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1. 发明专利

TWI481044B 太陽能集光結構有权
简体标题：太阳能集光结构
公开(公告)号：TWI481044B
公开(公告)日：2015-04-11
申请号：TW098108494
申请日：2009-03-16
申请人：成功大學 , NATIONAL CHENG-KUNG UNIVERSITY
发明人：洪昭南 , HONG, CHAUNAN , 朱淑君 , CHU, SHUCHUN , 余王傑 , YU, WANGCHIEH , 張善斌 , CHANG, SHANBIN , 洪敏雄 , HON, MINHSIUNG
IPC分类号： H01L31/042
CPC分类号： Y02E10/50

2. 发明专利

TW200921270A 表面修飾轉印技術製作氧化物薄膜圖案之方法失效
简体标题：表面修饰转印技术制作氧化物薄膜图案之方法
公开(公告)号：TW200921270A
公开(公告)日：2009-05-16
申请号：TW096142819
申请日：2007-11-13
申请人：國立成功大學 NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY
发明人：洪敏雄 , 許明祺 , 呂英治 , 孫郁明 , 洪昭南
IPC分类号： G03F , H01L
摘要：一種表面修飾轉印技術製作氧化物薄膜圖案之方法,包含:(A)準備一模具與一基板。(B)在該模具上披覆一個電解質單元。(C)利用液相沈積法於該電解質單元上披覆一層氧化物薄膜層。(D)在該基板表面披覆一層輔助轉印層。(E)將模具與基板貼附壓合,該氧化物薄膜層即轉印附著於該輔助轉印層上,以形成氧化物薄膜圖案。藉由電解質單元來作模具表面的親水性修飾處理,以利於後續使用液相沈積法將氧化物薄膜層沈積於該模具上,故本發明的製程快速簡單、成本低,並實現氧化物薄膜圖案之轉移技術。
简体摘要：一种表面修饰转印技术制作氧化物薄膜图案之方法,包含:(A)准备一模具与一基板。(B)在该模具上披覆一个电解质单元。(C)利用液相沉积法于该电解质单元上披覆一层氧化物薄膜层。(D)在该基板表面披覆一层辅助转印层。(E)将模具与基板贴附压合,该氧化物薄膜层即转印附着于该辅助转印层上,以形成氧化物薄膜图案。借由电解质单元来作模具表面的亲水性修饰处理,以利于后续使用液相沉积法将氧化物薄膜层沉积于该模具上,故本发明的制程快速简单、成本低,并实现氧化物薄膜图案之转移技术。

3. 发明专利

TW200916559A 具釓鋁石榴石結構的螢光材料失效
简体标题：具钆铝石榴石结构的萤光材料
公开(公告)号：TW200916559A
公开(公告)日：2009-04-16
申请号：TW096138478
申请日：2007-10-15
申请人：國立成功大學 NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY
发明人：洪敏雄 , 江建志 , 蔡明雄
IPC分类号： C09K
CPC分类号： Y02B20/181
摘要：一種具釓鋁石榴石結構的螢光材料,其組成包含:(Gd3-x-zAxCez)(Al5-yBy)O12,所述A、B皆選自下列材料所構成之族群:Lu、In、Ga、Sc,及其組合,且0≦x≦1.5,0≦y
简体摘要：一种具钆铝石榴石结构的萤光材料,其组成包含:(Gd3-x-zAxCez)(Al5-yBy)O12,所述A、B皆选自下列材料所构成之族群:Lu、In、Ga、Sc,及其组合,且0≦x≦1.5,0≦y<5,0

