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1. 发明专利

TW200811926A 用於ALD與CVD之批式處理平臺 BATCH PROCESSING PLATFORM FOR ALD AND CVD 审中-公开
简体标题：用于ALD与CVD之批式处理平台 BATCH PROCESSING PLATFORM FOR ALD AND CVD
公开(公告)号：TW200811926A
公开(公告)日：2008-03-01
申请号：TW096122950
申请日：2007-06-25
申请人：應用材料股份有限公司 APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：威柏亞倫 WEBB, AARON , 伯拉羅夫亞當 BRAILOVE, ADAM , 尤都史凱約瑟夫 YUDOVSKY, JOSEPH , 梅利尼爾 MERRY, NIR , 康斯坦特安德魯 CONSTANT, ANDREW , 奎利斯亞佛瑞恩 QUILES, EFRAIN , 萊斯麥可R RICE, MICHAEL R. , 羅森蓋瑞J ROSEN, GARY J. , 沙許文尼K SHAH, VINAY K.
IPC分类号： H01L
CPC分类号： C23C16/54 , C23C16/4583 , H01L21/67173 , H01L21/67742 , H01L21/67757 , H01L21/67769 , Y10S414/14
摘要：用於ALD或CVD製程的批式處理平台具有高產量和最小佔據面積。在一實施例中,處理平台包含一大氣傳送區、至少一具緩衝室與架台的批式處理室、和一置於傳送區內的傳送機械裝置,其中傳送機械裝置具有至少一含有多個基材搬運葉片的基材傳送臂。平台可包括二批式處理室,二者間配有維修道,供進入傳送機械裝置與沉積站進行維修之用。在另一實施例中,處理平台包含至少一批式處理室、一用來傳送基材於FOUP與處理匣之間的基材傳送機械裝置、和一含有匣搬運機械裝置的匣傳送區。匣搬運機械裝置可為線性促動器或旋轉桌。
简体摘要：用于ALD或CVD制程的批式处理平台具有高产量和最小占据面积。在一实施例中,处理平台包含一大气发送区、至少一具缓冲室与架台的批式处理室、和一置于发送区内的发送机械设备,其中发送机械设备具有至少一含有多个基材搬运叶片的基材发送臂。平台可包括二批式处理室,二者间配有维修道,供进入发送机械设备与沉积站进行维修之用。在另一实施例中,处理平台包含至少一批式处理室、一用来发送基材于FOUP与处理匣之间的基材发送机械设备、和一含有匣搬运机械设备的匣发送区。匣搬运机械设备可为线性促动器或旋转桌。

2. 发明专利

TW200715449A 批式沉積工具及壓縮晶舟 BATCH DEPOSITION TOOL AND COMPRESSED BOAT 审中-公开
简体标题：批式沉积工具及压缩晶舟 BATCH DEPOSITION TOOL AND COMPRESSED BOAT
公开(公告)号：TW200715449A
公开(公告)日：2007-04-16
申请号：TW095131039
申请日：2006-08-23
申请人：應用材料股份有限公司 APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：尤都史凱約瑟夫 YUDOVSKY, JOSEPH , 庫克羅伯特C COOK, ROBERT C. , 梅利尼爾 MERRY, NIR
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67309 , H01L21/67757
摘要：本發明之態樣包含用於批次處理基材的方法與設備。在一實施例中,一壓縮晶舟係配置用以降低一批式處理室中的泵氣容積(pumping volume)。該壓縮晶舟包含一固定式晶舟與一活動式晶舟,其各自可獨立地裝載或卸載基材。該活動式晶舟與該固定式晶舟可相互交錯穿插,得以減縮該些基材之間的距離。在另一實施例中,一具有活動式基材固持件的晶舟係配置用來在不顯著增加抽氣容積的情況下提供多個基座。該活動式基材固持件可於遠離該具有多個基座的晶舟處裝載或卸載。該活動式基材固持件銜接至該晶舟,使得固持件上的基材與該等基座互相交錯穿插。本發明之多個實施例可減縮抽氣容積並提高產能,因而降低該設備使用者每個批次處理製程的成本。
简体摘要：本发明之态样包含用于批次处理基材的方法与设备。在一实施例中,一压缩晶舟系配置用以降低一批式处理室中的泵气容积(pumping volume)。该压缩晶舟包含一固定式晶舟与一活动式晶舟,其各自可独立地装载或卸载基材。该活动式晶舟与该固定式晶舟可相互交错穿插,得以减缩该些基材之间的距离。在另一实施例中,一具有活动式基材固持件的晶舟系配置用来在不显着增加抽气容积的情况下提供多个基座。该活动式基材固持件可于远离该具有多个基座的晶舟处装载或卸载。该活动式基材固持件衔接至该晶舟,使得固持件上的基材与该等基座互相交错穿插。本发明之多个实施例可减缩抽气容积并提高产能,因而降低该设备用户每个批次处理制程的成本。

