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1. 发明专利

TWI599620B 酞菁化合物、近紅外線吸收色素及近紅外線吸收材料有权
简体标题：酞菁化合物、近红外线吸收色素及近红外线吸收材料
公开(公告)号：TWI599620B
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：TW103102271
申请日：2014-01-22
申请人：山田化學工業股份有限公司 , YAMADA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：真鍋陽介 , MANABE, YOUSUKE , 林悟史 , HAYASHI, SATOSHI
IPC分类号： C09B47/04 , G02B5/22
CPC分类号： C09B47/0675 , B32B17/10633 , B32B17/10651 , C07D498/04 , C07D513/04 , C09B47/045 , C09B47/067

2. 发明专利

TW201323530A 酞花青化合物、近紅外吸收色素及近紅外吸收材审中-公开
简体标题：酞花青化合物、近红外吸收色素及近红外吸收材
公开(公告)号：TW201323530A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW101136502
申请日：2012-10-03
申请人：山田化學工業股份有限公司 , YAMADA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：真鍋陽介 , MANABE, YOUSUKE , 林悟史 , HAYASHI, SATOSHI
IPC分类号： C09B47/12 , G02B5/22 , C09D5/32
摘要：本發明之課題為提供一種於800~1000nm之近紅外區域具有吸收，且能夠對於更高品質的PDP或熱線切割薄膜之製造有所貢獻的酞花青化合物。本發明之解決手段為酞花青骨架之α位當中至少4個係表示：具有碳原子數1~10個之烷基的單烷基胺基、具有碳原子數1~10個之烷基的二烷基胺基、碳原子數4~6個之環狀烷基胺基、可具有取代基A的苯氧基或者是可具有取代基B的苯硫基。取代基A、B係表示碳原子數1~10個之烷基、碳原子數1~10個之烷氧基、具有碳原子數1~10個之烷基的單烷基胺基、具有碳原子數1~10個之烷基的二烷基胺基、碳原子數4~6個之環狀烷基胺基、嗎啉基(morpholyl)、硝基、氰基、三氟甲基、鹵素原子、羧基或酯基，且其取代數為1~3。
简体摘要：本发明之课题为提供一种于800~1000nm之近红外区域具有吸收，且能够对于更高品质的PDP或热线切割薄膜之制造有所贡献的酞花青化合物。本发明之解决手段为酞花青骨架之α位当中至少4个系表示：具有碳原子数1~10个之烷基的单烷基胺基、具有碳原子数1~10个之烷基的二烷基胺基、碳原子数4~6个之环状烷基胺基、可具有取代基A的苯氧基或者是可具有取代基B的苯硫基。取代基A、B系表示碳原子数1~10个之烷基、碳原子数1~10个之烷氧基、具有碳原子数1~10个之烷基的单烷基胺基、具有碳原子数1~10个之烷基的二烷基胺基、碳原子数4~6个之环状烷基胺基、吗啉基(morpholyl)、硝基、氰基、三氟甲基、卤素原子、羧基或酯基，且其取代数为1~3。

3. 发明专利

TWI455935B 電致變色化合物，電致變色組成物，以及顯示元件有权
简体标题：电致变色化合物，电致变色组成物，以及显示组件
公开(公告)号：TWI455935B
公开(公告)日：2014-10-11
申请号：TW099134894
申请日：2010-10-13
申请人：理光股份有限公司 , RICOH COMPANY, LTD. , 山田化學工業股份有限公司 , YAMADA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：八代徹 , YASHIRO, TOHRU , 平野成伸 , HIRANO, SHIGENOBU , 真鍋陽介 , MANABE, YOUSUKE , 林悟史 , HAYASHI, SATOSHI
IPC分类号： C07D407/14 , C07D401/14 , C07D213/24 , G02F1/15
CPC分类号： C07D213/38 , C07D213/57 , C07D401/14 , C07D413/14 , C07D417/14 , C09K9/02 , C09K2211/1029 , C09K2211/1033

