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    • 1. 发明专利
    • 真空排氣系用閥
    • 真空排气系用阀
    • TWI243881B
    • 2005-11-21
    • TW093102547
    • 2004-02-04
    • 富士金股份有限公司 FUJIKIN INCORPORATED大見忠弘
    • 大見忠弘池田信一山路道雄北野真史森本明弘
    • H01LF16K
    • F16K7/14F16K27/003F16K51/02
    • 本發明之技術課題在於提供因應真空排氣系設備的小型化和因此達成的成本降低以及供縮短真空排氣時間的真空排氣系配管的小口徑化,可防止因氣體分解而產生的解離生成物堆積所造成的內部腐蝕或堵塞、逸漏等的閥。
      本發明用來解決此技術課題的手段為藉由將鋁鈍態使用於真空排氣系用閥等配管零件,可抑制烘烤之際溫度上昇所造成的氣體分解,適於真空排氣系的小口徑化的零件,特別製作成不會因氣體分解所產生生成物堆積而發生腐蝕或堵塞、逸漏等。
    • 本发明之技术课题在于提供因应真空排气系设备的小型化和因此达成的成本降低以及供缩短真空排气时间的真空排气系配管的小口径化,可防止因气体分解而产生的解离生成物堆积所造成的内部腐蚀或堵塞、逸漏等的阀。 本发明用来解决此技术课题的手段为借由将铝钝态使用于真空排气系用阀等配管零件,可抑制烘烤之际温度上升所造成的气体分解,适于真空排气系的小口径化的零件,特别制作成不会因气体分解所产生生成物堆积而发生腐蚀或堵塞、逸漏等。
    • 5. 发明专利
    • 水分產生用反應爐
    • 水分产生用反应炉
    • TW520346B
    • 2003-02-11
    • TW090128934
    • 2001-11-22
    • 富士金股份有限公司
    • 米華克典皆見幸男川田幸司森本明弘池田信一中村修本井傳晃央平井暢
    • C01BB01JH01L
    • C01B5/00B01J12/007
    • 本發明之技術課題為:達到使原料氣體強制地亂流化且有效率地產生水分產生反應之水分產生用反應爐。
      用以解決此技術課題之手段為:關於本發明之水分產生用反應爐2,其特徵為:供給原料氣體之入口側爐本體構件4;從水分氣體供給路28供給水分氣體之出口側爐本體構件20;與在兩爐本體構件之間挾持固定成密封狀態並且連通於前述入口側空間部8般地在其重要部分形成複數個吹入孔16之反射體12;與在此反射體12與前述出口側爐本體構件20之間形成具有微小間隙d之反應室18;與連通此反應室18與出口側爐本體構件20的水分氣體供給路28般地在出口側爐本體構件上形成噴嘴孔24;與在與前述反射體12相對之反應室壁面20a上形成塗裝觸媒層21所構成,氫與氧係從反射體12的吹入孔16流入到反應室18內時,利用前述塗裝觸媒層21的活性化作用,氫與氧在非燃燒狀態下反應而產生水分氣體。
    • 本发明之技术课题为:达到使原料气体强制地乱流化且有效率地产生水分产生反应之水分产生用反应炉。 用以解决此技术课题之手段为:关于本发明之水分产生用反应炉2,其特征为:供给原料气体之入口侧炉本体构件4;从水分气体供给路28供给水分气体之出口侧炉本体构件20;与在两炉本体构件之间挟持固定成密封状态并且连通于前述入口侧空间部8般地在其重要部分形成复数个吹入孔16之反射体12;与在此反射体12与前述出口侧炉本体构件20之间形成具有微小间隙d之反应室18;与连通此反应室18与出口侧炉本体构件20的水分气体供给路28般地在出口侧炉本体构件上形成喷嘴孔24;与在与前述反射体12相对之反应室壁面20a上形成涂装触媒层21所构成,氢与氧系从反射体12的吹入孔16流入到反应室18内时,利用前述涂装触媒层21的活性化作用,氢与氧在非燃烧状态下反应而产生水分气体。
    • 8. 发明专利
    • 氣體供給系之水分除去方法