3. 发明专利

TW200908202A 具有可移動式支撐座的批式反應器 THERMAL BATCH REACTOR WITH REMOVABLE SUSCEPTORS 审中-公开
简体标题：具有可移动式支撑座的批式反应器 THERMAL BATCH REACTOR WITH REMOVABLE SUSCEPTORS
公开(公告)号：TW200908202A
公开(公告)日：2009-02-16
申请号：TW097124331
申请日：2008-06-27
申请人：應用材料股份有限公司 APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：馬利尼爾 MERRY, NIR , 尤都史凱約瑟夫 YUDOVSKY, JOSEPH
IPC分类号： H01L
CPC分类号： C23C16/4586 , C23C16/46 , H01L21/67306 , H01L21/67309 , Y10T428/13
摘要：本發明提供了一種用於在批次處理腔室中均勻加熱與氣體流動的設備和方法。該設備包括石英腔體、圍繞該石英腔體的可拆式加熱部件、耦接到該石英腔體一側的注入組件以及具有可拆式基座的基材舟。在一個實施例中,該舟可配置有複數個基座以在批次處理期間控制基材加熱。
简体摘要：本发明提供了一种用于在批次处理腔室中均匀加热与气体流动的设备和方法。该设备包括石英腔体、围绕该石英腔体的可拆式加热部件、耦接到该石英腔体一侧的注入组件以及具有可拆式基座的基材舟。在一个实施例中,该舟可配置有复数个基座以在批次处理期间控制基材加热。

4. 发明专利

TW200805440A 具有擴散板和注入器組件的批次處理腔 BATCH PROCESSING CHAMBER WITH DIFFUSER PLATE AND INJECTOR ASSEMBLY 审中-公开
简体标题：具有扩散板和注入器组件的批次处理腔 BATCH PROCESSING CHAMBER WITH DIFFUSER PLATE AND INJECTOR ASSEMBLY
公开(公告)号：TW200805440A
公开(公告)日：2008-01-16
申请号：TW096115770
申请日：2007-05-03
申请人：應用材料股份有限公司 APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：尤都史凱約瑟夫 YUDOVSKY, JOSEPH , 伍泰T. NGO, TAI T. , 泰杰摩凱薩 TEJAMO, CESAR , 瑪哈賈尼梅翠伊 MAHAJANI, MAITREYEE , 麥可道格布理頓 MCDOUGALL, BRENDAN , 黃怡喬 HUANG, YI CHIAU , 庫克羅伯特C COOK, ROBERT C. , 金榮K KIM, YEONG K. , 譚亞歷山大 TAM, ALEXANDER , 布雷拉夫亞當A BRAILOVE, ADAM A. , 葛漢納耶史帝夫G GHANAYEM, STEVE G.
IPC分类号： H01L
CPC分类号： C23C16/46 , C23C16/45578 , H01L21/67109
摘要：本發明揭示一種批次處理一晶圓之設備。在一實施例中,此批次處理設備包括一鐘罐熔爐,該鐘罐熔爐具有一擴散器設置在多個氣體入口與該熔爐內基材之間,以導引腔內流動而環繞基材圓周。
简体摘要：本发明揭示一种批次处理一晶圆之设备。在一实施例中,此批次处理设备包括一钟罐熔炉,该钟罐熔炉具有一扩散器设置在多个气体入口与该熔炉内基材之间,以导引腔内流动而环绕基材圆周。

