会员体验
专利管家(专利管理)
工作空间(专利管理)
风险监控(情报监控)
数据分析(专利分析)
侵权分析(诉讼无效)
联系我们
交流群
官方交流:
QQ群: 891211   
微信请扫码    >>>
现在联系顾问~
热词
    • 4. 发明专利
    • 用於金屬電鍍之包含調平劑之組成物
    • 用于金属电镀之包含调平剂之组成物
    • TW201434967A
    • 2014-09-16
    • TW102140403
    • 2013-11-07
    • 巴斯夫歐洲公司BASF SE
    • 琴勒 馬塞 派翠克KIENLE, MARCEL PATRIK邁爾 迪耶特MAYER, DIETER羅傑 吉普福 寇內莉亞ROEGER-GOEPFERT, CORNELIA哈格 亞莉珊卓HAAG, ALEXANDRA艾姆尼 夏洛特EMNET, CHARLOTTE福路格 亞歷山大FLUEGEL, ALEXANDER亞諾 馬可ARNOLD, MARCO
    • C08L77/00C08G69/00C25D3/38C25D3/02
    • C25D3/38C23C18/38C25D3/32
    • 本發明提供一種組成物,包含金屬離子源及至少一種添加劑,該添加劑包含至少一種聚胺基醯胺,該聚胺基醯胺包含由式I表示之結構單元, 或藉由使用非芳族反應物進行完全或部分質子化、N-官能化或N-四級銨化可獲得之該式I之聚胺基醯胺的衍生物,其中對於重複單元1至s之每一者,D6獨立地為選自飽和或不飽和C1-C20有機基團之二價基團,對於重複單元1至s之每一者,D7獨立地為選自直鏈或分支鏈C2-C20烷二基之二價基團,其可視情況雜有選自O、S及NR10之雜原子或二價基團,對於重複單元1至s之每一者,R1獨立地選自H、C1-C20烷基及C1-C20烯基,其可視情況經羥基、烷氧基或烷氧基羰基取代,或連同R2一起可形成二價基團D8,且對於重複單元1至s之每一者,R2獨立地選自H、C1-C20烷基及C1-C20烯基,其可視情況經羥基、烷氧基或烷氧基羰基取代,或連同R1一起可形成二價基團D8,且D8係選自直鏈或分支鏈C1-C18烷二基,其可視情況雜有選自O、S及NR10之雜原子或二價基團,s為1至250之整數,R10係選自H、C1-C20烷基及C1-C20烯基,其可視情況經羥基、烷氧基或烷氧基羰基取代。
    • 本发明提供一种组成物,包含金属离子源及至少一种添加剂,该添加剂包含至少一种聚胺基酰胺,该聚胺基酰胺包含由式I表示之结构单元, 或借由使用非芳族反应物进行完全或部分质子化、N-官能化或N-四级铵化可获得之该式I之聚胺基酰胺的衍生物,其中对于重复单元1至s之每一者,D6独立地为选自饱和或不饱和C1-C20有机基团之二价基团,对于重复单元1至s之每一者,D7独立地为选自直链或分支链C2-C20烷二基之二价基团,其可视情况杂有选自O、S及NR10之杂原子或二价基团,对于重复单元1至s之每一者,R1独立地选自H、C1-C20烷基及C1-C20烯基,其可视情况经羟基、烷氧基或烷氧基羰基取代,或连同R2一起可形成二价基团D8,且对于重复单元1至s之每一者,R2独立地选自H、C1-C20烷基及C1-C20烯基,其可视情况经羟基、烷氧基或烷氧基羰基取代,或连同R1一起可形成二价基团D8,且D8系选自直链或分支链C1-C18烷二基,其可视情况杂有选自O、S及NR10之杂原子或二价基团,s为1至250之整数,R10系选自H、C1-C20烷基及C1-C20烯基,其可视情况经羟基、烷氧基或烷氧基羰基取代。