4. 发明专利

TWI621620B 酞菁化合物、近紅外線吸收色素及近紅外線吸收材料有权
简体标题：酞菁化合物、近红外线吸收色素及近红外线吸收材料
公开(公告)号：TWI621620B
公开(公告)日：2018-04-21
申请号：TW103122272
申请日：2014-06-27
申请人：山田化學工業股份有限公司 , YAMADA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：林悟史 , HAYASHI, SATOSHI , 真鍋陽介 , MANABE, YOUSUKE
IPC分类号： C07D491/056 , C07D495/04 , C07D497/04 , C09B47/04 , C09K3/00 , G11B7/244
CPC分类号： C07D491/22 , G11B7/248

5. 发明专利

TWI535794B 酞花青化合物、近紅外吸收色素及近紅外吸收材有权
简体标题：酞花青化合物、近红外吸收色素及近红外吸收材
公开(公告)号：TWI535794B
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW101136502
申请日：2012-10-03
申请人：山田化學工業股份有限公司 , YAMADA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：真鍋陽介 , MANABE, YOUSUKE , 林悟史 , HAYASHI, SATOSHI
IPC分类号： C09B47/12 , G02B5/22 , C09D5/32

6. 发明专利

TW201518303A 酞菁化合物、近紅外線吸收色素及近紅外線吸收材料审中-公开
简体标题：酞菁化合物、近红外线吸收色素及近红外线吸收材料
公开(公告)号：TW201518303A
公开(公告)日：2015-05-16
申请号：TW103122272
申请日：2014-06-27
申请人：山田化學工業股份有限公司 , YAMADA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：林悟史 , HAYASHI, SATOSHI , 真鍋陽介 , MANABE, YOUSUKE
IPC分类号： C07D491/056 , C07D495/04 , C07D497/04 , C09B47/04 , C09K3/00 , G11B7/244
CPC分类号： C07D491/22 , G11B7/248
摘要：提供耐光性及溶解性優良，且有用於作為近紅外線吸收劑的酞菁化合物。發現了具有特定構造之酞菁化合物，其耐光性及溶解性優良。
简体摘要：提供耐光性及溶解性优良，且有用于作为近红外线吸收剂的酞菁化合物。发现了具有特定构造之酞菁化合物，其耐光性及溶解性优良。

7. 发明专利

TW201434995A 酞菁化合物、近紅外線吸收色素及近紅外線吸收材料审中-公开
简体标题：酞菁化合物、近红外线吸收色素及近红外线吸收材料
公开(公告)号：TW201434995A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW103102271
申请日：2014-01-22
申请人：山田化學工業股份有限公司 , YAMADA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：真鍋陽介 , MANABE, YOUSUKE , 林悟史 , HAYASHI, SATOSHI
IPC分类号： C09B47/04 , G02B5/22
CPC分类号： C09B47/0675 , B32B17/10633 , B32B17/10651 , C07D498/04 , C07D513/04 , C09B47/045 , C09B47/067
摘要：本發明之課題在於提供一種耐光性及耐熱性優異之有用作為近紅外線吸收劑之酞菁化合物。其解決手段為發現一種具有特定構造之酞菁化合物在耐光性及耐熱性上優異。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种耐光性及耐热性优异之有用作为近红外线吸收剂之酞菁化合物。其解决手段为发现一种具有特定构造之酞菁化合物在耐光性及耐热性上优异。

8. 发明专利

TW201120030A 電致變色化合物，電致變色組成物，以及顯示元件 ELECTROCHROMIC COMPOUND, ELECTROCHROMIC COMPOSITION, AND DISPLAY ELEMENT 审中-公开
简体标题：电致变色化合物，电致变色组成物，以及显示组件 ELECTROCHROMIC COMPOUND, ELECTROCHROMIC COMPOSITION, AND DISPLAY ELEMENT
公开(公告)号：TW201120030A
公开(公告)日：2011-06-16
申请号：TW099134894
申请日：2010-10-13
申请人：理光股份有限公司 , 山田化學工業股份有限公司
发明人：八代徹 , 平野成伸 , 真鍋陽介 , 林悟史
IPC分类号： C07D , G02F
CPC分类号： C07D213/38 , C07D213/57 , C07D401/14 , C07D413/14 , C07D417/14 , C09K9/02 , C09K2211/1029 , C09K2211/1033
摘要：揭示說明書中所定義之化學式所示之電致變色化合物。
简体摘要：揭示说明书中所定义之化学式所示之电致变色化合物。

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