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1. 发明专利

TW202004824A 局部真空裝置、帶電粒子裝置、以及真空區域的形成方法审中-公开
简体标题：局部真空设备、带电粒子设备、以及真空区域的形成方法
公开(公告)号：TW202004824A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108111092
申请日：2019-03-28
申请人：日商尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：舩津貴行 , FUNATSU, TAKAYUKI , 菅原龍 , SUGAWARA, RYU
IPC分类号： H01J37/20 , H01J37/18 , H01J37/28
摘要：局部真空裝置包括：真空形成構件，具有可與排氣裝置連接的管路，將和物體的面接觸的空間的氣體經由所述管路而排出，形成真空區域；以及外部面，位於物體的周圍的至少一部分；以及位置變更裝置，變更沿著與物體的表面交叉的既定方向的、物體的表面與外部面的相對位置，真空區域周圍的、氣壓較真空區域更高的空間的至少一部分氣體經由真空形成構件的管路而排出。
简体摘要：局部真空设备包括：真空形成构件，具有可与排气设备连接的管路，将和物体的面接触的空间的气体经由所述管路而排出，形成真空区域；以及外部面，位于物体的周围的至少一部分；以及位置变更设备，变更沿着与物体的表面交叉的既定方向的、物体的表面与外部面的相对位置，真空区域周围的、气压较真空区域更高的空间的至少一部分气体经由真空形成构件的管路而排出。

2. 发明专利

TWI460544B 曝光裝置、曝光方法及元件製造方法有权
简体标题：曝光设备、曝光方法及组件制造方法
公开(公告)号：TWI460544B
公开(公告)日：2014-11-11
申请号：TW094126326
申请日：2005-08-03
申请人：尼康股份有限公司 , NIKON CORPORATION
发明人：大和壯一 , 長坂博之 , NAGASAKA, HIROYUKI , 菅原龍
IPC分类号： G03F7/20 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70733

3. 发明专利

TW200632577A 曝光裝置及元件製造方法审中-公开
简体标题：曝光设备及组件制造方法
公开(公告)号：TW200632577A
公开(公告)日：2006-09-16
申请号：TW094142439
申请日：2005-12-02
申请人：尼康股份有限公司 NIKON CORPORATION
发明人：岡田尚也 , 菅原龍
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/70341
摘要：一種曝光裝置，係經由投影光學系統(PL)對基板(P)照射曝光用光來使基板(P)曝光；投影光學系統(PL)具有最接近投影光學系統(PL)之像面之第1光學元件(LS1)、以及次於第1光學元件(LS1)接近像面之第2光學元件(LS2)。該曝光裝置具備第2回收口(42)，其設置於較第2光學元件(LS2)下面(T3)高之位置，用以將充滿於第1光學元件(LS1)上面(T2)與第2光學元件(LS2)下面(T3)間之第2空間(K2)的第2液體(LQ2)加以回收。
简体摘要：一种曝光设备，系经由投影光学系统(PL)对基板(P)照射曝光用光来使基板(P)曝光；投影光学系统(PL)具有最接近投影光学系统(PL)之像面之第1光学组件(LS1)、以及次于第1光学组件(LS1)接近像面之第2光学组件(LS2)。该曝光设备具备第2回收口(42)，其设置于较第2光学组件(LS2)下面(T3)高之位置，用以将充满于第1光学组件(LS1)上面(T2)与第2光学组件(LS2)下面(T3)间之第2空间(K2)的第2液体(LQ2)加以回收。

4. 发明专利

TW200617615A 曝光裝置、曝光方法及元件製造方法审中-公开
简体标题：曝光设备、曝光方法及组件制造方法
公开(公告)号：TW200617615A
公开(公告)日：2006-06-01
申请号：TW094126326
申请日：2005-08-03
申请人：尼康股份有限公司 NIKON CORPORATION
发明人：大和壯一 , 長博之 , 菅原龍
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/7085 , G03F7/70341 , G03F7/70716 , G03F7/70733
摘要：曝光裝置EX具備投影光學系統PL，投影光學系統PL具有最靠近投影光學系統PL之像面之第1光學元件LS1。曝光裝置EX具備：第1液浸機構1，用以在設置於投影光學系統PL像面側之透明構件64之上面65與第1光學元件LS1之間形成第1液體LQ1之第1液浸區域LR1；及觀察裝置60，用以觀察第1液浸區域LR1之狀態。藉此，能掌握液體之液浸區域之狀態，執行最適當之液浸曝光。
简体摘要：曝光设备EX具备投影光学系统PL，投影光学系统PL具有最靠近投影光学系统PL之像面之第1光学组件LS1。曝光设备EX具备：第1液浸机构1，用以在设置于投影光学系统PL像面侧之透明构件64之上面65与第1光学组件LS1之间形成第1液体LQ1之第1液浸区域LR1；及观察设备60，用以观察第1液浸区域LR1之状态。借此，能掌握液体之液浸区域之状态，运行最适当之液浸曝光。

5. 发明专利

TW201100895A 光學元件保持裝置、光學系統、曝光裝置、設備之製造方法及光學元件之交換方法审中-公开
简体标题：光学组件保持设备、光学系统、曝光设备、设备之制造方法及光学组件之交换方法
公开(公告)号：TW201100895A
公开(公告)日：2011-01-01
申请号：TW099105773
申请日：2010-03-01
申请人：尼康股份有限公司
发明人：菅原龍 , 恩田稔
IPC分类号： G02B , G03F
CPC分类号： G03F7/70825 , G02B7/00 , G02B7/003
摘要：用以在鏡筒(17)的端部(17a)安裝平行平板元件(24)的光學元件保持裝置(25)具備:保持部(36),保持平行平板元件(24)的被保持部(31);支撐部件(35),透過該保持部(36)來支撐平行平板元件(24),並且安裝於鏡筒(17)的端部17a;固定螺絲(45),在鏡筒(17)的端部(17a)的複數處固定支撐部件(35);以及變形機構(52),在支撐部件(35)被固定螺絲(45)固定於鏡筒(17)的端部(17a)的狀態下,在與固定螺絲(45)不同的位置使支撐部件(35)變形。
简体摘要：用以在镜筒(17)的端部(17a)安装平行平板组件(24)的光学组件保持设备(25)具备:保持部(36),保持平行平板组件(24)的被保持部(31);支撑部件(35),透过该保持部(36)来支撑平行平板组件(24),并且安装于镜筒(17)的端部17a;固定螺丝(45),在镜筒(17)的端部(17a)的复数处固定支撑部件(35);以及变形机构(52),在支撑部件(35)被固定螺丝(45)固定于镜筒(17)的端部(17a)的状态下,在与固定螺丝(45)不同的位置使支撑部件(35)变形。

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