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1. 发明专利

TWI645255B 描繪方法有权
简体标题：描绘方法
公开(公告)号：TWI645255B
公开(公告)日：2018-12-21
申请号：TW104132257
申请日：2015-09-30
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：柴田文晴 , SHIBATA, FUMIHARU , 平藤祐美子 , HIRATO, YUMIKO , 小八木康幸 , KOYAGI, YASUYUKI , 中井一博 , NAKAI, KAZUHIRO
IPC分类号： G03F7/20

2. 发明专利

TW201624144A 描繪方法审中-公开
简体标题：描绘方法
公开(公告)号：TW201624144A
公开(公告)日：2016-07-01
申请号：TW104132257
申请日：2015-09-30
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：柴田文晴 , SHIBATA, FUMIHARU , 平藤祐美子 , HIRATO, YUMIKO , 小八木康幸 , KOYAGI, YASUYUKI , 中井一博 , NAKAI, KAZUHIRO
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F7/203 , G03F7/70416 , G03F7/70558
摘要：本發明之目的在於提供一種容易於基板形成灰階數較空間調變器所能表現之曝光量之灰階數更多之圖案該描繪方法係於基板描繪圖案者。讀取記錄有對基板上之每一位置所應曝光之累積曝光量之累積曝光量分佈資料。其次，將曝光裝置1以一次曝光掃描能夠對基板曝光之最大曝光量設為Ma時，基於累積曝光量分佈資料而特定出未超過Ma之基板W上之區域R11及超過Ma之上述基板上之區域R12。其次，製作記錄有包含區域R11之區域中之各位置之曝光量資訊之圖案資料PD11、及記錄有包含區域R12之區域中之各位置之曝光量資訊之圖案資料PD12~PD14。其後，曝光裝置1將基於各圖案資料PD11~PD14而經空間調變之光照射至基板W而描繪圖案。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种容易于基板形成灰阶数较空间调制器所能表现之曝光量之灰阶数更多之图案该描绘方法系于基板描绘图案者。读取记录有对基板上之每一位置所应曝光之累积曝光量之累积曝光量分布数据。其次，将曝光设备1以一次曝光扫描能够对基板曝光之最大曝光量设为Ma时，基于累积曝光量分布数据而特定出未超过Ma之基板W上之区域R11及超过Ma之上述基板上之区域R12。其次，制作记录有包含区域R11之区域中之各位置之曝光量信息之图案数据PD11、及记录有包含区域R12之区域中之各位置之曝光量信息之图案数据PD12~PD14。其后，曝光设备1将基于各图案数据PD11~PD14而经空间调制之光照射至基板W而描绘图案。

3. 发明专利

TWI647739B 圖案形成裝置及圖案形成方法有权
简体标题：图案形成设备及图案形成方法
公开(公告)号：TWI647739B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：TW104130672
申请日：2015-09-16
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：中井一博 , NAKAI, KAZUHIRO
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20

4. 发明专利

TW201628060A 圖案形成裝置及圖案形成方法审中-公开
简体标题：图案形成设备及图案形成方法
公开(公告)号：TW201628060A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104130672
申请日：2015-09-16
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：中井一博 , NAKAI, KAZUHIRO
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20
摘要：本發明提供一種能夠提高對準處理中之處理量之技術。於對準處理中，首先對第1群之對準標記Ma0、Ma1進行利用對準相機60之拍攝，而取得第1位置資訊。控制部70根據該第1位置資訊，藉由運算而預測第2位置資訊。其後，對準相機60參照第2位置資訊之預測值拍攝第2群之對準標記Ma11~Ma14而取得第2位置資訊之實際測量值。由於對易於包含於拍攝視野65之第1群之對準標記首先進行拍攝，故而以更短時間取得第1位置資訊之實際測量值。又，對不易包含於拍攝視野65之第2群之對準標記，參照第2位置資訊之預測值進行拍攝，因此以更短時間取得第2位置資訊之實際測量值。
简体摘要：本发明提供一种能够提高对准处理中之处理量之技术。于对准处理中，首先对第1群之对准标记Ma0、Ma1进行利用对准相机60之拍摄，而取得第1位置信息。控制部70根据该第1位置信息，借由运算而预测第2位置信息。其后，对准相机60参照第2位置信息之预测值拍摄第2群之对准标记Ma11~Ma14而取得第2位置信息之实际测量值。由于对易于包含于拍摄视野65之第1群之对准标记首雪铁龙行拍摄，故而以更短时间取得第1位置信息之实际测量值。又，对不易包含于拍摄视野65之第2群之对准标记，参照第2位置信息之预测值进行拍摄，因此以更短时间取得第2位置信息之实际测量值。