    • 气体供给系之水分除去方法
    • TW470839B
    • 2002-01-01
    • TW089118746
    • 2000-09-13
    • 富士金股份有限公司
    • 池田信一森本明弘皆見幸雄本井傳晃央川田幸司米華克典平井暢山路道雄
    • F16T
    • 本發明係關於氣體供給系之水分除去方法,尤其與不用加熱烘乾法,而藉常溫排氣處理有效地去除吸附水分之氣體供給系之水分除去方法有關者。詳言之,本發明之氣體供給系之水分除去方法,係使除去水分用氣體流通在氣體供給系中,俾除去殘留在氣體供給系內部之水分的方法,其特徵為:水分除去用氣體之流通壓力係設定在該氣體流形成粘性流時之最小壓力以上,且又設定在水分除去用氣體在其流通溫度時之水的飽和蒸汽壓以下。另,前述水分除去用氣體成為粘性流之條件,可從氣體分子之平均自由行程將小於氣體供給系之配管直徑者予以判斷。在這樣的條件下將水分除去用氣體予以常溫排放時,即可有效去除在配管裡面和閥、過濾器內之吸附水分。
    • 本发明系关于气体供给系之水分除去方法,尤其与不用加热烘干法,而藉常温排气处理有效地去除吸附水分之气体供给系之水分除去方法有关者。详言之,本发明之气体供给系之水分除去方法,系使除去水分用气体流通在气体供给系中,俾除去残留在气体供给系内部之水分的方法,其特征为:水分除去用气体之流通压力系设置在该气体流形成粘性流时之最小压力以上,且又设置在水分除去用气体在其流通温度时之水的饱和蒸汽压以下。另,前述水分除去用气体成为粘性流之条件,可从气体分子之平均自由行程将小于气体供给系之配管直径者予以判断。在这样的条件下将水分除去用气体予以常温排放时,即可有效去除在配管里面和阀、过滤器内之吸附水分。
    • 10. 发明专利
    • 未反應氣體偵知裝置及未反應氣體偵知感應器
    • 未反应气体侦知设备及未反应气体侦知感应器
    • TW536525B
    • 2003-06-11
    • TW090130540
    • 2001-12-10
    • 富士金股份有限公司
    • 米華克典皆見幸男森本明弘川田幸司本井傳晃央中村修平井暢池田信一
    • C01B
    • G01N25/36G01N25/28G01N27/16
    • 本發明提供一種能正確偵知目的氣體中所殘留之可燃性之未反應氣體濃度,以安全供給原料氣體之未反應氣體偵知裝置。詳言之,
      有關本發明之未反應氣體偵知裝置,係由在反應室內使可燃性和助燃性之原料氣體反應以生成目的氣體之爐本體、及連接於該爐本體之偵測器本體、及經形成於該偵測器本體內以使前述目的氣體流通之測定用空間、及將具有反應促進用觸媒層之溫度測定部配置於該測定用空間內之未反應氣體偵知感應器、以及於前述偵測器本體或爐本體構件內之流路近旁配設有溫度測定部之目的氣體溫度偵知感應器所構成,而藉由前述反應促進用觸媒層使目的氣體中所殘留之未反應氣體起反應以偵知溫度測定部之溫度上升,同時藉由前述溫度測定部以測定目的氣體溫度T0,從未反應氣體偵知感應器溫度T與目的氣體溫度之間之溫度差△T(=T-T0),偵知未反應氣體濃度。
    • 本发明提供一种能正确侦知目的气体中所残留之可燃性之未反应气体浓度,以安全供给原料气体之未反应气体侦知设备。详言之, 有关本发明之未反应气体侦知设备,系由在反应室内使可燃性和助燃性之原料气体反应以生成目的气体之炉本体、及连接于该炉本体之侦测器本体、及经形成于该侦测器本体内以使前述目的气体流通之测定用空间、及将具有反应促进用触媒层之温度测定部配置于该测定用空间内之未反应气体侦知感应器、以及于前述侦测器本体或炉本体构件内之流路近旁配设有温度测定部之目的气体温度侦知感应器所构成,而借由前述反应促进用触媒层使目的气体中所残留之未反应气体起反应以侦知温度测定部之温度上升,同时借由前述温度测定部以测定目的气体温度T0,从未反应气体侦知感应器温度T与目的气体温度之间之温度差△T(=T-T0),侦知未反应气体浓度。