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1. 发明专利

TW201920358A 用於金屬電鍍之包含調平劑之組成物审中-公开
简体标题：用于金属电镀之包含调平剂之组成物
公开(公告)号：TW201920358A
公开(公告)日：2019-06-01
申请号：TW107130790
申请日：2018-09-03
申请人：德商巴斯夫歐洲公司 , BASF SE
发明人：琴勒馬塞派翠克 , KIENLE, MARCEL PATRIK , 羅傑吉普福寇內莉亞 , ROEGER-GOEPFERT, CORNELIA , 邁爾迪耶特 , MAYER, DIETER , 亞諾馬可 , ARNOLD, MARCO , 福路格亞歷山大 , FLUEGEL, ALEXANDER , 艾姆尼夏洛特 , EMNET, CHARLOTTE
IPC分类号： C08G73/02 , C25D3/38 , C25D7/12 , C25D5/02
摘要：本發明提供一種用於金屬鍍敷之組成物，其包含金屬離子源及至少一種調平劑，該調平劑包含至少一種包含式I聚合物片段之聚胺基醯胺或其可藉由完全或部分之質子化或N-四級銨化來獲得的衍生物。
简体摘要：本发明提供一种用于金属镀敷之组成物，其包含金属离子源及至少一种调平剂，该调平剂包含至少一种包含式I聚合物片段之聚胺基酰胺或其可借由完全或部分之质子化或N-四级铵化来获得的衍生物。

2. 发明专利

TW201823520A 包含用於無空隙次微米特徵填充的抑制劑之金屬電鍍用組成物审中-公开
简体标题：包含用于无空隙次微米特征填充的抑制剂之金属电镀用组成物
公开(公告)号：TW201823520A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106135923
申请日：2017-10-19
申请人：德商巴斯夫歐洲公司 , BASF SE
发明人：琴勒馬塞派翠克 , KIENLE, MARCEL PATRIK , 邁爾迪耶特 , MAYER, DIETER , 亞諾馬可 , ARNOLD, MARCO , 哈格亞莉珊卓 , HAAG, ALEXANDRA , 艾姆尼夏洛特 , EMNET, CHARLOTTE , 福路格亞歷山大 , FLUEGEL, ALEXANDER
IPC分类号： C25D3/38 , C25D7/12 , H05K3/42
摘要：一種包含金屬離子及至少一種式I化合物之組成物，其中X1及X2 係獨立地選自化學鍵及直鏈或分支C1-C18烷二基(alkanediyl)，其可視情況地被O、S及NR10間隔，X3及X4 係獨立地選自直鏈或分支C1-C18烷二基，其可視情況地被O、S及NR10間隔，R3 係選自R1、NR1R2及C1-C20烷基，其可視情況地經羥基、烷氧基或烷氧基羰基取代，Z 係選自NR1R2及，若X1係化學鍵時，選自R1，R1及R2 係獨立地選自環氧乙烷及至少一種另外的C3至C12環氧烷烴或苯環氧乙烷之共聚物，R10 係選自(a)H；(b)C1-C20烷基，其可視情況地經羥基、烷氧基或烷氧基羰基取代；及(c)C1-C20烯基，其可視情況地經羥基、烷氧基或烷氧基羰基取代。
简体摘要：一种包含金属离子及至少一种式I化合物之组成物，其中X1及X2 系独立地选自化学键及直链或分支C1-C18烷二基(alkanediyl)，其可视情况地被O、S及NR10间隔，X3及X4 系独立地选自直链或分支C1-C18烷二基，其可视情况地被O、S及NR10间隔，R3 系选自R1、NR1R2及C1-C20烷基，其可视情况地经羟基、烷氧基或烷氧基羰基取代，Z 系选自NR1R2及，若X1系化学键时，选自R1，R1及R2 系独立地选自环氧乙烷及至少一种另外的C3至C12环氧烷烃或苯环氧乙烷之共聚物，R10 系选自(a)H；(b)C1-C20烷基，其可视情况地经羟基、烷氧基或烷氧基羰基取代；及(c)C1-C20烯基，其可视情况地经羟基、烷氧基或烷氧基羰基取代。

