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1. 发明专利

TWI363462B 雷射氣體注入系統 LASER GAS INJECTION SYSTEM 有权
简体标题：激光气体注入系统 LASER GAS INJECTION SYSTEM
公开(公告)号：TWI363462B
公开(公告)日：2012-05-01
申请号：TW097103713
申请日：2008-01-31
申请人：希瑪股份有限公司
发明人：丹斯坦威尼J , 歐布萊恩凱文M , 雅各斯羅伯特N , 貝索斯里埃爾維A , 萊格斯丹尼爾J , 雷特南亞拉文
IPC分类号： H01S
CPC分类号： H01S3/036 , G03F7/70025 , G03F7/70525 , G03F7/70975 , H01S3/0014 , H01S3/1305 , H01S3/1306 , H01S3/134 , H01S3/2251 , H01S3/2256
摘要：揭露一方法與裝置，其可包含預測為了一光學微影術製程為了一氣體放電雷射光源的氣體壽命，包含一包括雷射氣體之一鹵素的光源可包含：使用多數個雷射運轉輸入與/或輸出參數的至少一個、使用一組至少一在光學微影術製程中使用的參數來決定一關於各別輸入或輸出參數的氣體使用模型，以及根據模型與一各別輸入或輸出參數的測量來預測氣體壽命的末端。該參數可包含一脈衝使用圖形。該方法與裝置可包含為了一光學微影術製程為了一氣體放電雷射光源執行氣體管理，包含一包括雷射氣體之鹵素的光源包含：使用週期性與頻繁的部分氣體再充滿，其包含一注入，該注入包括一鹵素氣體與大量氣體的混合物，一般與在一完全氣體再充滿中提供給雷射之預先混合比例的配給量相同，且數量少於在注入前的總氣壓之兩個百分比。
简体摘要：揭露一方法与设备，其可包含预测为了一光学微影术制程为了一气体放电激光光源的气体寿命，包含一包括激光气体之一卤素的光源可包含：使用多数个激光运转输入与/或输出参数的至少一个、使用一组至少一在光学微影术制程中使用的参数来决定一关于各别输入或输出参数的气体使用模型，以及根据模型与一各别输入或输出参数的测量来预测气体寿命的末端。该参数可包含一脉冲使用图形。该方法与设备可包含为了一光学微影术制程为了一气体放电激光光源运行气体管理，包含一包括激光气体之卤素的光源包含：使用周期性与频繁的部分气体再充满，其包含一注入，该注入包括一卤素气体与大量气体的混合物，一般与在一完全气体再充满中提供给激光之预先混合比例的配给量相同，且数量少于在注入前的总气压之两个百分比。

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