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1. 发明专利

TW201818109A 具有用於模組組件之防撞裝置的光學模組审中-公开
简体标题：具有用于模块组件之防撞设备的光学模块
公开(公告)号：TW201818109A
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：TW106126741
申请日：2017-08-08
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：哈傑斯瓊琴 , HARTJES, JOACHIM , 渥夫亞歷安卓 , WOLF, ALEXANDER , 葛納托拉夫 , GRUNER, TORALF
IPC分类号： G02B7/182 , G03F7/20
摘要：本發明關於一光學模組，其具有第一及第二組件(108,109)、支撐結構(112)以及防撞裝置(114)。第一組件(108)由支撐結構(112)所支撐且配置為鄰近第二組件(109)並與第二組件(109)相距一距離以形成一間隙。支撐結構(112)定義一相對運動路徑，第一及第二組件(108,109)在一干擾的影響下相對在相對運動路徑上相對彼此移動，若防撞裝置(114)不起作用，則發生第一及第二組件(108,109)的碰撞區域(108.1,109.1)之間的一碰撞。防撞裝置(114)包含產生第一場之在第一組件(108)上的第一防撞單元(114.1)、並包含指派給第一防撞單元(114.1)並產生第二場之在第二組件(109)上的第二防撞單元。當第一及第二組件(108,109)逐漸地接近彼此時，第一及第二場在第一組件(108)上產生抵消接近的一增加的反作用力。第一及/或第二防撞單元(114.1,114.2)包含產生部分場的複數個防撞元件，其係彼此指派使得其部分場的疊加產生一場，其場線密度隨著沿相對運動路徑離防撞單元(114.1,114.2)的距離增加而比部分場的其中一者的一場線密度降低地更為急遽。
简体摘要：本发明关于一光学模块，其具有第一及第二组件(108,109)、支撑结构(112)以及防撞设备(114)。第一组件(108)由支撑结构(112)所支撑且配置为邻近第二组件(109)并与第二组件(109)相距一距离以形成一间隙。支撑结构(112)定义一相对运动路径，第一及第二组件(108,109)在一干扰的影响下相对在相对运动路径上相对彼此移动，若防撞设备(114)不起作用，则发生第一及第二组件(108,109)的碰撞区域(108.1,109.1)之间的一碰撞。防撞设备(114)包含产生第一场之在第一组件(108)上的第一防撞单元(114.1)、并包含指派给第一防撞单元(114.1)并产生第二场之在第二组件(109)上的第二防撞单元。当第一及第二组件(108,109)逐渐地接近彼此时，第一及第二场在第一组件(108)上产生抵消接近的一增加的反作用力。第一及/或第二防撞单元(114.1,114.2)包含产生部分场的复数个防撞组件，其系彼此指派使得其部分场的叠加产生一场，其场线密度随着沿相对运动路径离防撞单元(114.1,114.2)的距离增加而比部分场的其中一者的一场线密度降低地更为急遽。

2. 发明专利

TW201812451A 光學系統、微影裝置與方法审中-公开
简体标题：光学系统、微影设备与方法
公开(公告)号：TW201812451A
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW106128082
申请日：2017-08-18
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：哈傑斯瓊琴 , HARTJES, JOACHIM
IPC分类号： G03F7/004 , G03F7/20 , G02B3/00
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B7/026 , G03F7/7095
摘要：一種用於微影裝置(100A、100B)的光學系統(200)，其具有第一組件(402)、第二組件(404)、及光學元件(300)，其中光學元件(300)以力配合接合的方式保持於第一組件(402)及第二組件(404)之間並為此目的而受到一夾持力(FK)，其中組件(402、404)的其中至少一者包含接觸光學元件(300)並具有形狀記憶合金的軸承部分(412、412’、426)。
简体摘要：一种用于微影设备(100A、100B)的光学系统(200)，其具有第一组件(402)、第二组件(404)、及光学组件(300)，其中光学组件(300)以力配合接合的方式保持于第一组件(402)及第二组件(404)之间并为此目的而受到一夹持力(FK)，其中组件(402、404)的其中至少一者包含接触光学组件(300)并具有形状记忆合金的轴承部分(412、412’、426)。

3. 发明专利

TWI701517B 光學構件有权
简体标题：光学构件
公开(公告)号：TWI701517B
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW104141256
申请日：2015-12-09
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：派崔麥可 , PATRA, MICHAEL , 渥夫亞歷安卓 , WOLF, ALEXANDER , 斯克瓦伯馬可斯 , SCHWAB, MARKUS , 葛納托拉夫 , GRUNER, TORALF , 哈傑斯瓊琴 , HARTJES, JOACHIM
IPC分类号： G03F7/20

