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1. 发明专利

TW201826889A 圓形加速器的高頻加速裝置及圓形加速器审中-公开
简体标题：圆形加速器的高频加速设备及圆形加速器
公开(公告)号：TW201826889A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106144827
申请日：2017-12-20
申请人：日商三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：岩脇智行 , IWAWAKI, TOMOYUKI , 山本和男 , YAMAMOTO, KAZUO , 宮下裕次 , MIYASHITA, YUJI , 坂本裕介 , SAKAMOTO, YUSUKE , 井上啓 , INOUE, HIROSHI , 永友大士 , NAGATOMO, HIROSHI
IPC分类号： H05H13/02
摘要：本發明之目的為將對應於靜電電容調整幅度而變化之共振頻率的調整帶域予以大幅變更而不會狹帶域化。本發明之圓形加速器的高頻加速裝置(2)係包括：傳送線路(8)，係具有內導體(17)及包圍內導體(17)的外導體(16)，且傳送高頻電力至電極(6、7)；以及可變電容性電抗元件(11)及頻率調整機構(43)，係變更加速腔(42)的共振頻率；頻率調整機構(43)係包括：調整機構內導體(12)，係連接於傳送線路(8)的內導體(17)，而且朝從內導體(17)離開的方向延伸；調整機構外導體(14)，係連接於傳送線路(8)的外導體(16)，而且包住調整機構內導體(12)；可動短路板(13)，係由導體所構成，且電性連接調整機構內導體(12)與調整機構外導體(14)，而且配置成可變更與調整機構內導體(12)及調整機構外導體(14)的連接位置。
简体摘要：本发明之目的为将对应于静电电容调整幅度而变化之共振频率的调整带域予以大幅变更而不会狭带域化。本发明之圆形加速器的高频加速设备(2)系包括：发送线路(8)，系具有内导体(17)及包围内导体(17)的外导体(16)，且发送高频电力至电极(6、7)；以及可变电容性电抗组件(11)及频率调整机构(43)，系变更加速腔(42)的共振频率；频率调整机构(43)系包括：调整机构内导体(12)，系连接于发送线路(8)的内导体(17)，而且朝从内导体(17)离开的方向延伸；调整机构外导体(14)，系连接于发送线路(8)的外导体(16)，而且包住调整机构内导体(12)；可动短路板(13)，系由导体所构成，且电性连接调整机构内导体(12)与调整机构外导体(14)，而且配置成可变更与调整机构内导体(12)及调整机构外导体(14)的连接位置。

2. 发明专利

TWI628670B 粒子射線治療裝置有权
简体标题：粒子射线治疗设备
公开(公告)号：TWI628670B
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW105138235
申请日：2016-11-22
申请人：日商三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：本田泰三 , HONDA, TAIZO , 髙橋功 , TAKAHASHI, ISAO , 花川和之 , HANAKAWA, KAZUSHI , 池田昌広 , IKEDA, MASAHIRO , 横井武一郎 , YOKOI, TAKEICHIRO , 坂本裕介 , SAKAMOTO, YUSUKE , 神谷亮平 , KAMIYA, RYOHEI
IPC分类号： G21G4/08 , A61N5/10

3. 发明专利

TW201735966A 粒子線治療系統审中-公开
简体标题：粒子线治疗系统
公开(公告)号：TW201735966A
公开(公告)日：2017-10-16
申请号：TW105129755
申请日：2016-09-13
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：坂本裕介 , SAKAMOTO, YUSUKE , 大奈津子 , OTSUKA, NATSUKO , 角尾卓紀 , TSUNO, TAKANORI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/10
摘要：一種粒子線治療系統，係具備：粒子線產生裝置(30)，產生照射至屬於照射對象之患者的患部的粒子線；及X線攝像裝置(50)，將X線照射至照射對象而進行X線圖像的攝像；該粒子線治療系統係具有：可將粒子線射出至照射對象的治療射束可射出期間；及無法將粒子線射出至照射對象的治療射束無法射出期間；X線攝像裝置(50)係在屬於包含治療射束可射出期間之至少一部分的期間的X線攝像期間，將照射對象的X線圖像的攝像訊框率設為第一訊框率，而在X線攝像期間以外的期間，使攝像訊框率較前述第一訊框率更為降低。
简体摘要：一种粒子线治疗系统，系具备：粒子线产生设备(30)，产生照射至属于照射对象之患者的患部的粒子线；及X线摄像设备(50)，将X线照射至照射对象而进行X线图像的摄像；该粒子线治疗系统系具有：可将粒子线射出至照射对象的治疗射束可射出期间；及无法将粒子线射出至照射对象的治疗射束无法射出期间；X线摄像设备(50)系在属于包含治疗射束可射出期间之至少一部分的期间的X线摄像期间，将照射对象的X线图像的摄像讯框率设为第一讯框率，而在X线摄像期间以外的期间，使摄像讯框率较前述第一讯框率更为降低。

