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1. 发明专利

TW201705249A 基板處理裝置、基板處理系統以及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备、基板处理系统以及基板处理方法
公开(公告)号：TW201705249A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105103499
申请日：2016-02-03
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO,. LTD.
发明人：村元僚 , MURAMOTO, RYO , 高橋光和 , TAKAHASHI, MITSUKAZU
IPC分类号： H01L21/304
CPC分类号： H01L21/67051 , H01L21/6715
摘要：頂板係於第一位置中被對向構件保持部保持，並於第二位置中被基板保持部保持且與基板保持部一起旋轉。在基板處理裝置中，控制部係控制第一處理液供給部、第二處理液供給部以及噴嘴移動機構，藉此第一處理液噴嘴係在位於頂板的被保持部內的供給位置的狀態下經由對向構件開口將第一處理液供給至基板，且第一處理液噴嘴係從供給位置移動至退避位置。並且，第二處理液噴嘴係從退避位置移動至供給位置，並經由對向構件開口將第二處理液供給至基板。如此，與從一個處理液噴嘴依序供給複數種類的處理液的情形相比，能抑制或防止複數種類的處理液的混液。
简体摘要：顶板系于第一位置中被对向构件保持部保持，并于第二位置中被基板保持部保持且与基板保持部一起旋转。在基板处理设备中，控制部系控制第一处理液供给部、第二处理液供给部以及喷嘴移动机构，借此第一处理液喷嘴系在位于顶板的被保持部内的供给位置的状态下经由对向构件开口将第一处理液供给至基板，且第一处理液喷嘴系从供给位置移动至退避位置。并且，第二处理液喷嘴系从退避位置移动至供给位置，并经由对向构件开口将第二处理液供给至基板。如此，与从一个处理液喷嘴依序供给复数种类的处理液的情形相比，能抑制或防止复数种类的处理液的混液。

2. 发明专利

TWI628737B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI628737B
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW105115489
申请日：2016-05-19
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：岩尾通矩 , IWAO, MICHINORI , 村元僚 , MURAMOTO, RYO
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/302

3. 发明专利

TW201705353A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201705353A
公开(公告)日：2017-02-01
申请号：TW105115489
申请日：2016-05-19
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：岩尾通矩 , IWAO, MICHINORI , 村元僚 , MURAMOTO, RYO
IPC分类号： H01L21/683 , H01L21/302
CPC分类号： H01L21/6708 , H01L21/67051
摘要：基板處理裝置係數個夾盤及數個卡合部配置於相較基座支持部擴展至直徑方向更外側之保持基座部之上表面，且數個卡合部相較數個夾盤位於直徑方向更外側。大致圓環狀之下部突出部係於相較保持基座部之更下方，自基座支持部擴展至直徑方向外側。杯部係藉由護罩移動機構使第1護罩於受液位置與待避位置之間於上下方向移動，而於第1護罩與第2護罩之間切換接收來自基板之處理液之護罩。下部突出部係於第1護罩位於待避位置之狀態下，朝向第1護罩頂蓋部之內周緣。藉此，便可抑制第1護罩與第2護罩之間之氣體之流動。
简体摘要：基板处理设备系数个夹盘及数个卡合部配置于相较基座支持部扩展至直径方向更外侧之保持基座部之上表面，且数个卡合部相较数个夹盘位于直径方向更外侧。大致圆环状之下部突出部系于相较保持基座部之更下方，自基座支持部扩展至直径方向外侧。杯部系借由护罩移动机构使第1护罩于受液位置与待避位置之间于上下方向移动，而于第1护罩与第2护罩之间切换接收来自基板之处理液之护罩。下部突出部系于第1护罩位于待避位置之状态下，朝向第1护罩顶盖部之内周缘。借此，便可抑制第1护罩与第2护罩之间之气体之流动。

4. 发明专利

TW201711101A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201711101A
公开(公告)日：2017-03-16
申请号：TW105117555
申请日：2016-06-03
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：岩尾通矩 , IWAO, MICHINORI , 村元僚 , MURAMOTO, RYO
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H01L21/6708 , H01L21/67051
摘要：於基板處理裝置中，藉由於噴嘴間隙之上方且處理液噴嘴之周圍設置迷宮，且朝迷宮內供給密封氣體，而自外部空間將噴嘴間隙密封。其結果，可抑制外部空間之環境氣體經由噴嘴間隙朝處理空間之侵入。此外，於頂板之對向構件凸緣部之上面設置有第1凹凸部，且於對向構件移動機構之保持部本體之下面設置有第2凹凸部。並且，僅於頂板位於第2位置之狀態下(亦即，形成有處理空間之狀態下)，藉由於第1凹凸部及第2凹凸部之一凹部內隔著間隙配置有另一凸部而形成迷宮。藉此，可實現基板處理裝置之扁平化。
简体摘要：于基板处理设备中，借由于喷嘴间隙之上方且处理液喷嘴之周围设置迷宫，且朝迷宫内供给密封气体，而自外部空间将喷嘴间隙密封。其结果，可抑制外部空间之环境气体经由喷嘴间隙朝处理空间之侵入。此外，于顶板之对向构件凸缘部之上面设置有第1凹凸部，且于对向构件移动机构之保持部本体之下面设置有第2凹凸部。并且，仅于顶板位于第2位置之状态下(亦即，形成有处理空间之状态下)，借由于第1凹凸部及第2凹凸部之一凹部内隔着间隙配置有另一凸部而形成迷宫。借此，可实现基板处理设备之扁平化。

