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1. 发明专利

TWI691467B 透明玻璃陶瓷製品、玻璃陶瓷前驅物玻璃、及用於形成其之方法有权
简体标题：透明玻璃陶瓷制品、玻璃陶瓷前驱物玻璃、及用于形成其之方法
公开(公告)号：TWI691467B
公开(公告)日：2020-04-21
申请号：TW104114926
申请日：2015-05-11
申请人：美商康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：畢歐喬治哈爾西 , BEALL, GEORGE HALSEY , 史密斯夏琳瑪莉 , SMITH, CHARLENE MARIE , 提特傑史蒂芬艾爾文 , TIETJE, STEVEN ALVIN
IPC分类号： C03C10/12 , C03C10/02 , C03C3/062 , C03C3/064 , C03C3/097 , C03B32/02 , C03C21/00

2. 发明专利

TW202010719A 含有金屬氧化物濃度梯度之玻璃以及玻璃陶瓷审中-公开
简体标题：含有金属氧化物浓度梯度之玻璃以及玻璃陶瓷
公开(公告)号：TW202010719A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108142075
申请日：2015-10-08
申请人：美商康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：胡廣立 , HU, GUANGLI , 史密斯夏琳瑪莉 , SMITH, CHARLENE MARIE , 唐中幟 , TANG, ZHONGZHI , 提特傑史蒂芬艾爾文 , TIETJE, STEVEN ALVIN
IPC分类号： C03C3/093 , C03C3/091 , C03C10/00 , C03C21/00
摘要：本案揭示一種基於玻璃之物件之實施例，該基於玻璃之物件包括界定約3毫米或更小(例如約1毫米或更小)之厚度(t)的第一表面及與該第一表面相對之第二表面，及應力型態，其中在約0•t直至0.3•t與大於0.7•t之厚度範圍之間該應力型態之所有點均包含小於約-0.1 MPa/微米或大於約0.1 MPa/微米之切線。在一些實施例中，該基於玻璃之物件包括沿著至少一部分厚度(例如0•t至約0.3•t)變化之非零金屬氧化物濃度。在一些實施例中，金屬氧化物或鹼金屬氧化物之濃度自第一表面至第一表面與第二表面之間的點降低且自該點至第二表面增加。金屬氧化物之濃度可在該厚度內為約0.05 mol%或更大或約0.5 mol%或更大。亦揭示用於形成該等基於玻璃之物件之方法。
简体摘要：本案揭示一种基于玻璃之对象之实施例，该基于玻璃之对象包括界定约3毫米或更小(例如约1毫米或更小)之厚度(t)的第一表面及与该第一表面相对之第二表面，及应力型态，其中在约0•t直至0.3•t与大于0.7•t之厚度范围之间该应力型态之所有点均包含小于约-0.1 MPa/微米或大于约0.1 MPa/微米之切线。在一些实施例中，该基于玻璃之对象包括沿着至少一部分厚度(例如0•t至约0.3•t)变化之非零金属氧化物浓度。在一些实施例中，金属氧化物或碱金属氧化物之浓度自第一表面至第一表面与第二表面之间的点降低且自该点至第二表面增加。金属氧化物之浓度可在该厚度内为约0.05 mol%或更大或约0.5 mol%或更大。亦揭示用于形成该等基于玻璃之对象之方法。

3. 发明专利

TWI388034B 玻璃陶瓷為主半導體在絕緣體上結構以及其製造方法失效
简体标题：玻璃陶瓷为主半导体在绝缘体上结构以及其制造方法
公开(公告)号：TWI388034B
公开(公告)日：2013-03-01
申请号：TW098139880
申请日：2009-11-23
申请人：康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：達革勒克里多服包 , DAIGLER, CHRISTOPHER PAUL , 葛喀卡夏普魯坦 , GADKAREE, KISHOR PURUSHOTTAM , 馬克約色法郎 , MACH, JOSEPH FRANK , 帶節史提芬亞文 , TIETJE, STEVEN ALVIN
IPC分类号： H01L21/76 , H01L21/84 , H01L27/12
CPC分类号： H01L21/76254 , H01L29/78603