4. 发明专利

TW201719470A 治療計畫裝置审中-公开
简体标题：治疗计划设备
公开(公告)号：TW201719470A
公开(公告)日：2017-06-01
申请号：TW105120489
申请日：2016-06-29
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：坂本裕介 , SAKAMOTO, YUSUKE , 花川和之 , HANAKAWA, KAZUSHI
IPC分类号： G06F19/26 , A61N5/10
CPC分类号： A61N5/10
摘要：治療計畫裝置係包括：X光圖像位置不確定性演算部，係預測藉由所暫定之X光強度所獲得之X光圖像的清晰度而演算患部的位置不確定性；治療用放射線照射參數演算部，係依據所演算之患部的位置不確定性來演算治療用放射線的照射參數；X光照射量演算部，係演算由X光攝影裝置依據所暫定的X光強度對患者照射之X光照射量；治療用放射線線量分布演算部，係使用所演算之治療用放射線的照射參數，演算照射至患者之治療用放射線的線量分布；以及顯示器，係顯示所演算之X光照射量及所演算之治療用放射線線量分布。
简体摘要：治疗计划设备系包括：X光图像位置不确定性演算部，系预测借由所暂定之X光强度所获得之X光图像的清晰度而演算患部的位置不确定性；治疗用放射线照射参数演算部，系依据所演算之患部的位置不确定性来演算治疗用放射线的照射参数；X光照射量演算部，系演算由X光摄影设备依据所暂定的X光强度对患者照射之X光照射量；治疗用放射线线量分布演算部，系使用所演算之治疗用放射线的照射参数，演算照射至患者之治疗用放射线的线量分布；以及显示器，系显示所演算之X光照射量及所演算之治疗用放射线线量分布。

5. 发明专利

TWI549713B 粒子線照射室有权
简体标题：粒子线照射室
公开(公告)号：TWI549713B
公开(公告)日：2016-09-21
申请号：TW103112970
申请日：2014-04-09
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：春名延是 , HARUNA, NOBUYUKI , 坂本裕介 , SAKAMOTO, YUSUKE , 片寄雅 , KATAYOSE, TADASHI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1081 , A61N5/10 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , A61N2005/1094 , G21F7/005

6. 发明专利

TWI612493B 線量分布演算裝置及具有線量分布演算裝置之粒子射線治療裝置有权
简体标题：线量分布演算设备及具有线量分布演算设备之粒子射线治疗设备
公开(公告)号：TWI612493B
公开(公告)日：2018-01-21
申请号：TW105140414
申请日：2016-12-07
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：坂本裕介 , SAKAMOTO, YUSUKE , 西沢志 , NISHIZAWA, HIROSHI , 林真照 , HAYASHI, MASATERU , 東哲史 , AZUMA, TETSUSHI , 笹野理 , SASANO, MAKOTO , 本田泰三 , HONDA, TAIZO
IPC分类号： G06Q50/22 , G06F11/28 , A61N5/10
CPC分类号： A61N5/10

7. 发明专利

TW201538200A 粒子線治療計畫裝置，以及粒子線照射的模擬方法审中-公开
简体标题：粒子线治疗计划设备，以及粒子线照射的仿真方法
公开(公告)号：TW201538200A
公开(公告)日：2015-10-16
申请号：TW103125637
申请日：2014-07-28
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：蒲越虎 , PU, YUEHU , 坂本裕介 , SAKAMOTO, YUSUKE , 山田由希子 , YAMADA, YUKIKO , 池田昌広 , IKEDA, MASAHIRO , 冨士英輝 , FUJI, HIDEKI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1031 , A61N5/10 , A61N2005/1087
摘要：本發明之粒子線照射的模擬方法係具備：副射束近似步驟，係以分別具有高斯分佈之複數個副射束的集合來近似粒子線；以及副射束線量分佈演算步驟，係模擬複數個副射束之各個副射束被藉由掃描裝置偏向而行進之狀態，藉此演算各個副射束形成於患者內部之各個副射束線量分佈，並藉由累加所演算之各個副射束線量分佈，而求出粒子線形成於患者內部之線量分佈。
简体摘要：本发明之粒子线照射的仿真方法系具备：副射束近似步骤，系以分别具有高斯分布之复数个副射束的集合来近似粒子线；以及副射束线量分布演算步骤，系仿真复数个副射束之各个副射束被借由扫描设备偏向而行进之状态，借此演算各个副射束形成于患者内部之各个副射束线量分布，并借由累加所演算之各个副射束线量分布，而求出粒子线形成于患者内部之线量分布。