3. 发明专利

TW201835388A 包含用於無空隙填充的抑制劑之用於金屬電鍍的組成物审中-公开
简体标题：包含用于无空隙填充的抑制剂之用于金属电镀的组成物
公开(公告)号：TW201835388A
公开(公告)日：2018-10-01
申请号：TW106144836
申请日：2017-12-20
申请人：德商巴斯夫歐洲公司 , BASF SE
发明人：琴勒馬塞派翠克 , KIENLE, MARCEL PATRIK , 邁爾迪耶特 , MAYER, DIETER , 亞諾馬可 , ARNOLD, MARCO , 哈格亞莉珊卓 , HAAG, ALEXANDRA , 艾姆尼夏洛特 , EMNET, CHARLOTTE , 福路格亞歷山大 , FLUEGEL, ALEXANDER
IPC分类号： C25D3/38 , C25D7/12
摘要：本發明係關於基於多元胺或基於多元醇之抑制劑，其在與環氧烷反應之前藉由與向所述抑制劑引入分支鏈基團的化合物反應而改質，顯示優異超填充特性，當用於填充具有極小孔口尺寸及/或高縱橫比的特徵時尤其如此。
简体摘要：本发明系关于基于多元胺或基于多元醇之抑制剂，其在与环氧烷反应之前借由与向所述抑制剂引入分支链基团的化合物反应而改质，显示优异超填充特性，当用于填充具有极小孔口尺寸及/或高纵横比的特征时尤其如此。

4. 发明专利

TW201816192A 包含用於無空隙次微米特徵塡充添加物之鈷鍍覆組成物审中-公开
简体标题：包含用于无空隙次微米特征填充添加物之钴镀覆组成物
公开(公告)号：TW201816192A
公开(公告)日：2018-05-01
申请号：TW106123747
申请日：2017-07-17
申请人：德商巴斯夫歐洲公司 , BASF SE
发明人：琴勒馬塞派翠克 , KIENLE, MARCEL PATRIK , 邁爾迪耶特 , MAYER, DIETER , 亞諾馬可 , ARNOLD, MARCO , 福路格亞歷山大 , FLUEGEL, ALEXANDER , 艾姆尼夏洛特 , EMNET, CHARLOTTE
IPC分类号： C25D3/16 , C25D7/12
摘要：本發明係關於一種組成物，其包含(a)鈷離子，和(b)式I添加物其中R1 係選自X-Y；R2 係選自R1及R3；X 係選自直鏈或支鏈C1至C10烷二基、直鏈或支鏈C2至C10烯二基、直鏈或支鏈C2至C10炔二基及(C2H3R6-O)m-H；Y 係選自OR3、NR3R4、N+R3R4R5及NH-(C=O)-R3；R3、R4、R5為相同或不同且係選自(i)H，(ii)C5至C20芳基，(iii)C1至C10烷基，(iv)C6至C20芳基烷基，(v)C6至C20烷基芳基，其可經OH、SO3H、COOH或其組合取代，及(vi)(C2H3R6-O)n-H，且其中R3及R4可以一起形成環系統，其可以被O或NR7中斷； m，n 係獨立地選自1至30的整數；R6 係選自H及C1至C5烷基；R7 係選自R6及XR3。
简体摘要：本发明系关于一种组成物，其包含(a)钴离子，和(b)式I添加物其中R1 系选自X-Y；R2 系选自R1及R3；X 系选自直链或支链C1至C10烷二基、直链或支链C2至C10烯二基、直链或支链C2至C10炔二基及(C2H3R6-O)m-H；Y 系选自OR3、NR3R4、N+R3R4R5及NH-(C=O)-R3；R3、R4、R5为相同或不同且系选自(i)H，(ii)C5至C20芳基，(iii)C1至C10烷基，(iv)C6至C20芳基烷基，(v)C6至C20烷基芳基，其可经OH、SO3H、COOH或其组合取代，及(vi)(C2H3R6-O)n-H，且其中R3及R4可以一起形成环系统，其可以被O或NR7中断； m，n 系独立地选自1至30的整数；R6 系选自H及C1至C5烷基；R7 系选自R6及XR3。

