专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW201145308A 電子線照射裝置及電子線照射方法 ELECTRON BEAM IRRADIATION APPARATUS AND ELECTRON BEAM IRRADIATING METHOD 审中-公开
简体标题：电子线照射设备及电子线照射方法 ELECTRON BEAM IRRADIATION APPARATUS AND ELECTRON BEAM IRRADIATING METHOD
公开(公告)号：TW201145308A
公开(公告)日：2011-12-16
申请号：TW100105252
申请日：2011-02-17
申请人：愛發科股份有限公司
发明人：佐竹徹 , 影山貴志
IPC分类号： G21K , B01J
CPC分类号： H01J37/3045 , C23C14/30 , H01J37/244 , H01J37/3005 , H01J2237/2445
摘要：提供一種:對於電子線之照射位置作監測,並當電子線從照射對象物而偏離了的情況時能夠將電子線輸出停止的電子線照射裝置以及電子線照射方法。若是將經由電子線之照射而從身為照射對象物(60)之主成分的元素所放出的特性X線之波長稱作第1波長,則在能夠被照射電子線之區域中的照射對象物(60)之表面區域以外的區域之至少一部份處,係被配置有放出與第1波長相異之第2波長的特性X線之外側構件。在電子線之照射中,將從照射對象物(60)和外側構件所放出之X線中的特定波長之X線的强度檢測出來,若是從檢測結果而發現異常,則使電子線停止。
简体摘要：提供一种:对于电子线之照射位置作监测,并当电子线从照射对象物而偏离了的情况时能够将电子线输出停止的电子线照射设备以及电子线照射方法。若是将经由电子线之照射而从身为照射对象物(60)之主成分的元素所放出的特性X线之波长称作第1波长,则在能够被照射电子线之区域中的照射对象物(60)之表面区域以外的区域之至少一部份处,系被配置有放出与第1波长相异之第2波长的特性X线之外侧构件。在电子线之照射中,将从照射对象物(60)和外侧构件所放出之X线中的特定波长之X线的强度检测出来,若是从检测结果而发现异常,则使电子线停止。

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式