5. 发明专利

TW201535064A 描繪方法及描繪裝置审中-公开
简体标题：描绘方法及描绘设备
公开(公告)号：TW201535064A
公开(公告)日：2015-09-16
申请号：TW104101588
申请日：2015-01-16
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：中井一博 , NAKAI, KAZUHIRO
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G03F9/7026
摘要：本發明係提供於藉由對具有複數個晶片區域Rc之基板W(疑似晶圓)之各晶片區域Rc照射光而執行描繪之描繪方法及描繪裝置中，可對應關於聚焦調整之問題之技術。取得表示設置於晶片區域Rc之複數個對準標記AM(基準點)各自高度之高度資訊Dh(步驟S205)，自高度資訊Dh算出表示晶片區域Rc傾斜之值(對準標記AM之高度差△H)(步驟S207)。接著，基於算出表示描繪區域傾斜之值△H之結果與焦點深度，判斷是否適合對晶片區域Rc執行描繪(步驟S208)。
简体摘要：本发明系提供于借由对具有复数个芯片区域Rc之基板W(疑似晶圆)之各芯片区域Rc照射光而运行描绘之描绘方法及描绘设备中，可对应关于聚焦调整之问题之技术。取得表示设置于芯片区域Rc之复数个对准标记AM(基准点)各自高度之高度信息Dh(步骤S205)，自高度信息Dh算出表示芯片区域Rc倾斜之值(对准标记AM之高度差△H)(步骤S207)。接着，基于算出表示描绘区域倾斜之值△H之结果与焦点深度，判断是否适合对芯片区域Rc运行描绘(步骤S208)。

6. 发明专利

TWI526865B 直接描繪裝置用之圖形使用者介面裝置、直接描繪系統、描繪區域設定方法及記錄媒體有权
简体标题：直接描绘设备用之图形用户界面设备、直接描绘系统、描绘区域设置方法及记录媒体
公开(公告)号：TWI526865B
公开(公告)日：2016-03-21
申请号：TW104103611
申请日：2015-02-03
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：古川至 , FURUKAWA, ITARU , 中井一博 , NAKAI, KAZUHIRO , 北村清志 , KITAMURA, KIYOSHI
IPC分类号： G06F17/50 , G03F7/20
CPC分类号： G06F3/048

7. 发明专利

TW201537309A 位置偏移檢測方法、位置偏移檢測裝置、描繪裝置及基板檢查裝置审中-公开
简体标题：位置偏移检测方法、位置偏移检测设备、描绘设备及基板检查设备
公开(公告)号：TW201537309A
公开(公告)日：2015-10-01
申请号：TW104101840
申请日：2015-01-20
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：中井一博 , NAKAI, KAZUHIRO
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/68
CPC分类号： G01N21/956 , G01N21/9501 , G03F9/00 , H01L21/681
摘要：本發明係一種位置偏移檢測技術，以及利用該位置偏移檢測技術進行高精度之描繪處理及準確之基板檢查，該位置偏移檢測技術可準確地求出以設置於外周部之缺口部朝向基準方向之方式定位的基板之表面相對於基準方向之旋轉位置偏移量。該位置偏移檢測技術包含：第1步驟，獲取基板表面之部分圖像；第2步驟，獲取部分圖像中所包含之複數個圖案；第3步驟，自複數個圖案選定複數個圖案對，並求出複數個圖案對中圖案間之距離互為相等之複數個等間距對；第4步驟，針對每一等間距對，基於構成該等間距對之2個圖案之位置資訊而求出2個圖案相對於基準方向的旋轉角；及第5步驟，自於第4步驟中求出之複數個旋轉角而求出旋轉位置偏移量。
简体摘要：本发明系一种位置偏移检测技术，以及利用该位置偏移检测技术进行高精度之描绘处理及准确之基板检查，该位置偏移检测技术可准确地求出以设置于外周部之缺口部朝向基准方向之方式定位的基板之表面相对于基准方向之旋转位置偏移量。该位置偏移检测技术包含：第1步骤，获取基板表面之部分图像；第2步骤，获取部分图像中所包含之复数个图案；第3步骤，自复数个图案选定复数个图案对，并求出复数个图案对中图案间之距离互为相等之复数个等间距对；第4步骤，针对每一等间距对，基于构成该等间距对之2个图案之位置信息而求出2个图案相对于基准方向的旋转角；及第5步骤，自于第4步骤中求出之复数个旋转角而求出旋转位置偏移量。