4. 发明专利

TW200917333A 製作具微結構壓印模具之方法审中-公开
简体标题：制作具微结构压印模具之方法
公开(公告)号：TW200917333A
公开(公告)日：2009-04-16
申请号：TW096138049
申请日：2007-10-11
申请人：國立成功大學 NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY
发明人：汪冠銘 , 呂英治 , 方冠榮 , 洪昭南 , 洪敏雄
IPC分类号： H01L , B81B , G11B
摘要：一種製作具微結構壓印模具之方法,係於一基板之一面上塗佈有光阻層;利用一光源配合具有所需模具圖形之光罩於光阻層上進行曝光及顯影,使光阻層於基板上形成與模具圖形相反之光阻圖案層;再於光阻圖案層及基板上電鍍沉積一導電薄膜層;之後於導電薄膜層上進行電鑄,使該導電薄膜層上形成有所需厚度之電鑄層;最後以化學溶液浸泡將殘留之光阻圖案層移除,使該電鑄層與基材剝離,藉以使電鑄層形成一具微結構之金屬模具。藉此,可達到降低製程設備之成本、製程簡單、製程時間短、及晶種層被覆性較佳之功效。
简体摘要：一种制作具微结构压印模具之方法,系于一基板之一面上涂布有光阻层;利用一光源配合具有所需模具图形之光罩于光阻层上进行曝光及显影,使光阻层于基板上形成与模具图形相反之光阻图案层;再于光阻图案层及基板上电镀沉积一导电薄膜层;之后于导电薄膜层上进行电铸,使该导电薄膜层上形成有所需厚度之电铸层;最后以化学溶液浸泡将残留之光阻图案层移除,使该电铸层与基材剥离,借以使电铸层形成一具微结构之金属模具。借此,可达到降低制程设备之成本、制程简单、制程时间短、及晶种层被覆性较佳之功效。

5. 发明专利

TW200529297A 於基板上製作具有圖案之透明導電膜之方法失效
简体标题：于基板上制作具有图案之透明导电膜之方法
公开(公告)号：TW200529297A
公开(公告)日：2005-09-01
申请号：TW093104649
申请日：2004-02-24
申请人：國立成功大學 NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY
发明人：洪昭南 , 鄭樵陽 CHENG, CHIAOYANG , 洪敏雄
IPC分类号： H01L
摘要：本發明係一種於基板上製作具有圖案之透明導電膜之方法，其係於已圖案化的模具上沈積一層抗黏著層，然後將透明導電膜沈積於該模具上，再於高溫環境下進行熱處理，最後將前述具有透明導電膜之模具貼附於任意基板上，即可不經傳統的微影蝕刻，在任意基板上製作出高品質且圖案化的透明導電膜。
简体摘要：本发明系一种于基板上制作具有图案之透明导电膜之方法，其系于已图案化的模具上沉积一层抗黏着层，然后将透明导电膜沉积于该模具上，再于高温环境下进行热处理，最后将前述具有透明导电膜之模具贴附于任意基板上，即可不经传统的微影蚀刻，在任意基板上制作出高品质且图案化的透明导电膜。

6. 发明专利

TWI670672B 雲製造服務的自動建置方法、電腦程式產品、雲製造系統有权
简体标题：云制造服务的自动建置方法、电脑进程产品、云制造系统
公开(公告)号：TWI670672B
公开(公告)日：2019-09-01
申请号：TW107109885
申请日：2018-03-22
申请人：國立成功大學 , NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY
发明人：陳朝鈞 , CHEN, CHAO CHUN , 洪敏雄 , HUNG, MIN HSIUNG , 李柏儀 , LI, PO YI , 林祐全 , LIN, YU CHUAN , 劉育瑒 , LIU, YU YANG , 李珮甄 , LEE, PEI CHEN , 鄭芳田 , CHENG, FAN TIEN
IPC分类号： G06Q50/04 , G06Q30/02 , G06Q30/06 , H04L29/08

7. 发明专利

TWI533953B 具有冷卻模組之水模擬裝置有权
简体标题：具有冷却模块之水仿真设备
公开(公告)号：TWI533953B
公开(公告)日：2016-05-21
申请号：TW102112748
申请日：2013-04-10
申请人：國立成功大學 , NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY
发明人：黃文星 , HWANG, WENG SING , 付建勛 , FU, JIAN-XUN , 洪敏雄 , HUNG, MIN HSIUNG , 陳學民 , CHEN, HSUEH MIN
IPC分类号： B22D11/124

