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1. 发明专利

TWI628670B 粒子射線治療裝置有权
简体标题：粒子射线治疗设备
公开(公告)号：TWI628670B
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW105138235
申请日：2016-11-22
申请人：日商三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：本田泰三 , HONDA, TAIZO , 髙橋功 , TAKAHASHI, ISAO , 花川和之 , HANAKAWA, KAZUSHI , 池田昌広 , IKEDA, MASAHIRO , 横井武一郎 , YOKOI, TAKEICHIRO , 坂本裕介 , SAKAMOTO, YUSUKE , 神谷亮平 , KAMIYA, RYOHEI
IPC分类号： G21G4/08 , A61N5/10

2. 发明专利

TW201737962A 粒子射線治療裝置审中-公开
简体标题：粒子射线治疗设备
公开(公告)号：TW201737962A
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：TW105143341
申请日：2016-12-27
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：花川和之 , HANAKAWA, KAZUSHI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/10
摘要：藉由四極電磁鐵2g、2h、2i將帶電粒子射束的射束直徑按照預定的射束直徑縮小係數c縮小成比目標的射束直徑更小之後，使用掃描電磁鐵7a、7b的下游側具備的散射體8，將已縮小成比目標的射束直徑更小之帶電粒子射束的射束直徑擴大至目標的射束直徑，而簡便地使射束直徑穩定化。
简体摘要：借由四极电磁铁2g、2h、2i将带电粒子射束的射束直径按照预定的射束直径缩小系数c缩小成比目标的射束直径更小之后，使用扫描电磁铁7a、7b的下游侧具备的散射体8，将已缩小成比目标的射束直径更小之带电粒子射束的射束直径扩大至目标的射束直径，而简便地使射束直径稳定化。

3. 发明专利

TWI569848B 射束輸送系統及粒子線治療裝置有权
简体标题：射束输送系统及粒子线治疗设备
公开(公告)号：TWI569848B
公开(公告)日：2017-02-11
申请号：TW104104351
申请日：2015-02-10
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：小田原周平 , ODAWARA, SHUHEI , 花川和之 , HANAKAWA, KAZUSHI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： G21K1/093 , A61N5/10 , A61N5/1081 , G21K1/087 , G21K1/10 , G21K5/04 , H05H7/001 , H05H7/04 , H05H13/04 , H05H2007/002 , H05H2007/005

4. 发明专利

TW201343216A 高架型粒子束照射裝置及具備該高架型粒子束照射裝置之粒子束治療裝置有权
简体标题：高架型粒子束照射设备及具备该高架型粒子束照射设备之粒子束治疗设备
公开(公告)号：TW201343216A
公开(公告)日：2013-11-01
申请号：TW101123195
申请日：2012-06-28
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：菅原賢悟 , SUGAHARA, KENGO , 花川和之 , HANAKAWA, KAZUSHI , 本田泰三 , HONDA, TAIZO
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1042 , A61N5/1048 , A61N5/1077 , A61N5/1081 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095 , G21K1/10 , G21K5/04
摘要：本發明之高架型粒子束照射裝置，係具有高架，從圓形加速器射出的粒子束為X方向的放射率較小，Y方向的放射率較大的粒子束，將前述粒子束從照射噴嘴照射於照射目標，其中，照射噴嘴係具有隆起濾波器，在粒子束射入照射噴嘴的位置，係以在圓形加速器的射出位置的X方向的放射率與Y方向的放射率分離且保持各自的放射率的方式輸送粒子束的高架之角度作為高架的基準角度，且以高架於基準角度的狀態下使保持X方向之放射率的方向與垂直於隆起濾波器的脊部的方向傾斜預定角度的方式設置隆起濾波器。
简体摘要：本发明之高架型粒子束照射设备，系具有高架，从圆形加速器射出的粒子束为X方向的放射率较小，Y方向的放射率较大的粒子束，将前述粒子束从照射喷嘴照射于照射目标，其中，照射喷嘴系具有隆起滤波器，在粒子束射入照射喷嘴的位置，系以在圆形加速器的射出位置的X方向的放射率与Y方向的放射率分离且保持各自的放射率的方式输送粒子束的高架之角度作为高架的基准角度，且以高架于基准角度的状态下使保持X方向之放射率的方向与垂直于隆起滤波器的嵴部的方向倾斜预定角度的方式设置隆起滤波器。