5. 发明专利

TW200529939A 用以安裝洗滌刷於軸管上之方法及設備 METHODS AND APPARATUS FOR INSTALLING A SCRUBBER BRUSH ON A MANDREL 失效
简体标题：用以安装洗涤刷于轴管上之方法及设备 METHODS AND APPARATUS FOR INSTALLING A SCRUBBER BRUSH ON A MANDREL
公开(公告)号：TW200529939A
公开(公告)日：2005-09-16
申请号：TW094102933
申请日：2005-01-31
申请人：應用材料股份有限公司 APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：尤都史凱約瑟夫 YUDOVSKY, JOSEPH , 伍泰T NGO, TAI T. , 沃福斯基里昂 VOLFOVSKI, LEON , 庫林安杜斯 COULIN, ANNE-DOUCE
IPC分类号： B08B
CPC分类号： H01L21/67046 , Y10T29/49826 , Y10T29/49895
摘要：在第一態樣，提供一種組裝一洗滌刷組件之方法。該方法至少包含以下步驟：(1)在一洗滌刷之開口插入一或多個插入件，其中該洗滌刷之該開口係由該洗滌刷之內表面界定；(2)在該洗滌刷之該開口插入一輪管，如此使該一或多個插入件位於該軸管之外表面與該洗滌刷之內表面之間；以及(3)拆卸該一或多個插入件來使該軸管之外表面接觸該洗滌刷之內表面，因而可以將該洗滌刷安裝至該軸管。亦提供許多其他態樣。
简体摘要：在第一态样，提供一种组装一洗涤刷组件之方法。该方法至少包含以下步骤：(1)在一洗涤刷之开口插入一或多个插入件，其中该洗涤刷之该开口系由该洗涤刷之内表面界定；(2)在该洗涤刷之该开口插入一轮管，如此使该一或多个插入件位于该轴管之外表面与该洗涤刷之内表面之间；以及(3)拆卸该一或多个插入件来使该轴管之外表面接触该洗涤刷之内表面，因而可以将该洗涤刷安装至该轴管。亦提供许多其他态样。

6. 发明专利

TW200818324A 用於熔爐之多區加熱器 MULTIZONE HEATER FOR FURNACE 审中-公开
简体标题：用于熔炉之多区加热器 MULTIZONE HEATER FOR FURNACE
公开(公告)号：TW200818324A
公开(公告)日：2008-04-16
申请号：TW096123605
申请日：2007-06-28
申请人：應用材料股份有限公司 APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：尤都史凱約瑟夫 YUDOVSKY, JOSEPH
IPC分类号： H01L
CPC分类号： F27B17/0025 , H01L21/67109
摘要：本發明有關於一種用以加熱半導體處理腔室之設備與方法。本發明之一實施例係提供一種用以加熱半導體處理腔室之熔爐。該熔爐包含:一加熱器,該加熱器圍繞該半導體處理腔室之多個側壁,其中該加熱器包含複數個加熱構件,該些加熱構件在至少兩個獨立控制的區域中連接;以及一殼體,其圍繞該加熱器。
简体摘要：本发明有关于一种用以加热半导体处理腔室之设备与方法。本发明之一实施例系提供一种用以加热半导体处理腔室之熔炉。该熔炉包含:一加热器,该加热器围绕该半导体处理腔室之多个侧壁,其中该加热器包含复数个加热构件,该些加热构件在至少两个独立控制的区域中连接;以及一壳体,其围绕该加热器。

