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    • 3. 发明专利
    • 包含金屬氧化物濃度梯度之玻璃基底物件
    • 包含金属氧化物浓度梯度之玻璃基底对象
    • TW202003409A
    • 2020-01-16
    • TW108133532
    • 2017-04-07
    • 美商康寧公司CORNING INCORPORATED
    • 德奈卡 馬修約翰DEJNEKA, MATTHEW JOHN高曼茲 希紐GOMEZ, SINUE胡廣立HU, GUANGLI史密斯 夏琳瑪莉SMITH, CHARLENE MARIE唐中幟TANG, ZHONGZHI提特傑 史蒂芬艾爾文TIETJE, STEVEN ALVIN
    • C03C10/00C03C21/00C03C3/091C03C3/093C03C3/097H05K5/03H05K5/00
    • 本案揭示一種玻璃基底物件之實施例,玻璃基底物件包含:第一表面及與第一表面相對的第二表面,該等表面界定約3毫米或更小(例如,約1毫米或更小)之厚度(t);及應力分佈,其中應力分佈中介於約0•t至多0.3•t之厚度範圍與大於約0.7•t至多t之厚度範圍之間的所有點包括具有絕對值大於約0.1 MPa/微米之斜率的切線。在一些實施例中,玻璃基底物件包含非零金屬氧化物濃度,其沿厚度之至少一部分(例如,0•t至約0.3•t)變化,及在約80 MPa至約100 MPa範圍內之最大中心張力。在一些實施例中,金屬氧化物或鹼金屬氧化物之濃度自第一表面至第一表面與第二表面之間的一點處的一值減小,且自該值至第二表面增加。金屬氧化物之濃度可遍及厚度為約0.05 mol%或更大或約0.5 mol%或更大。本案亦揭示用於形成此種玻璃基底物件之方法。
    • 本案揭示一种玻璃基底对象之实施例,玻璃基底对象包含:第一表面及与第一表面相对的第二表面,该等表面界定约3毫米或更小(例如,约1毫米或更小)之厚度(t);及应力分布,其中应力分布中介于约0•t至多0.3•t之厚度范围与大于约0.7•t至多t之厚度范围之间的所有点包括具有绝对值大于约0.1 MPa/微米之斜率的切线。在一些实施例中,玻璃基底对象包含非零金属氧化物浓度,其沿厚度之至少一部分(例如,0•t至约0.3•t)变化,及在约80 MPa至约100 MPa范围内之最大中心张力。在一些实施例中,金属氧化物或碱金属氧化物之浓度自第一表面至第一表面与第二表面之间的一点处的一值减小,且自该值至第二表面增加。金属氧化物之浓度可遍及厚度为约0.05 mol%或更大或约0.5 mol%或更大。本案亦揭示用于形成此种玻璃基底对象之方法。
    • 7. 发明专利
    • 含有金屬氧化物濃度梯度之玻璃以及玻璃陶瓷
    • 含有金属氧化物浓度梯度之玻璃以及玻璃陶瓷
    • TW202010719A
    • 2020-03-16
    • TW108142075
    • 2015-10-08
    • 美商康寧公司CORNING INCORPORATED
    • 胡廣立HU, GUANGLI史密斯 夏琳瑪莉SMITH, CHARLENE MARIE唐中幟TANG, ZHONGZHI提特傑 史蒂芬艾爾文TIETJE, STEVEN ALVIN
    • C03C3/093C03C3/091C03C10/00C03C21/00
    • 本案揭示一種基於玻璃之物件之實施例,該基於玻璃之物件包括界定約3毫米或更小(例如約1毫米或更小)之厚度(t)的第一表面及與該第一表面相對之第二表面,及應力型態,其中在約0•t直至0.3•t與大於0.7•t之厚度範圍之間該應力型態之所有點均包含小於約-0.1 MPa/微米或大於約0.1 MPa/微米之切線。在一些實施例中,該基於玻璃之物件包括沿著至少一部分厚度(例如0•t至約0.3•t)變化之非零金屬氧化物濃度。在一些實施例中,金屬氧化物或鹼金屬氧化物之濃度自第一表面至第一表面與第二表面之間的點降低且自該點至第二表面增加。金屬氧化物之濃度可在該厚度內為約0.05 mol%或更大或約0.5 mol%或更大。亦揭示用於形成該等基於玻璃之物件之方法。
    • 本案揭示一种基于玻璃之对象之实施例,该基于玻璃之对象包括界定约3毫米或更小(例如约1毫米或更小)之厚度(t)的第一表面及与该第一表面相对之第二表面,及应力型态,其中在约0•t直至0.3•t与大于0.7•t之厚度范围之间该应力型态之所有点均包含小于约-0.1 MPa/微米或大于约0.1 MPa/微米之切线。在一些实施例中,该基于玻璃之对象包括沿着至少一部分厚度(例如0•t至约0.3•t)变化之非零金属氧化物浓度。在一些实施例中,金属氧化物或碱金属氧化物之浓度自第一表面至第一表面与第二表面之间的点降低且自该点至第二表面增加。金属氧化物之浓度可在该厚度内为约0.05 mol%或更大或约0.5 mol%或更大。亦揭示用于形成该等基于玻璃之对象之方法。