5. 发明专利

TW201318660A 粒子線治療系統及其射束位置修正方法审中-公开
简体标题：粒子线治疗系统及其射束位置修正方法
公开(公告)号：TW201318660A
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：TW101105210
申请日：2012-02-17
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：花川和之 , HANAKAWA, KAZUSHI , 原田久 , HARADA, HISASHI , 池田昌廣 , IKEDA, MASAHIRO , 大谷利宏 , OTANI, TOSHIHIRO , 本田泰三 , HONDA, TAIZO , 吉田克久 , YOSHIDA, KATSUHISA
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1042 , A61N5/1043 , A61N5/1067 , A61N2005/1087 , H05H7/04 , H05H2007/048 , H05H2277/11
摘要：本發明之粒子線治療系統係由用以將荷電粒子射束予以加速的加速器系統、及將從該加速器射出之高能量射束輸送至照射位置的射束輸送系統所構成；該粒子線治療系統係在前述射束輸送系統中具備有至少1個轉向電磁鐵及與該轉向電磁鐵對應之至少1個射束位置監視器，且前述射束位置監視器係將修正週期性變動之射束位置的激磁電流供給至前述轉向電磁鐵。
简体摘要：本发明之粒子线治疗系统系由用以将荷电粒子射束予以加速的加速器系统、及将从该加速器射出之高能量射束输送至照射位置的射束输送系统所构成；该粒子线治疗系统系在前述射束输送系统中具备有至少1个转向电磁铁及与该转向电磁铁对应之至少1个射束位置监视器，且前述射束位置监视器系将修正周期性变动之射束位置的激磁电流供给至前述转向电磁铁。

6. 发明专利

TW201719470A 治療計畫裝置审中-公开
简体标题：治疗计划设备
公开(公告)号：TW201719470A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW105120489
申请日：2016-06-29
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：坂本裕介 , SAKAMOTO, YUSUKE , 花川和之 , HANAKAWA, KAZUSHI
IPC分类号： G06F19/26 , A61N5/10
CPC分类号： A61N5/10
摘要：治療計畫裝置係包括：X光圖像位置不確定性演算部，係預測藉由所暫定之X光強度所獲得之X光圖像的清晰度而演算患部的位置不確定性；治療用放射線照射參數演算部，係依據所演算之患部的位置不確定性來演算治療用放射線的照射參數；X光照射量演算部，係演算由X光攝影裝置依據所暫定的X光強度對患者照射之X光照射量；治療用放射線線量分布演算部，係使用所演算之治療用放射線的照射參數，演算照射至患者之治療用放射線的線量分布；以及顯示器，係顯示所演算之X光照射量及所演算之治療用放射線線量分布。
简体摘要：治疗计划设备系包括：X光图像位置不确定性演算部，系预测借由所暂定之X光强度所获得之X光图像的清晰度而演算患部的位置不确定性；治疗用放射线照射参数演算部，系依据所演算之患部的位置不确定性来演算治疗用放射线的照射参数；X光照射量演算部，系演算由X光摄影设备依据所暂定的X光强度对患者照射之X光照射量；治疗用放射线线量分布演算部，系使用所演算之治疗用放射线的照射参数，演算照射至患者之治疗用放射线的线量分布；以及显示器，系显示所演算之X光照射量及所演算之治疗用放射线线量分布。

7. 发明专利

TWI530310B 射束輸送系統及粒子射線治療裝置有权
简体标题：射束输送系统及粒子射线治疗设备
公开(公告)号：TWI530310B
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：TW102143410
申请日：2013-11-28
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：花川和之 , HANAKAWA, KAZUSHI , 菅原賢悟 , SUGAHARA, KENGO , 小田原周平 , ODAWARA, SHUHEI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1064 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , H05H7/001 , H05H7/04 , H05H2007/002 , H05H2007/048