7. 发明专利

TW200613668A 用以調整刷洗器皮帶張力的方法及設備 METHODS AND APPARATUS FOR ADJUSTING BELT TENSION OF A SCRUBBER 审中-公开
简体标题：用以调整刷洗器皮带张力的方法及设备 METHODS AND APPARATUS FOR ADJUSTING BELT TENSION OF A SCRUBBER
公开(公告)号：TW200613668A
公开(公告)日：2006-05-01
申请号：TW094127213
申请日：2005-08-10
申请人：應用材料股份有限公司 APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：尤都史凱約瑟夫 YUDOVSKY, JOSEPH , 伍泰T NGO, TAI T. , 庫林安杜斯 COULIN, ANNE-DOUCE
IPC分类号： F16H
CPC分类号： F16H7/14 , F16H7/12 , F16H2007/088
摘要：在第一態樣，係提供一種用以調整半導體元件製造工具之皮帶張力之方法及設備。第一方法包括(1)連結一彈性元件至一連結至皮帶之皮帶輪及該半導體元件製造工具之固定表面之間；及(2)收緊或放鬆該彈性元件以調整該皮帶輪之高度及傾斜之至少一者及一連結至該皮帶輪之皮帶張力。本發明亦提供多種其他態樣。
简体摘要：在第一态样，系提供一种用以调整半导体组件制造工具之皮带张力之方法及设备。第一方法包括(1)链接一弹性组件至一链接至皮带之皮带轮及该半导体组件制造工具之固定表面之间；及(2)收紧或放松该弹性组件以调整该皮带轮之高度及倾斜之至少一者及一链接至该皮带轮之皮带张力。本发明亦提供多种其他态样。

8. 发明专利

TW200516642A 洗滌盒及其使用方法 SCRUBBER BOX AND METHODS FOR USING THE SAME 审中-公开
简体标题：洗涤盒及其使用方法 SCRUBBER BOX AND METHODS FOR USING THE SAME
公开(公告)号：TW200516642A
公开(公告)日：2005-05-16
申请号：TW093132793
申请日：2004-10-28
申请人：應用材料股份有限公司 APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：尤都史凱約瑟夫 YUDOVSKY, JOSEPH , 湯普曼艾薇 TEPMAN, AVI , 雷諾茲肯尼斯 REYNOLDS, KENNETH R. , 尤尼斯亞基爾 ACHKIRE, YOUNES , 馬洛爾丹恩A MAROHL, DAN A. , 葛漢納耶史帝夫G GHANAYEM, STEVE G. , 波亞克亞歷山大S POLYAK, ALEXANDER S. , 伊廷格蓋瑞 ETTINGER, GARY , 張皓川 ZHANG, HAOCHUAN , 陳暉 CHEN, HUI
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67046 , B08B1/04
摘要：本案提供一洗滌盒，其包含：一槽，適用以收納一作清洗之基材；多數支撐件，在槽之外側，適用以連接安排在槽內之洗滌用的末端；一馬達，安裝在每一支撐件上並適用以旋轉該等洗滌刷；一基部，該等支撐件係可樞轉地經由球面軸承安裝至該基部，以允許以內八字方式(toe-in)置放該洗滌刷；一刷間隙致動器，適用以經由一曲柄搖桿機制，以實質同時樞轉該等支撐件彼此接近或離開，以允許洗滌刷實質同時完成與基材之接觸或分離；及一內八字角度致動器，適用以移動兩球面軸承彼此接近或離開，以調整在洗滌刷間之內八字角(toe-in angle)。
简体摘要：本案提供一洗涤盒，其包含：一槽，适用以收纳一作清洗之基材；多数支撑件，在槽之外侧，适用以连接安排在槽内之洗涤用的末端；一马达，安装在每一支撑件上并适用以旋转该等洗涤刷；一基部，该等支撑件系可枢转地经由球面轴承安装至该基部，以允许以内八字方式(toe-in)置放该洗涤刷；一刷间隙致动器，适用以经由一曲柄摇杆机制，以实质同时枢转该等支撑件彼此接近或离开，以允许洗涤刷实质同时完成与基材之接触或分离；及一内八字角度致动器，适用以移动两球面轴承彼此接近或离开，以调整在洗涤刷间之内八字角(toe-in angle)。