4. 发明专利

TWI675810B 具有金屬氧化物濃度梯度之可熔融成形的玻璃基物件有权
简体标题：具有金属氧化物浓度梯度之可熔融成形的玻璃基对象
公开(公告)号：TWI675810B
公开(公告)日：2019-11-01
申请号：TW105140810
申请日：2016-12-09
申请人：美商康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：葛羅斯提摩西麥克 , GROSS, TIMOTHY MICHAEL , 胡廣立 , HU, GUANGLI , 路瑟夫羅斯提斯拉夫費契夫 , ROUSSEV, ROSTISLAV VATCHEV , 史密斯夏琳瑪莉 , SMITH, CHARLENE MARIE , 唐中幟 , TANG, ZHONGZHI , 提特傑史蒂芬艾爾文 , TIETJE, STEVEN ALVIN
IPC分类号： C03C3/093 , C03C3/097 , C03C21/00 , G09F9/00

6. 发明专利

TW201602029A 透明玻璃陶瓷製品、玻璃陶瓷前驅物玻璃、及用於形成其之方法审中-公开
简体标题：透明玻璃陶瓷制品、玻璃陶瓷前驱物玻璃、及用于形成其之方法
公开(公告)号：TW201602029A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW104114926
申请日：2015-05-11
申请人：康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：畢歐喬治哈爾西 , BEALL, GEORGE HALSEY , 史密斯夏琳瑪莉 , SMITH, CHARLENE MARIE , 提特傑史蒂芬艾爾文 , TIETJE, STEVEN ALVIN
IPC分类号： C03C10/12 , C03C10/02 , C03C3/062 , C03C3/064 , C03C3/097 , C03B32/02 , C03C21/00
CPC分类号： C03C10/0018 , C03B32/02 , C03C3/062 , C03C3/064 , C03C3/097 , C03C4/18 , C03C21/00 , C03C21/002 , C03C2204/00
摘要：揭示了玻璃陶瓷製品及前驅物玻璃的實施例。在一個或更多個實施例中，該玻璃陶瓷製品為透明的，並包括霞石相及磷酸鹽相。該玻璃陶瓷製品是無色的，並在整個可見光譜間表現出約70%或更大的透射率。該玻璃陶瓷製品可以可選地包括鋰鋁矽酸鹽相。該玻璃陶瓷製品的晶體可以具有約100nm或更小的主剖面。
简体摘要：揭示了玻璃陶瓷制品及前驱物玻璃的实施例。在一个或更多个实施例中，该玻璃陶瓷制品为透明的，并包括霞石相及磷酸盐相。该玻璃陶瓷制品是无色的，并在整个可见光谱间表现出约70%或更大的透射率。该玻璃陶瓷制品可以可选地包括锂铝硅酸盐相。该玻璃陶瓷制品的晶体可以具有约100nm或更小的主剖面。

7. 发明专利

TWI697463B 具有金屬氧化物濃度梯度之可熔融成形的玻璃基物件有权
简体标题：具有金属氧化物浓度梯度之可熔融成形的玻璃基对象
公开(公告)号：TWI697463B
公开(公告)日：2020-07-01
申请号：TW108134150
申请日：2016-12-09
申请人：美商康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：葛羅斯提摩西麥克 , GROSS, TIMOTHY MICHAEL , 胡廣立 , HU, GUANGLI , 路瑟夫羅斯提斯拉夫費契夫 , ROUSSEV, ROSTISLAV VATCHEV , 史密斯夏琳瑪莉 , SMITH, CHARLENE MARIE , 唐中幟 , TANG, ZHONGZHI , 提特傑史蒂芬艾爾文 , TIETJE, STEVEN ALVIN
IPC分类号： C03C3/093 , C03C3/097 , C03C21/00 , G09F9/00