5. 发明专利

TWI609922B 用於金屬電鍍之包含調平劑之組成物有权
简体标题：用于金属电镀之包含调平剂之组成物
公开(公告)号：TWI609922B
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW102140403
申请日：2013-11-07
申请人：巴斯夫歐洲公司 , BASF SE
发明人：琴勒馬塞派翠克 , KIENLE, MARCEL PATRIK , 邁爾迪耶特 , MAYER, DIETER , 羅傑吉普福寇內莉亞 , ROEGER-GOEPFERT, CORNELIA , 哈格亞莉珊卓 , HAAG, ALEXANDRA , 艾姆尼夏洛特 , EMNET, CHARLOTTE , 福路格亞歷山大 , FLUEGEL, ALEXANDER , 亞諾馬可 , ARNOLD, MARCO
IPC分类号： C08L77/00 , C08G69/00 , C25D3/38 , C25D3/02
CPC分类号： C25D3/38 , C23C18/38 , C25D3/32

6. 发明专利

TW201434967A 用於金屬電鍍之包含調平劑之組成物审中-公开
简体标题：用于金属电镀之包含调平剂之组成物
公开(公告)号：TW201434967A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW102140403
申请日：2013-11-07
申请人：巴斯夫歐洲公司 , BASF SE
发明人：琴勒馬塞派翠克 , KIENLE, MARCEL PATRIK , 邁爾迪耶特 , MAYER, DIETER , 羅傑吉普福寇內莉亞 , ROEGER-GOEPFERT, CORNELIA , 哈格亞莉珊卓 , HAAG, ALEXANDRA , 艾姆尼夏洛特 , EMNET, CHARLOTTE , 福路格亞歷山大 , FLUEGEL, ALEXANDER , 亞諾馬可 , ARNOLD, MARCO
IPC分类号： C08L77/00 , C08G69/00 , C25D3/38 , C25D3/02
CPC分类号： C25D3/38 , C23C18/38 , C25D3/32
摘要：本發明提供一種組成物，包含金屬離子源及至少一種添加劑，該添加劑包含至少一種聚胺基醯胺，該聚胺基醯胺包含由式I表示之結構單元，或藉由使用非芳族反應物進行完全或部分質子化、N-官能化或N-四級銨化可獲得之該式I之聚胺基醯胺的衍生物，其中對於重複單元1至s之每一者，D6獨立地為選自飽和或不飽和C1-C20有機基團之二價基團，對於重複單元1至s之每一者，D7獨立地為選自直鏈或分支鏈C2-C20烷二基之二價基團，其可視情況雜有選自O、S及NR10之雜原子或二價基團，對於重複單元1至s之每一者，R1獨立地選自H、C1-C20烷基及C1-C20烯基，其可視情況經羥基、烷氧基或烷氧基羰基取代，或連同R2一起可形成二價基團D8，且對於重複單元1至s之每一者，R2獨立地選自H、C1-C20烷基及C1-C20烯基，其可視情況經羥基、烷氧基或烷氧基羰基取代，或連同R1一起可形成二價基團D8，且D8係選自直鏈或分支鏈C1-C18烷二基，其可視情況雜有選自O、S及NR10之雜原子或二價基團，s為1至250之整數，R10係選自H、C1-C20烷基及C1-C20烯基，其可視情況經羥基、烷氧基或烷氧基羰基取代。
简体摘要：本发明提供一种组成物，包含金属离子源及至少一种添加剂，该添加剂包含至少一种聚胺基酰胺，该聚胺基酰胺包含由式I表示之结构单元，或借由使用非芳族反应物进行完全或部分质子化、N-官能化或N-四级铵化可获得之该式I之聚胺基酰胺的衍生物，其中对于重复单元1至s之每一者，D6独立地为选自饱和或不饱和C1-C20有机基团之二价基团，对于重复单元1至s之每一者，D7独立地为选自直链或分支链C2-C20烷二基之二价基团，其可视情况杂有选自O、S及NR10之杂原子或二价基团，对于重复单元1至s之每一者，R1独立地选自H、C1-C20烷基及C1-C20烯基，其可视情况经羟基、烷氧基或烷氧基羰基取代，或连同R2一起可形成二价基团D8，且对于重复单元1至s之每一者，R2独立地选自H、C1-C20烷基及C1-C20烯基，其可视情况经羟基、烷氧基或烷氧基羰基取代，或连同R1一起可形成二价基团D8，且D8系选自直链或分支链C1-C18烷二基，其可视情况杂有选自O、S及NR10之杂原子或二价基团，s为1至250之整数，R10系选自H、C1-C20烷基及C1-C20烯基，其可视情况经羟基、烷氧基或烷氧基羰基取代。

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