4. 发明专利

TW202026608A 用於確定微影光學系統中光學元件的加熱狀態的方法和設備审中-公开
简体标题：用于确定微影光学系统中光学组件的加热状态的方法和设备
公开(公告)号：TW202026608A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108130537
申请日：2019-08-27
申请人：德商卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：渥夫亞歷安卓 , WOLF, ALEXANDER , 葛納托拉夫 , GRUNER, TORALF , 哈傑斯瓊琴 , HARTJES, JOACHIM , 佐特安迪 , ZOTT, ANDY
IPC分类号： G01K11/00 , G02B7/18 , G03F7/20
摘要：本發明係關於用以確定微影光學系統中光學元件的加熱狀態的方法和設備，該方法包含以下步驟：使用一光源(303)產生穿透該光學元件(200、300)的一第一部分光束(310)，以及產生不穿透該光學元件的一第二部分光束(320)；及基於量測該第一部分光束和該第二部分光束之間的該飛行時間差以確定該光學元件的該加熱狀態，其中該第一部分光束(310)和該第二部分光束(320)在該光學元件(200、300)的不同面上被反射。
简体摘要：本发明系关于用以确定微影光学系统中光学组件的加热状态的方法和设备，该方法包含以下步骤：使用一光源(303)产生穿透该光学组件(200、300)的一第一部分光束(310)，以及产生不穿透该光学组件的一第二部分光束(320)；及基于量测该第一部分光束和该第二部分光束之间的该飞行时间差以确定该光学组件的该加热状态，其中该第一部分光束(310)和该第二部分光束(320)在该光学组件(200、300)的不同面上被反射。

5. 发明专利

TW201626115A 光學構件审中-公开
简体标题：光学构件
公开(公告)号：TW201626115A
公开(公告)日：2016-07-16
申请号：TW104141256
申请日：2015-12-09
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：派崔麥可 , PATRA, MICHAEL , 渥夫亞歷安卓 , WOLF, ALEXANDER , 斯克瓦伯馬可斯 , SCHWAB, MARKUS , 葛納托拉夫 , GRUNER, TORALF , 哈傑斯瓊琴 , HARTJES, JOACHIM
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G02B27/283 , B29C55/023 , G02F1/1333 , G02F1/29 , G02F1/315 , G03F7/70033 , G03F7/702 , G03F7/70208 , G03F7/70558 , G03F7/70991
摘要：用以從一集中輸出光束(8)耦合輸出一個別輸出光束(10i)的一光學構件(42)包含複數個輻射反射區域(43i)，其係分組使得相同群組(i)的區域(43i)用以導引個別輸出光束(10i)的不同部分光束(12i)至相同的掃描器(3i)。
简体摘要：用以从一集中输出光束(8)耦合输出一个别输出光束(10i)的一光学构件(42)包含复数个辐射反射区域(43i)，其系分组使得相同群组(i)的区域(43i)用以导引个别输出光束(10i)的不同部分光束(12i)至相同的扫描仪(3i)。

6. 发明专利

TW201411294A 用於微影製程之包含光學距離量測系統的投影曝光設備审中-公开
简体标题：用于微影制程之包含光学距离量测系统的投影曝光设备
公开(公告)号：TW201411294A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW102125697
申请日：2013-07-18
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：渥夫亞歷安卓 , WOLF, ALEXANDER , 斯克瓦伯馬可斯 , SCHWAB, MARKUS , 葛納托拉夫 , GRUNER, TORALF , 哈傑斯瓊琴 , HARTJES, JOACHIM
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G01B11/14 , G03F7/70775 , G03F7/7085 , H01J37/317 , H01J2237/0203 , H01J2237/31777 , H05G2/008
摘要：本發明說明揭露一種用於微影製程的投影曝光設備(10)，包含多個光學元件(M1-M6)形成一曝光束路徑，並且包含一距離量測系統(30、130、230)，用以測量該等至少一光學元件(M1-M6)與一參考構件(40、140、240)之間的距離。所述距離量測系統包含一頻率梳型產生器(32、132、232)，其設定以產生具梳型頻率光譜的電磁輻射(36、236)。
简体摘要：本发明说明揭露一种用于微影制程的投影曝光设备(10)，包含多个光学组件(M1-M6)形成一曝光束路径，并且包含一距离量测系统(30、130、230)，用以测量该等至少一光学组件(M1-M6)与一参考构件(40、140、240)之间的距离。所述距离量测系统包含一频率梳型产生器(32、132、232)，其设置以产生具梳型频率光谱的电磁辐射(36、236)。