8. 发明专利

TWI589328B 粒子線治療計畫裝置，以及粒子線照射的模擬方法有权
简体标题：粒子线治疗计划设备，以及粒子线照射的仿真方法
公开(公告)号：TWI589328B
公开(公告)日：2017-07-01
申请号：TW103125637
申请日：2014-07-28
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：蒲越虎 , PU, YUEHU , 坂本裕介 , SAKAMOTO, YUSUKE , 山田由希子 , YAMADA, YUKIKO , 池田昌広 , IKEDA, MASAHIRO , 冨士英輝 , FUJI, HIDEKI
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1031 , A61N5/10 , A61N2005/1087

9. 发明专利

TW201701921A 線量分布演算裝置、粒子線治療裝置，及線量分布演算方法审中-公开
简体标题：线量分布演算设备、粒子线治疗设备，及线量分布演算方法
公开(公告)号：TW201701921A
公开(公告)日：2017-01-16
申请号：TW104134658
申请日：2015-10-22
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：坂本裕介 , SAKAMOTO, YUSUKE , 西沢志 , NISHIZAWA, HIROSHI , 林真照 , HAYASHI, MASATERU , 東哲史 , AZUMA, TETSUSHI , 山本和男 , YAMAMOTO, KAZUO , 平野有希子 , HIRANO, YUKIKO , 前田奈津子 , MAEDA, NATSUKO , 服部絵理 , HATTORI, ERI , 本田泰三 , HONDA, TAIZO , 岸井保人 , KISHII, YASUTO
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/10
摘要：本發明之目的在於實現無須高位置解析度之線量檢測器，且可將靜態及動態的不確定性皆排除之患者QA。本發明之線量分布演算裝置(10)係包括：射束資訊記憶部(測量能量記憶部(14)、測量電荷記憶部(12)、測量射束中心軸記憶部(13))，於對屬於治療對象的代替物之假體(21)照射粒子射束(20)之確認照射中，藉由測量裝置測量粒子線治療裝置(50)所產生之粒子射束(20)的粒子射束資訊，而該射束資訊記憶部記憶該測量粒子射束資訊；以及合計線量演算部(15)，係依據測量粒子射束資訊(測量能量(E)、測量射束量(測量電荷數(Q))、測量射束中心軸位置(Px,Py))來演算照射線量分布(合計線量分布(Di))。
简体摘要：本发明之目的在于实现无须高位置分辨率之线量检测器，且可将静态及动态的不确定性皆排除之患者QA。本发明之线量分布演算设备(10)系包括：射束信息记忆部(测量能量记忆部(14)、测量电荷记忆部(12)、测量射束中心轴记忆部(13))，于对属于治疗对象的代替物之假体(21)照射粒子射束(20)之确认照射中，借由测量设备测量粒子线治疗设备(50)所产生之粒子射束(20)的粒子射束信息，而该射束信息记忆部记忆该测量粒子射束信息；以及合计线量演算部(15)，系依据测量粒子射束信息(测量能量(E)、测量射束量(测量电荷数(Q))、测量射束中心轴位置(Px,Py))来演算照射线量分布(合计线量分布(Di))。

10. 发明专利

TWI561278B 粒子線照射裝置有权
简体标题：粒子线照射设备
公开(公告)号：TWI561278B
公开(公告)日：2016-12-11
申请号：TW103126356
申请日：2014-08-01
申请人：三菱電機股份有限公司 , MITSUBISHI ELECTRIC CORPORATION
发明人：坂本裕介 , SAKAMOTO, YUSUKE , 蒲越虎 , PU, YUEHU , 原田久 , HARADA, HISASHI , 本田泰三 , HONDA, TAIZO
IPC分类号： A61N5/10
CPC分类号： A61N5/1071 , A61N5/10 , A61N5/1044 , A61N5/1067 , A61N5/1077 , A61N2005/1087

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