8. 发明专利

TW201609216A 射束輸送系統及粒子線治療裝置审中-公开
简体标题：射束输送系统及粒子线治疗设备
公开(公告)号：TW201609216A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104104351
申请日：2015-02-10
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：小田原周平 , ODAWARA, SHUHEI , 花川和之 , HANAKAWA, KAZUSHI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： G21K1/093 , A61N5/10 , A61N5/1081 , G21K1/087 , G21K1/10 , G21K5/04 , H05H7/001 , H05H7/04 , H05H13/04 , H05H2007/002 , H05H2007/005
摘要：本發明之目的為不會將射束尺寸增大為不必要的程度，而可輸送其端部之粒子數的變化和緩之分布的帶電粒子射束。射束輸送系統(30)所具備之射束整形裝置(10)係具備：前段四極電磁鐵(3)，當將垂直於帶電粒子射束的行進方向且從射束的中心通過急端部的方向定為x方向時，前段四極電磁鐵(3)係將射束中之帶電粒子之相對於x方向之行進方向之斜率的x角度成分(x’)的分布寬度減小；半影放大器(1)，用以使通過前段四極電磁鐵(3)之射束中之x角度成分(x’)之粒子數分布的端部形狀和緩；及後段四極電磁鐵(4)，用以調整通過半影放大器(1)之射束之x方向之相位空間分布中的β加速器相位；後段四極電磁鐵(4)係用以將從半影放大器(1)至等中心(IC)的β加速器相位的相位進角調整為90度的奇數倍數±45度的範圍。
简体摘要：本发明之目的为不会将射束尺寸增大为不必要的程度，而可输送其端部之粒子数的变化和缓之分布的带电粒子射束。射束输送系统(30)所具备之射束整形设备(10)系具备：前段四极电磁铁(3)，当将垂直于带电粒子射束的行进方向且从射束的中心通过急端部的方向定为x方向时，前段四极电磁铁(3)系将射束中之带电粒子之相对于x方向之行进方向之斜率的x角度成分(x’)的分布宽度减小；半影放大器(1)，用以使通过前段四极电磁铁(3)之射束中之x角度成分(x’)之粒子数分布的端部形状和缓；及后段四极电磁铁(4)，用以调整通过半影放大器(1)之射束之x方向之相位空间分布中的β加速器相位；后段四极电磁铁(4)系用以将从半影放大器(1)至等中心(IC)的β加速器相位的相位进角调整为90度的奇数倍数±45度的范围。

9. 发明专利

TWI510267B 粒子射線治療系統及該粒子射線束位置補正方法有权
简体标题：粒子射线治疗系统及该粒子射线束位置补正方法
公开(公告)号：TWI510267B
公开(公告)日：2015-12-01
申请号：TW101141099
申请日：2012-11-06
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：花川和之 , HANAKAWA, KAZUSHI , 菅原賢悟 , SUGAHARA, KENGO , 小田原周平 , ODAWARA, SHUHEI , 原田久 , HARADA, HISASHI , 池田昌廣 , IDEDA, MASAHIRO , 大谷利宏 , OTANI, TOSHIHIRO , 本田泰三 , HONDA, TAIZO , 吉田克久 , YOSHIDA, KATSUHISA
IPC分类号： A61N5/10 , G21K5/04
CPC分类号： A61N5/1042 , A61N5/1043 , A61N5/1067 , A61N2005/1087 , H05H7/04 , H05H2007/048 , H05H2277/11

10. 发明专利

TWI433698B 線量監視裝置的感度修正方法及粒子線治療裝置有权
简体标题：线量监视设备的感度修正方法及粒子线治疗设备
公开(公告)号：TWI433698B
公开(公告)日：2014-04-11
申请号：TW100137488
申请日：2011-10-17
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：大谷利宏 , OTANI, TOSHIHIRO , 原田久 , HARADA, HISASHI , 池田昌廣 , IKEDA, MASAHIRO , 花川和之 , HANAKAWA, KAZUSHI , 本田泰三 , HONDA, TAIZO
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： H01J37/304 , A61N5/1048 , A61N5/1071 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , H01J47/02

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