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1. 发明专利

TWI599620B 酞菁化合物、近紅外線吸收色素及近紅外線吸收材料有权
简体标题：酞菁化合物、近红外线吸收色素及近红外线吸收材料
公开(公告)号：TWI599620B
公开(公告)日：2017-09-21
申请号：TW103102271
申请日：2014-01-22
申请人：山田化學工業股份有限公司 , YAMADA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：真鍋陽介 , MANABE, YOUSUKE , 林悟史 , HAYASHI, SATOSHI
IPC分类号： C09B47/04 , G02B5/22
CPC分类号： C09B47/0675 , B32B17/10633 , B32B17/10651 , C07D498/04 , C07D513/04 , C09B47/045 , C09B47/067

2. 发明专利

TW201323530A 酞花青化合物、近紅外吸收色素及近紅外吸收材审中-公开
简体标题：酞花青化合物、近红外吸收色素及近红外吸收材
公开(公告)号：TW201323530A
公开(公告)日：2013-06-16
申请号：TW101136502
申请日：2012-10-03
申请人：山田化學工業股份有限公司 , YAMADA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：真鍋陽介 , MANABE, YOUSUKE , 林悟史 , HAYASHI, SATOSHI
IPC分类号： C09B47/12 , G02B5/22 , C09D5/32
摘要：本發明之課題為提供一種於800~1000nm之近紅外區域具有吸收，且能夠對於更高品質的PDP或熱線切割薄膜之製造有所貢獻的酞花青化合物。本發明之解決手段為酞花青骨架之α位當中至少4個係表示：具有碳原子數1~10個之烷基的單烷基胺基、具有碳原子數1~10個之烷基的二烷基胺基、碳原子數4~6個之環狀烷基胺基、可具有取代基A的苯氧基或者是可具有取代基B的苯硫基。取代基A、B係表示碳原子數1~10個之烷基、碳原子數1~10個之烷氧基、具有碳原子數1~10個之烷基的單烷基胺基、具有碳原子數1~10個之烷基的二烷基胺基、碳原子數4~6個之環狀烷基胺基、嗎啉基(morpholyl)、硝基、氰基、三氟甲基、鹵素原子、羧基或酯基，且其取代數為1~3。
简体摘要：本发明之课题为提供一种于800~1000nm之近红外区域具有吸收，且能够对于更高品质的PDP或热线切割薄膜之制造有所贡献的酞花青化合物。本发明之解决手段为酞花青骨架之α位当中至少4个系表示：具有碳原子数1~10个之烷基的单烷基胺基、具有碳原子数1~10个之烷基的二烷基胺基、碳原子数4~6个之环状烷基胺基、可具有取代基A的苯氧基或者是可具有取代基B的苯硫基。取代基A、B系表示碳原子数1~10个之烷基、碳原子数1~10个之烷氧基、具有碳原子数1~10个之烷基的单烷基胺基、具有碳原子数1~10个之烷基的二烷基胺基、碳原子数4~6个之环状烷基胺基、吗啉基(morpholyl)、硝基、氰基、三氟甲基、卤素原子、羧基或酯基，且其取代数为1~3。

3. 发明专利

TWI621620B 酞菁化合物、近紅外線吸收色素及近紅外線吸收材料有权
简体标题：酞菁化合物、近红外线吸收色素及近红外线吸收材料
公开(公告)号：TWI621620B
公开(公告)日：2018-04-21
申请号：TW103122272
申请日：2014-06-27
申请人：山田化學工業股份有限公司 , YAMADA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：林悟史 , HAYASHI, SATOSHI , 真鍋陽介 , MANABE, YOUSUKE
IPC分类号： C07D491/056 , C07D495/04 , C07D497/04 , C09B47/04 , C09K3/00 , G11B7/244
CPC分类号： C07D491/22 , G11B7/248

4. 发明专利

TWI535794B 酞花青化合物、近紅外吸收色素及近紅外吸收材有权
简体标题：酞花青化合物、近红外吸收色素及近红外吸收材
公开(公告)号：TWI535794B
公开(公告)日：2016-06-01
申请号：TW101136502
申请日：2012-10-03
申请人：山田化學工業股份有限公司 , YAMADA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：真鍋陽介 , MANABE, YOUSUKE , 林悟史 , HAYASHI, SATOSHI
IPC分类号： C09B47/12 , G02B5/22 , C09D5/32

