类号： C07C5/03 , C07C9/08 , C07C7/10 , C07C7/09 , C07C7/04
CPC分类号： C07C5/03 , C07C7/04 , C07C7/09 , C07C7/13 , C07C7/163 , C07C9/08
摘要：本發明係關於一種能夠高效率地、高產率地獲得高純度之丙烷的丙烷之製造方法及丙烷製造裝置。本發明之丙烷之製造方法包括如下步驟：氫化反應步驟，其係於觸媒之存在下，藉由使粗丙烯與氫氣進行氫化反應，而獲得包含雜質之氣體狀之粗丙烷；及雜質去除步驟，其係將氫化反應步驟中所獲得之粗丙烷所含有之雜質去除，而獲得經精製之丙烷。上述雜質去除步驟包括如下階段：吸附去除階段，其係藉由使粗丙烷與吸附劑接觸之吸附處理，吸附去除該粗丙烷中作為雜質而含有之水、乙烷及丙烯；及分離去除階段，其係藉由對吸附去除階段中吸附處理後之粗丙烷進行分凝或蒸餾，而分離去除該吸附處理後之粗丙烷中作為雜質而含有之氫氣、氧氣、氮氣及甲烷。
简体摘要：本发明系关于一种能够高效率地、高产率地获得高纯度之丙烷的丙烷之制造方法及丙烷制造设备。本发明之丙烷之制造方法包括如下步骤：氢化反应步骤，其系于触媒之存在下，借由使粗丙烯与氢气进行氢化反应，而获得包含杂质之气体状之粗丙烷；及杂质去除步骤，其系将氢化反应步骤中所获得之粗丙烷所含有之杂质去除，而获得经精制之丙烷。上述杂质去除步骤包括如下阶段：吸附去除阶段，其系借由使粗丙烷与吸附剂接触之吸附处理，吸附去除该粗丙烷中作为杂质而含有之水、乙烷及丙烯；及分离去除阶段，其系借由对吸附去除阶段中吸附处理后之粗丙烷进行分凝或蒸馏，而分离去除该吸附处理后之粗丙烷中作为杂质而含有之氢气、氧气、氮气及甲烷。

7. 发明专利

TW201400414A 氨純化系統审中-公开
简体标题：氨纯化系统
公开(公告)号：TW201400414A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW101150684
申请日：2012-12-27
申请人：住友精化股份有限公司 , SUMITOMO SEIKA CHEMICALS CO., LTD.
发明人：田井慎一 , TAI, SHINICHI , 森本茂 , MORIMOTO, SHIGERU , 津野修司 , TSUNO, SHUJI
IPC分类号： C01C1/02 , B01D53/02
CPC分类号： B01J20/08 , B01D53/002 , B01D53/04 , B01D2259/403 , B01D2259/4146 , B01J20/103 , B01J20/18 , B01J20/20 , B01J20/28052 , B01J20/3408 , B01J20/3416 , B01J20/3433 , B01J20/3483 , B01J2220/603 , B01J2220/606 , C01C1/024
摘要：本發明提供一種氨純化系統，其可防止最終純化所得之氨之純度產生較大偏差。於本發明之氨純化系統(100)中，控制單元(2)以如下方式控制原料貯存槽(1)：當原料貯存槽(1)中之液相之容積相對於內部空間之總容積的比為預先規定之閥值以上時，自液相導出粗氨，當上述容積比未達上述閥值時，自氣相導出粗氨。繼而，吸附單元(4)藉由吸附劑將自原料貯存槽(1)之氣相導出之氣體狀之粗氨、或自氣化器(3)導出之氣體狀之氨中所含的雜質吸附去除，並導出氣體狀之氨。
简体摘要：本发明提供一种氨纯化系统，其可防止最终纯化所得之氨之纯度产生较大偏差。于本发明之氨纯化系统(100)中，控制单元(2)以如下方式控制原料贮存槽(1)：当原料贮存槽(1)中之液相之容积相对于内部空间之总容积的比为预先规定之阀值以上时，自液相导出粗氨，当上述容积比未达上述阀值时，自气相导出粗氨。继而，吸附单元(4)借由吸附剂将自原料贮存槽(1)之气相导出之气体状之粗氨、或自气化器(3)导出之气体状之氨中所含的杂质吸附去除，并导出气体状之氨。

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