8. 发明专利

TW201843530A 描繪裝置及描繪方法审中-公开
简体标题：描绘设备及描绘方法
公开(公告)号：TW201843530A
公开(公告)日：2018-12-16
申请号：TW106142388
申请日：2017-12-04
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：長尾龍也 , NAGAO, TATSUYA , 乘光良直 , NORIMITSU, YOSHINAO , 中井一博 , NAKAI, KAZUHIRO , 北村清志 , KITAMURA, KIYOSHI
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
摘要：描繪裝置(1)之光調變部(46)，係對來自光源(43)之光進行調變。掃描機構(2)係在基板(9)上掃描藉由光調變部(46)而調變之光。控制部(6)根據描繪資料控制光調變部(46)及掃描機構(2)，以執行對基板(9)之描繪。控制部(6)具備記憶部及資料生成部。關於顯示基板(9)之始自基準狀態之伸縮程度的複數之伸縮率，記憶部係預先記憶對以各伸縮率伸縮之基板(9)進行描繪之情況之圖像的掃描長度資料(run-length data)而作為複數個之初始描繪資料。資料生成部係利用選擇描繪資料生成上述描繪資料，該選擇描繪資料，係根據基板(9)之實際的伸縮率而自複數個初始描繪資料中選出之一個初始描繪資料。藉此，可迅速且精度良好地對產生伸縮之基板(9)進行描繪。
简体摘要：描绘设备(1)之光调制部(46)，系对来自光源(43)之光进行调制。扫描机构(2)系在基板(9)上扫描借由光调制部(46)而调制之光。控制部(6)根据描绘数据控制光调制部(46)及扫描机构(2)，以运行对基板(9)之描绘。控制部(6)具备记忆部及数据生成部。关于显示基板(9)之始自基准状态之伸缩程度的复数之伸缩率，记忆部系预先记忆对以各伸缩率伸缩之基板(9)进行描绘之情况之图像的扫描长度数据(run-length data)而作为复数个之初始描绘数据。数据生成部系利用选择描绘数据生成上述描绘数据，该选择描绘数据，系根据基板(9)之实际的伸缩率而自复数个初始描绘数据中选出之一个初始描绘数据。借此，可迅速且精度良好地对产生伸缩之基板(9)进行描绘。

9. 发明专利

TW201543173A 圖案描繪裝置用之圖形使用者介面裝置、圖案描繪系統、工作通知單更新方法及記錄媒體审中-公开
简体标题：图案描绘设备用之图形用户界面设备、图案描绘系统、工作通知单更新方法及记录媒体
公开(公告)号：TW201543173A
公开(公告)日：2015-11-16
申请号：TW104105415
申请日：2015-02-16
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：古川至 , FURUKAWA, ITARU , 中井一博 , NAKAI, KAZUHIRO , 北村清志 , KITAMURA, KIYOSHI
IPC分类号： G03F7/20 , G06F3/048 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/70525
摘要：本發明之目的在於提供一種可於隨著設計資料之更新而更新工作通知單時簡易地選擇所需之工作通知單而執行更新作業的圖案描繪裝置用之圖形使用者介面裝置、圖案描繪系統、工作通知單更新方法及記錄媒體。本發明係一種圖案描繪裝置用之圖形使用者介面裝置，其係更新定義自設計資料產生描繪資料之一系列處理之工作通知單時所使用者，且包含：顯示部，其具有畫面；操作部，其操作顯示部之畫面；及顯示控制部，其控制顯示部之畫面顯示；且顯示輸入經更新之更新設計資料名之輸入部82，顯示關係到所輸入之更新設計資料名之工作通知單列表83，顯示用以對工作通知單83中經強調顯示之更新對象之工作通知單將設計資料置換成更新設計資料而進行指示之更新按鈕91。
简体摘要：本发明之目的在于提供一种可于随着设计数据之更新而更新工作通知单时简易地选择所需之工作通知单而运行更新作业的图案描绘设备用之图形用户界面设备、图案描绘系统、工作通知单更新方法及记录媒体。本发明系一种图案描绘设备用之图形用户界面设备，其系更新定义自设计数据产生描绘数据之一系列处理之工作通知单时所用户，且包含：显示部，其具有画面；操作部，其操作显示部之画面；及显示控制部，其控制显示部之画面显示；且显示输入经更新之更新设计数据名之输入部82，显示关系到所输入之更新设计数据名之工作通知单列表83，显示用以对工作通知单83中经强调显示之更新对象之工作通知单将设计数据置换成更新设计数据而进行指示之更新按钮91。

10. 发明专利

TW201513171A 描繪方法以及描繪裝置审中-公开
简体标题：描绘方法以及描绘设备
公开(公告)号：TW201513171A
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW103131464
申请日：2014-09-12
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：中井一博 , NAKAI, KAZUHIRO
IPC分类号： H01L21/027 , G03F9/00
摘要：一種描繪方法以及描繪裝置，描繪方法包括：檢測設置在基板的多個晶片的對準標記的位置，算出距正規位置的位置偏移量。如果是各對準標記間的相對的位置偏移較小的線性偏移，使平臺只移動所求出的移動量而調整描繪位置。在非線性偏移的情況下，推定並實際測量另外的對準標記的位置，如果推定位置與實際位置之間的位置偏移小，修正柵格資料，如果推定位置與實際位置之間的位置偏移大，藉由對準標記檢測而求出各晶片的位置，並進行重新的柵格圖像加工處理。
简体摘要：一种描绘方法以及描绘设备，描绘方法包括：检测设置在基板的多个芯片的对准标记的位置，算出距正规位置的位置偏移量。如果是各对准标记间的相对的位置偏移较小的线性偏移，使平台只移动所求出的移动量而调整描绘位置。在非线性偏移的情况下，推定并实际测量另外的对准标记的位置，如果推定位置与实际位置之间的位置偏移小，修正栅格数据，如果推定位置与实际位置之间的位置偏移大，借由对准标记检测而求出各芯片的位置，并进行重新的栅格图像加工处理。

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