8. 发明专利

TW202014390A 含有金屬氧化物濃度梯度之玻璃以及玻璃陶瓷审中-公开
简体标题：含有金属氧化物浓度梯度之玻璃以及玻璃陶瓷
公开(公告)号：TW202014390A
公开(公告)日：2020-04-16
申请号：TW108142440
申请日：2015-10-08
申请人：美商康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：胡廣立 , HU, GUANGLI , 史密斯夏琳瑪莉 , SMITH, CHARLENE MARIE , 唐中幟 , TANG, ZHONGZHI , 提特傑史蒂芬艾爾文 , TIETJE, STEVEN ALVIN
IPC分类号： C03C3/093 , C03C3/091 , C03C10/00 , C03C21/00
摘要：本案揭示一種基於玻璃之物件之實施例，該基於玻璃之物件包括界定約3毫米或更小(例如約1毫米或更小)之厚度(t)的第一表面及與該第一表面相對之第二表面，及應力型態，其中在約0•t直至0.3•t與大於0.7•t之厚度範圍之間該應力型態之所有點均包含小於約-0.1 MPa/微米或大於約0.1 MPa/微米之切線。在一些實施例中，該基於玻璃之物件包括沿著至少一部分厚度(例如0•t至約0.3•t)變化之非零金屬氧化物濃度。在一些實施例中，金屬氧化物或鹼金屬氧化物之濃度自第一表面至第一表面與第二表面之間的點降低且自該點至第二表面增加。金屬氧化物之濃度可在該厚度內為約0.05 mol%或更大或約0.5 mol%或更大。亦揭示用於形成該等基於玻璃之物件之方法。
简体摘要：本案揭示一种基于玻璃之对象之实施例，该基于玻璃之对象包括界定约3毫米或更小(例如约1毫米或更小)之厚度(t)的第一表面及与该第一表面相对之第二表面，及应力型态，其中在约0•t直至0.3•t与大于0.7•t之厚度范围之间该应力型态之所有点均包含小于约-0.1 MPa/微米或大于约0.1 MPa/微米之切线。在一些实施例中，该基于玻璃之对象包括沿着至少一部分厚度(例如0•t至约0.3•t)变化之非零金属氧化物浓度。在一些实施例中，金属氧化物或碱金属氧化物之浓度自第一表面至第一表面与第二表面之间的点降低且自该点至第二表面增加。金属氧化物之浓度可在该厚度内为约0.05 mol%或更大或约0.5 mol%或更大。亦揭示用于形成该等基于玻璃之对象之方法。

9. 发明专利

TW202010718A 具有金屬氧化物濃度梯度之可熔融成形的玻璃基物件审中-公开
简体标题：具有金属氧化物浓度梯度之可熔融成形的玻璃基对象
公开(公告)号：TW202010718A
公开(公告)日：2020-03-16
申请号：TW108134150
申请日：2016-12-09
申请人：美商康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：葛羅斯提摩西麥克 , GROSS, TIMOTHY MICHAEL , 胡廣立 , HU, GUANGLI , 路瑟夫羅斯提斯拉夫費契夫 , ROUSSEV, ROSTISLAV VATCHEV , 史密斯夏琳瑪莉 , SMITH, CHARLENE MARIE , 唐中幟 , TANG, ZHONGZHI , 提特傑史蒂芬艾爾文 , TIETJE, STEVEN ALVIN
IPC分类号： C03C3/093 , C03C3/097 , C03C21/00 , G09F9/00
摘要：一種玻璃基物件，包括第一表面和第二表面及應力分佈，該第二表面與該第一表面相對並界定約3毫米或更小（例如約1毫米或更小）的厚度（t），其中在從約0·t至多達0.3·t和從大於約0.7·t至t的厚度範圍之間該應力分佈的所有點皆包含斜率的絕對值大於約0.1 MPa/微米的切線。在一些實施例中，該玻璃基物件包括非零的金屬氧化物濃度及小於約71.5/√(t)（MPa）的最大中心張力，該濃度沿著該厚度的至少一部份（例如0·t至約0.3·t）變化。在一些實施例中，金屬氧化物或鹼金屬氧化物的濃度從該第一表面減小到介於該第一表面與該第二表面之間的點，並從該點增加到該第二表面。貫穿該厚度，該金屬氧化物的濃度可以是約0.05莫耳％或更大或約0.5莫耳％或更大。還揭示了用於形成這種玻璃基物件的方法。
简体摘要：一种玻璃基对象，包括第一表面和第二表面及应力分布，该第二表面与该第一表面相对并界定约3毫米或更小（例如约1毫米或更小）的厚度（t），其中在从约0·t至多达0.3·t和从大于约0.7·t至t的厚度范围之间该应力分布的所有点皆包含斜率的绝对值大于约0.1 MPa/微米的切线。在一些实施例中，该玻璃基对象包括非零的金属氧化物浓度及小于约71.5/√(t)（MPa）的最大中心张力，该浓度沿着该厚度的至少一部份（例如0·t至约0.3·t）变化。在一些实施例中，金属氧化物或碱金属氧化物的浓度从该第一表面减小到介于该第一表面与该第二表面之间的点，并从该点增加到该第二表面。贯穿该厚度，该金属氧化物的浓度可以是约0.05莫耳％或更大或约0.5莫耳％或更大。还揭示了用于形成这种玻璃基对象的方法。