5. 发明专利

TW201518303A 酞菁化合物、近紅外線吸收色素及近紅外線吸收材料审中-公开
简体标题：酞菁化合物、近红外线吸收色素及近红外线吸收材料
公开(公告)号：TW201518303A
公开(公告)日：2015-05-16
申请号：TW103122272
申请日：2014-06-27
申请人：山田化學工業股份有限公司 , YAMADA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：林悟史 , HAYASHI, SATOSHI , 真鍋陽介 , MANABE, YOUSUKE
IPC分类号： C07D491/056 , C07D495/04 , C07D497/04 , C09B47/04 , C09K3/00 , G11B7/244
CPC分类号： C07D491/22 , G11B7/248
摘要：提供耐光性及溶解性優良，且有用於作為近紅外線吸收劑的酞菁化合物。發現了具有特定構造之酞菁化合物，其耐光性及溶解性優良。
简体摘要：提供耐光性及溶解性优良，且有用于作为近红外线吸收剂的酞菁化合物。发现了具有特定构造之酞菁化合物，其耐光性及溶解性优良。

6. 发明专利

TW201434995A 酞菁化合物、近紅外線吸收色素及近紅外線吸收材料审中-公开
简体标题：酞菁化合物、近红外线吸收色素及近红外线吸收材料
公开(公告)号：TW201434995A
公开(公告)日：2014-09-16
申请号：TW103102271
申请日：2014-01-22
申请人：山田化學工業股份有限公司 , YAMADA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：真鍋陽介 , MANABE, YOUSUKE , 林悟史 , HAYASHI, SATOSHI
IPC分类号： C09B47/04 , G02B5/22
CPC分类号： C09B47/0675 , B32B17/10633 , B32B17/10651 , C07D498/04 , C07D513/04 , C09B47/045 , C09B47/067
摘要：本發明之課題在於提供一種耐光性及耐熱性優異之有用作為近紅外線吸收劑之酞菁化合物。其解決手段為發現一種具有特定構造之酞菁化合物在耐光性及耐熱性上優異。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种耐光性及耐热性优异之有用作为近红外线吸收剂之酞菁化合物。其解决手段为发现一种具有特定构造之酞菁化合物在耐光性及耐热性上优异。

7. 发明专利

TW518590B 含金屬之偶氮化合物及利用此化合物之光學記錄媒體失效
简体标题：含金属之偶氮化合物及利用此化合物之光学记录媒体
公开(公告)号：TW518590B
公开(公告)日：2003-01-21
申请号：TW090113469
申请日：2001-06-04
申请人：日立美佳聲股份有限公司 , 山田化學工業股份有限公司
发明人：長瀧義幸 , 櫻井友一 , 高澤孝次 , 飯沼芳春 , 谷口正俊 , 植田敦子
IPC分类号： G11B , C09B
CPC分类号： C07D239/42 , C09B45/34 , G11B7/007 , G11B7/24 , G11B7/2467 , G11B7/2472 , G11B7/249 , G11B7/2495 , G11B7/2534 , G11B7/256 , G11B7/2595
摘要：本發明之目的係為提供一種光學記錄媒體，其在利用短波長半導體雷射做記錄，再生上的特性優良，而且耐光性、耐久性良好；以及由下述一般式〔I〕表示之偶氮系化合物和金屬鹽所形成之含金屬偶氮化合物。
一般式〔I〕
式中，X表示羥基、羧基、磺胺基、羧醯胺基、胺基； R1、R2各自獨立，表示氫原子，取代或未取代之直鏈或分枝烷基，取代或未取代之不飽和碳氫化合物，取代或未取代之芳香環、烷氧基；R3、R4、R5、R6、R7、R8分別表示氫原子，亦可含有取代基之直鏈或分枝烷基，亦可含有取代基之直鏈或分枝的不飽和碳氫化合物，取代或未取代之芳香環，烷氧基，鹵原子，氰基；R1與R2，或R6與R7亦可透過連結基團而形成環。
简体摘要：本发明之目的系为提供一种光学记录媒体，其在利用短波长半导体激光做记录，再生上的特性优良，而且耐光性、耐久性良好；以及由下述一般式〔I〕表示之偶氮系化合物和金属盐所形成之含金属偶氮化合物。一般式〔I〕式中，X表示羟基、羧基、磺胺基、羧酰胺基、胺基； R1、R2各自独立，表示氢原子，取代或未取代之直链或分枝烷基，取代或未取代之不饱和碳氢化合物，取代或未取代之芳香环、烷氧基；R3、R4、R5、R6、R7、R8分别表示氢原子，亦可含有取代基之直链或分枝烷基，亦可含有取代基之直链或分枝的不饱和碳氢化合物，取代或未取代之芳香环，烷氧基，卤原子，氰基；R1与R2，或R6与R7亦可透过链接基团而形成环。