7. 发明专利

TWI479274B 用於ＥＵＶ微影的照射光學元件，與含有此類照射光學元件之照射系統與投射曝光裝置有权
简体标题：用于ＥＵＶ微影的照射光学组件，与含有此类照射光学组件之照射系统与投射曝光设备
公开(公告)号：TWI479274B
公开(公告)日：2015-04-01
申请号：TW098114157
申请日：2009-04-29
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：費歐卡戴米安 , FIOLKA, DAMIAN , 窩姆伯特 , WARM, BERNDT , 史坦傑渥克里斯恩 , STEIGERWALD, CHRISTIAN , 安德烈斯馬丁 , ENDRES, MARTIN , 斯圖卓勞夫 , 歐斯曼傑斯 , OSSMANN, JENS , 史卡恩韋伯勞夫 , SCHARNWEBER, RALF , 赫夫馬可斯 , HAUF, MARKUS , 丁傑烏杜 , DINGER, UDO , 渥帝斯賽夫瑞 , WALDIS, SEVERIN , 克區馬克 , KIRCH, MARC , 哈傑斯瓊琴 , HARTJES, JOACHIM
IPC分类号： G03F7/20 , G02B27/18
CPC分类号： G03F7/70191 , G03F7/70083

8. 发明专利

TW201319657A 於微影投影曝光設備中熱致動鏡之配置审中-公开
简体标题：于微影投影曝光设备中热致动镜之配置
公开(公告)号：TW201319657A
公开(公告)日：2013-05-16
申请号：TW101134433
申请日：2012-09-20
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：哈傑斯瓊琴 , HARTJES, JOACHIM
IPC分类号： G02B7/18 , G03F7/20
CPC分类号： G03F7/702 , G02B7/1815 , G02B26/0866 , G03F7/70216 , G03F7/70266 , G03F7/708 , G03F7/70891
摘要：本發明係關於在微影投影曝光設備中熱致動鏡之配置，其中鏡(901)具有光學有效面(901a)以及至少一出入通道(910、910')，至少一出入通道(910、910')係自該鏡不對應光學有效面之表面延伸於該有效面之方向，其中該配置係藉由出入通道(910)中傳播之電磁輻射針對鏡(901)之熱致動進行設計，其中該配置更具有至少一熱輻射裝置，其產生在出入通道(910、910')中傳播的電磁輻射，以及其中熱輻射裝置可沿著出入通道(910、910')致動。
简体摘要：本发明系关于在微影投影曝光设备中热致动镜之配置，其中镜(901)具有光学有效面(901a)以及至少一出入信道(910、910')，至少一出入信道(910、910')系自该镜不对应光学有效面之表面延伸于该有效面之方向，其中该配置系借由出入信道(910)中传播之电磁辐射针对镜(901)之热致动进行设计，其中该配置更具有至少一热辐射设备，其产生在出入信道(910、910')中传播的电磁辐射，以及其中热辐射设备可沿着出入信道(910、910')致动。

9. 发明专利

TWI613521B 用於微影製程之包含光學距離量測系統的投影曝光設備有权
简体标题：用于微影制程之包含光学距离量测系统的投影曝光设备
公开(公告)号：TWI613521B
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW102125697
申请日：2013-07-18
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：渥夫亞歷安卓 , WOLF, ALEXANDER , 斯克瓦伯馬可斯 , SCHWAB, MARKUS , 葛納托拉夫 , GRUNER, TORALF , 哈傑斯瓊琴 , HARTJES, JOACHIM
IPC分类号： G03F7/20
CPC分类号： G01B11/14 , G03F7/70775 , G03F7/7085 , H01J37/317 , H01J2237/0203 , H01J2237/31777 , H05G2/008

10. 发明专利

TWI574113B 光學元件有权
简体标题：光学组件
公开(公告)号：TWI574113B
公开(公告)日：2017-03-11
申请号：TW101109305
申请日：2012-03-19
申请人：卡爾蔡司SMT有限公司 , CARL ZEISS SMT GMBH
发明人：哈傑斯瓊琴 , HARTJES, JOACHIM , 費歐卡戴米安 , FIOLKA, DAMIAN , 波尼尼米特勒波茲 , PNINI-MITTLER, BOAZ
IPC分类号： G03F7/20 , G02B7/195
CPC分类号： G02B7/1815 , G02B5/0891 , G02B5/208 , G03F7/70891

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