10. 发明专利

TW201806897A 包含金屬氧化物濃度梯度之玻璃基底物件审中-公开
简体标题：包含金属氧化物浓度梯度之玻璃基底对象
公开(公告)号：TW201806897A
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW106111688
申请日：2017-04-07
申请人：康寧公司 , CORNING INCORPORATED
发明人：德奈卡馬修約翰 , DEJNEKA, MATTHEW JOHN , 高曼茲希紐 , GOMEZ, SINUE , 胡廣立 , HU, GUANGLI , 史密斯夏琳瑪莉 , SMITH, CHARLENE MARIE , 唐中幟 , TANG, ZHONGZHI , 提特傑史蒂芬艾爾文 , TIETJE, STEVEN ALVIN
IPC分类号： C03C10/12 , C03C3/093 , C03C21/00 , H05K5/03
CPC分类号： C03C21/002 , C03C3/091 , C03C3/093 , C03C3/097 , C03C10/0027 , H05K5/0017 , H05K5/03
摘要：本案揭示一種玻璃基底物件之實施例，玻璃基底物件包含：第一表面及與第一表面相對的第二表面，該等表面界定約3毫米或更小(例如，約1毫米或更小)之厚度(t)；及應力分佈，其中應力分佈中介於約0•t至多0.3•t之厚度範圍與大於約0.7•t至多t之厚度範圍之間的所有點包括具有絕對值大於約0.1 MPa/微米之斜率的正切。在一些實施例中，玻璃基底物件包含非零金屬氧化物濃度，其沿厚度之至少一部分(例如，0•t至約0.3•t)變化，及在約80 MPa至約100 MPa範圍內之最大中心張力。在一些實施例中，金屬氧化物或鹼金屬氧化物之濃度自第一表面至第一表面與第二表面之間的一點處的一值減小，且自該值至第二表面增加。金屬氧化物之濃度可遍及厚度為約0.05 mol%或更大或約0.5 mol%或更大。本案亦揭示用於形成此種玻璃基底物件之方法。
简体摘要：本案揭示一种玻璃基底对象之实施例，玻璃基底对象包含：第一表面及与第一表面相对的第二表面，该等表面界定约3毫米或更小(例如，约1毫米或更小)之厚度(t)；及应力分布，其中应力分布中介于约0•t至多0.3•t之厚度范围与大于约0.7•t至多t之厚度范围之间的所有点包括具有绝对值大于约0.1 MPa/微米之斜率的正切。在一些实施例中，玻璃基底对象包含非零金属氧化物浓度，其沿厚度之至少一部分(例如，0•t至约0.3•t)变化，及在约80 MPa至约100 MPa范围内之最大中心张力。在一些实施例中，金属氧化物或碱金属氧化物之浓度自第一表面至第一表面与第二表面之间的一点处的一值减小，且自该值至第二表面增加。金属氧化物之浓度可遍及厚度为约0.05 mol%或更大或约0.5 mol%或更大。本案亦揭示用于形成此种玻璃基底对象之方法。

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