9. 发明专利

TW200801228A 光激發可用於原子層沈積之介電層的化學物之方法與設備 METHOD AND APPARATUS FOR PHOTO-EXCITATION OF CHEMICALS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION OF DIELECTRIC FILM 失效
简体标题：光激发可用于原子层沉积之介电层的化学物之方法与设备 METHOD AND APPARATUS FOR PHOTO-EXCITATION OF CHEMICALS FOR ATOMIC LAYER DEPOSITION OF DIELECTRIC FILM
公开(公告)号：TW200801228A
公开(公告)日：2008-01-01
申请号：TW096115995
申请日：2007-05-04
申请人：應用材料股份有限公司 APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：席格坎瑟爾K SINGH, KAUSHALK. , 瑪哈賈尼梅翠伊 MAHAJANI, MAITREYEE , 葛漢納耶史帝夫G GHANAYEM, STEVE G. , 尤都史凱約瑟夫 YUDOVSKY, JOSEPH , 麥可道格布理頓 MCDOUGALL, BRENDAN
IPC分类号： C23C , H01L
CPC分类号： H01J37/32009 , C23C16/0209 , C23C16/0245 , C23C16/045 , C23C16/34 , C23C16/403 , C23C16/405 , C23C16/4405 , C23C16/45504 , C23C16/45508 , C23C16/45574 , C23C16/45591 , C23C16/4583 , C23C16/46 , C23C16/482 , C23C16/509
摘要：本發明大體來說提供一種沉積材料的方法,並且更明確地說,本發明之實施例係有關於使用光激發技術來沉積阻障層、種層、導電材料、以及介電材料的化學氣相沉積製程以及原子層沉積製程。本發明之實施例大體來說提供輔助製程方法及設備,其中可執行該輔助製程以提供均勻沉積的材料。
简体摘要：本发明大体来说提供一种沉积材料的方法,并且更明确地说,本发明之实施例系有关于使用光激发技术来沉积阻障层、种层、导电材料、以及介电材料的化学气相沉积制程以及原子层沉积制程。本发明之实施例大体来说提供辅助制程方法及设备,其中可运行该辅助制程以提供均匀沉积的材料。

10. 发明专利

TW200731368A 用於在清潔模組中垂直傳送半導體基材的方法及設備 METHOD AND APPARATUS FOR VERTICAL TRANSFER OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATES IN A CLEANING MODULE 审中-公开
简体标题：用于在清洁模块中垂直发送半导体基材的方法及设备 METHOD AND APPARATUS FOR VERTICAL TRANSFER OF SEMICONDUCTOR SUBSTRATES IN A CLEANING MODULE
公开(公告)号：TW200731368A
公开(公告)日：2007-08-16
申请号：TW095116761
申请日：2006-05-11
申请人：應用材料股份有限公司 APPLIED MATERIALS, INC.
发明人：尤都史凱約瑟夫 YUDOVSKY, JOSEPH , 陳輝 CHEN, HUI
IPC分类号： H01L
CPC分类号： H01L21/67028 , H01L21/67173 , H01L21/67219 , H01L21/67742 , H01L21/67751
摘要：本發明係提供一種基材處理器。於一實施例中,該基材處理器包括一第一及第二載件,可沿著一導引件作定位。一具有兩個抓持部之第一機器人則連接至該第一載件。一具有至少一抓持部的第二機器人則耦接至該第二載件。該第一載件可相對於第二載件獨立地沿該導引件作定位。由於各載件具有獨立的控制器,第一及第二機器人的移動便可分開以增加產量。基材處理器特別適用於具有集成基材清潔器的平坦化系統。
简体摘要：本发明系提供一种基材处理器。于一实施例中,该基材处理器包括一第一及第二载件,可沿着一导引件作定位。一具有两个抓持部之第一机器人则连接至该第一载件。一具有至少一抓持部的第二机器人则耦接至该第二载件。该第一载件可相对于第二载件独立地沿该导引件作定位。由于各载件具有独立的控制器,第一及第二机器人的移动便可分开以增加产量。基材处理器特别适用于具有集成基材清洁器的平坦化系统。

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