8. 发明专利

TWI455935B 電致變色化合物，電致變色組成物，以及顯示元件有权
简体标题：电致变色化合物，电致变色组成物，以及显示组件
公开(公告)号：TWI455935B
公开(公告)日：2014-10-11
申请号：TW099134894
申请日：2010-10-13
申请人：理光股份有限公司 , RICOH COMPANY, LTD. , 山田化學工業股份有限公司 , YAMADA CHEMICAL CO., LTD.
发明人：八代徹 , YASHIRO, TOHRU , 平野成伸 , HIRANO, SHIGENOBU , 真鍋陽介 , MANABE, YOUSUKE , 林悟史 , HAYASHI, SATOSHI
IPC分类号： C07D407/14 , C07D401/14 , C07D213/24 , G02F1/15
CPC分类号： C07D213/38 , C07D213/57 , C07D401/14 , C07D413/14 , C07D417/14 , C09K9/02 , C09K2211/1029 , C09K2211/1033

9. 发明专利

TW201120030A 電致變色化合物，電致變色組成物，以及顯示元件 ELECTROCHROMIC COMPOUND, ELECTROCHROMIC COMPOSITION, AND DISPLAY ELEMENT 审中-公开
简体标题：电致变色化合物，电致变色组成物，以及显示组件 ELECTROCHROMIC COMPOUND, ELECTROCHROMIC COMPOSITION, AND DISPLAY ELEMENT
公开(公告)号：TW201120030A
公开(公告)日：2011-06-16
申请号：TW099134894
申请日：2010-10-13
申请人：理光股份有限公司 , 山田化學工業股份有限公司
发明人：八代徹 , 平野成伸 , 真鍋陽介 , 林悟史
IPC分类号： C07D , G02F
CPC分类号： C07D213/38 , C07D213/57 , C07D401/14 , C07D413/14 , C07D417/14 , C09K9/02 , C09K2211/1029 , C09K2211/1033
摘要：揭示說明書中所定義之化學式所示之電致變色化合物。
简体摘要：揭示说明书中所定义之化学式所示之电致变色化合物。

10. 发明专利

TW479254B 含金屬偶氮系化合物及光記錄媒體失效
简体标题：含金属偶氮系化合物及光记录媒体
公开(公告)号：TW479254B
公开(公告)日：2002-03-11
申请号：TW089104728
申请日：2000-03-15
申请人：松下電器產業股份有限公司 , 山田化學工業股份有限公司
发明人：戶崎善博 , 保阪富治 , 國枝敏明 , 谷口正俊 , 小林敦子 , 長谷知行
IPC分类号： G11B
CPC分类号： C07F3/003 , C07D213/77 , C07F1/005 , C07F15/045 , G11B7/2467 , G11B7/2492 , G11B7/2534 , G11B7/256 , G11B7/2595 , Y10T428/21
摘要：本發明係提供一種適用於光記錄媒體用之記錄層、與由下列結構式(a1)、(a2)、(a3)、及(a4)中至少選擇一種所示之含金屬偶氮系化合物、及含有該含金屬偶氮系化合物之記錄層的光記錄媒體；其中，該等結構式(al)、(a2)、(a3)、及(a4)如下所示：(式中M係表2價金屬；X1及X2係表與其二側所鄰接之碳原子共同形成單環式或多環式之芳香環的取代或非取代殘基；Y1及Y2係表與其二側所鄰接之碳原子及氮原子共同形成含氮之芳香雜環的取代或非取代殘基，若該等殘基具取代基時，該取代基係分別各自獨立由鹵原子、取代或非取代之烷基、取代或非取代之烷氧基、取代或非取代之烷基硫基、取代或非取代之芳基、取代或非取代之芳基氧基、取代或非取代之芳基硫基、硝基、及取代或非取代之氨基中所選擇的基；且X1與X2及Y1與Y2的組合中，至少一組為互相不同者)。
简体摘要：本发明系提供一种适用于光记录媒体用之记录层、与由下列结构式(a1)、(a2)、(a3)、及(a4)中至少选择一种所示之含金属偶氮系化合物、及含有该含金属偶氮系化合物之记录层的光记录媒体；其中，该等结构式(al)、(a2)、(a3)、及(a4)如下所示：(式中M系表2价金属；X1及X2系表与其二侧所邻接之碳原子共同形成单环式或多环式之芳香环的取代或非取代残基；Y1及Y2系表与其二侧所邻接之碳原子及氮原子共同形成含氮之芳香杂环的取代或非取代残基，若该等残基具取代基时，该取代基系分别各自独立由卤原子、取代或非取代之烷基、取代或非取代之烷氧基、取代或非取代之烷基硫基、取代或非取代之芳基、取代或非取代之芳基氧基、取代或非取代之芳基硫基、硝基、及取代或非取代之氨基中所选择的基；且X1与X2及Y1与Y2的组合中，至少一组为互相不同者)。

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