8. 发明专利

TW201421178A 工具機之加工品質的預測方法审中-公开
简体标题：工具机之加工品质的预测方法
公开(公告)号：TW201421178A
公开(公告)日：2014-06-01
申请号：TW102139801
申请日：2013-11-01
申请人：國立成功大學 , NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY
发明人：楊浩青 , YANG, HAWCHING , 丁顥 , TIENG, HAO , 洪敏雄 , HUNG, MINHSIUNG , 鄭芳田 , CHENG, FANTIEN
IPC分类号： G05B19/401
CPC分类号： G06N5/04 , G06N5/02
摘要：一種以虛擬量測(VM)為基礎之工具機之加工品質的預測方法。在此方法中，每一個產品準確度項目關聯(Correlating)至多個工具機的加工路徑。在建模階段，首先操作工具機以獲得多個建模用之工件樣本，並蒐集在工具機的操作期間與加工路徑相關聯之建模樣本的多組工件樣本偵測資料；其次，對偵測資料抑止雜訊(Denoising)後，轉換每一個建模樣本之偵測資料並對應至每一個特徵型式之樣本特徵資料；最後，量測每一工件樣本之準確度項目，並結合此方法所選出之關鍵特徵資料以建立工件之品質預測模型，可獲得每一個產品準確度項目的樣本品質預測資料。在使用階段，當輸入加工工件之關鍵特徵資料於品質預測模型後，可預測此工件各準確度項目之數值。
简体摘要：一种以虚拟量测(VM)为基础之工具机之加工品质的预测方法。在此方法中，每一个产品准确度项目关联(Correlating)至多个工具机的加工路径。在建模阶段，首先操作工具机以获得多个建模用之工件样本，并搜集在工具机的操作期间与加工路径相关联之建模样本的多组工件样本侦测数据；其次，对侦测数据抑止噪声(Denoising)后，转换每一个建模样本之侦测数据并对应至每一个特征型式之样本特征数据；最后，量测每一工件样本之准确度项目，并结合此方法所选出之关键特征数据以创建工件之品质预测模型，可获得每一个产品准确度项目的样本品质预测数据。在使用阶段，当输入加工工件之关键特征数据于品质预测模型后，可预测此工件各准确度项目之数值。

9. 发明专利

TWI403681B 太陽能集光結構有权
简体标题：太阳能集光结构
公开(公告)号：TWI403681B
公开(公告)日：2013-08-01
申请号：TW098130094
申请日：2009-09-07
申请人：國立成功大學 , NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY
发明人：洪昭南 , HONG, CHAUNAN , 朱淑君 , CHU, SHUCHUN , 余王傑 , YU, WANGCHIEH , 張善斌 , CHANG, SHANBIN , 洪敏雄 , HON, MINHSIUNG
IPC分类号： F24J2/46 , H01L31/042
CPC分类号： Y02E10/46 , Y02E10/50

10. 发明专利

TWI228760B 於基板上製作具有圖案之透明導電膜之方法失效
简体标题：于基板上制作具有图案之透明导电膜之方法
公开(公告)号：TWI228760B
公开(公告)日：2005-03-01
申请号：TW093104649
申请日：2004-02-24
申请人：國立成功大學 NATIONAL CHENG KUNG UNIVERSITY
发明人：洪昭南 , 鄭樵陽 CHENG, CHIAOYANG , 洪敏雄
IPC分类号： H01L
摘要：本發明係一種於基板上製作具有圖案之透明導電膜之方法，其係於已圖案化的模具上沈積一層抗黏著層，然後將透明導電膜沈積於該模具上，再於高溫環境下進行熱處理，最後將前述具有透明導電膜之模具貼附於任意基板上，即可不經傳統的微影蝕刻，在任意基板上製作出高品質且圖案化的透明導電膜。
简体摘要：本发明系一种于基板上制作具有图案之透明导电膜之方法，其系于已图案化的模具上沉积一层抗黏着层，然后将透明导电膜沉积于该模具上，再于高温环境下进行热处理，最后将前述具有透明导电膜之模具贴附于任意基板上，即可不经传统的微影蚀刻，在任意基板上制作出高品质且图案化的透明导电膜。

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