5. 发明专利

TWI625780B 基板處理裝置有权
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TWI625780B
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW105117555
申请日：2016-06-03
申请人：思可林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：岩尾通矩 , IWAO, MICHINORI , 村元僚 , MURAMOTO, RYO
IPC分类号： H01L21/306

6. 发明专利

TWI675433B 基板反轉裝置、基板處理裝置、基板支撐裝置、基板反轉方法、基板處理方法以及基板支撐方法有权
简体标题：基板反转设备、基板处理设备、基板支撑设备、基板反转方法、基板处理方法以及基板支撑方法
公开(公告)号：TWI675433B
公开(公告)日：2019-10-21
申请号：TW107125731
申请日：2018-07-25
申请人：日商斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：村元僚 , MURAMOTO, RYO
IPC分类号： H01L21/683

7. 发明专利

TW201738988A 基板處理裝置审中-公开
简体标题：基板处理设备
公开(公告)号：TW201738988A
公开(公告)日：2017-11-01
申请号：TW106109131
申请日：2017-03-20
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：田鎖學 , TAKUSARI, MANABU , 村元僚 , MURAMOTO, RYO
IPC分类号： H01L21/67
CPC分类号： H01L21/02 , H01L21/677
摘要：本發明之基板處理裝置係將具有由外壁所包圍之內部區域，其內部區域藉由第1隔壁區劃為第1及第2基板搬送區域。基板處理裝置具備：第1及第2基板搬送機器人，係分別配置於上述第1及第2基板搬送區域；處理單元，係與上述第2基板搬送區域鄰接設置；控制部，係控制上述第1及第2基板搬送機器人的動作；選擇性電源開啟手段，係在關閉上述第1基板搬送機器人之電源之下，選擇性地開啟上述第2基板搬送機器人之電源；控制器，係將調整上述第2基板搬送機器人之動作的調整信號輸入至上述控制部；與聯鎖手段，係依各區域個別地檢測對上述第1及第2基板搬送區域之人的進入，並將對應區域之基板搬送機器人之電源關閉。
简体摘要：本发明之基板处理设备系将具有由外壁所包围之内部区域，其内部区域借由第1隔壁区划为第1及第2基板搬送区域。基板处理设备具备：第1及第2基板搬送机器人，系分别配置于上述第1及第2基板搬送区域；处理单元，系与上述第2基板搬送区域邻接设置；控制部，系控制上述第1及第2基板搬送机器人的动作；选择性电源打开手段，系在关闭上述第1基板搬送机器人之电源之下，选择性地打开上述第2基板搬送机器人之电源；控制器，系将调整上述第2基板搬送机器人之动作的调整信号输入至上述控制部；与联锁手段，系依各区域个别地检测对上述第1及第2基板搬送区域之人的进入，并将对应区域之基板搬送机器人之电源关闭。

8. 发明专利

TW201835993A 基板處理裝置及基板處理方法审中-公开
简体标题：基板处理设备及基板处理方法
公开(公告)号：TW201835993A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW106101406
申请日：2017-01-16
申请人：斯庫林集團股份有限公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：岩尾通矩 , IWAO, MICHINORI , 村元僚 , MURAMOTO, RYO
IPC分类号： H01L21/304 , H01L21/306
摘要：基板處理裝置之基板保持部係於水平狀態下保持基板(9)。基板旋轉機構使基板保持部以朝上下方向之中心軸J1為中心旋轉。頂板(5)與基板(9)之上表面相對並以中心軸(J1)為中心旋轉。氣體供給部向頂板(5)之下方之空間即下方空間之徑向中央部供給處理環境用氣體。離子產生部(8)產生離子並將其供給至來自氣體供給部之處理環境用氣體。而且，於頂板(5)位於較基板(9)之搬入時更靠下方之狀態下，使基板保持部及頂板(5)旋轉，向上述下方空間供給包含離子之處理環境用氣體，從而形成自下方空間之徑向中央部向徑向外側擴散之離子氣流。藉此，可藉由簡單之構造進行頂板(5)之去靜電。
简体摘要：基板处理设备之基板保持部系于水平状态下保持基板(9)。基板旋转机构使基板保持部以朝上下方向之中心轴J1为中心旋转。顶板(5)与基板(9)之上表面相对并以中心轴(J1)为中心旋转。气体供给部向顶板(5)之下方之空间即下方空间之径向中央部供给处理环境用气体。离子产生部(8)产生离子并将其供给至来自气体供给部之处理环境用气体。而且，于顶板(5)位于较基板(9)之搬入时更靠下方之状态下，使基板保持部及顶板(5)旋转，向上述下方空间供给包含离子之处理环境用气体，从而形成自下方空间之径向中央部向径向外侧扩散之离子气流。借此，可借由简单之构造进行顶板(5)之去静电。

9. 发明专利

TWI490938B 基板處理裝置及加熱器洗淨方法有权
简体标题：基板处理设备及加热器洗净方法
公开(公告)号：TWI490938B
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW102108439
申请日：2013-03-11
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：村元僚 , MURAMOTO, RYO
IPC分类号： H01L21/306
CPC分类号： H01L21/67115 , B08B3/024 , B08B3/04 , B08B5/02 , H01L21/31133 , H01L21/67051

10. 发明专利

TWI489575B 基板反轉裝置及基板操作方法、以及基板處理裝置有权
简体标题：基板反转设备及基板操作方法、以及基板处理设备
公开(公告)号：TWI489575B
公开(公告)日：2015-06-21
申请号：TW101125055
申请日：2012-07-12
申请人：斯克林集團公司 , SCREEN HOLDINGS CO., LTD.
发明人：村元僚 , MURAMOTO, RYO
IPC分类号： H01L21/67 , H01L21/683
CPC分类号： H01L21/68707

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