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1. 发明专利

TWI668514B 觸控面板電極保護膜形成用組成物、轉印膜、積層體、觸控面板用電極的保護膜及其形成方法、靜電電容型輸入裝置及圖像顯示裝置有权
简体标题：触摸皮肤电极保护膜形成用组成物、转印膜、积层体、触摸皮肤用电极的保护膜及其形成方法、静电电容型输入设备及图像显示设备
公开(公告)号：TWI668514B
公开(公告)日：2019-08-11
申请号：TW104127796
申请日：2015-08-26
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：有冨隆志 , ARIDOMI, TAKASHI , 豊岡健太郎 , TOYOOKA, KENTARO
IPC分类号： G03F7/027 , G03F7/032 , G03F7/031 , B32B27/30 , B32B7/06 , B32B7/02 , B32B37/26 , B32B38/10 , G06F3/044

2. 发明专利

TW202022495A 感光性樹脂組成物、硬化膜、積層體、轉印薄膜及觸控面板之製造方法审中-公开
简体标题：感光性树脂组成物、硬化膜、积层体、转印薄膜及触摸皮肤之制造方法
公开(公告)号：TW202022495A
公开(公告)日：2020-06-16
申请号：TW108125178
申请日：2019-07-17
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：霜山達也 , SHIMOYAMA, TATSUYA , 豊岡健太郎 , TOYOOKA, KENTARO
IPC分类号： G03F7/028 , G03F7/032 , G06F3/041
摘要：本發明提供一種顯影性優異，所獲得之硬化膜的透濕度低的感光性樹脂組成物、以及使用了上述感光性樹脂組成物之硬化膜、積層體、轉印薄膜及觸控面板之製造方法。感光性樹脂組成物包含黏合劑聚合物、不具有封端異氰酸酯基之乙烯性不飽和化合物、光聚合起始劑及封端異氰酸酯化合物，上述封端異氰酸酯化合物具有羧酸基。
简体摘要：本发明提供一种显影性优异，所获得之硬化膜的透湿度低的感光性树脂组成物、以及使用了上述感光性树脂组成物之硬化膜、积层体、转印薄膜及触摸皮肤之制造方法。感光性树脂组成物包含黏合剂聚合物、不具有封端异氰酸酯基之乙烯性不饱和化合物、光聚合起始剂及封端异氰酸酯化合物，上述封端异氰酸酯化合物具有羧酸基。

3. 发明专利

TWI407157B 光學補償膜、其製法、及偏光板、以及使用它之液晶顯示器有权
简体标题：光学补偿膜、其制法、及偏光板、以及使用它之液晶显示器
公开(公告)号：TWI407157B
公开(公告)日：2013-09-01
申请号：TW094121178
申请日：2005-06-24
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：牛山章伸 , USHIYAMA, AKINOBU , 豐岡健太郎 , TOYOOKA, KENTARO , 森嶌慎一 , MORISHIMA, SHINICHI , 野呂正樹 , NORO, MASAKI , 及川德樹 , OIKAWA, TOKUJI , 渡部淳 , WATANABE, JUN
IPC分类号： G02B5/30 , G02F1/133
CPC分类号： C08L1/10 , C08L1/12 , C08L1/14 , G02B5/3083 , G02F1/13363 , Y10T428/1036 , Y10T428/1041

4. 发明专利

TW201800232A 轉印膜、電極保護膜、積層體、靜電電容觸控面板的製造方法、靜電電容型輸入裝置、靜電電容型輸入裝置的製造方法以及轉印膜的製造方法审中-公开
简体标题：转印膜、电极保护膜、积层体、静电电容触摸皮肤的制造方法、静电电容型输入设备、静电电容型输入设备的制造方法以及转印膜的制造方法
公开(公告)号：TW201800232A
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW106107613
申请日：2017-03-08
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：豊岡健太郎 , TOYOOKA, KENTARO , 有年陽平 , ARITOSHI, YOHEI , 霜山達也 , SHIMOYAMA, TATSUYA
IPC分类号： B32B7/02 , B32B27/18 , B32B27/30 , B05D1/36 , G06F3/044
摘要：本發明是一種轉印膜及其應用，所述轉印膜自臨時支撐體側起於臨時支撐體上依次具有：第1透明層，至少包含聚合性單體及樹脂；第2透明層，至少包含金屬氧化物粒子及樹脂，且平均厚度未滿200 nm；以及第3透明層，平均厚度比第2透明層的平均厚度薄。關於第3透明層，層中的金屬原子相對於所有原子的比率小於第2透明層中的金屬原子相對於所有原子的比率，或者於利用X射線光電子分光法自與和第2透明層相接的面為相反側的最表面進行測定時的300 μm見方的面積中的、金屬原子相對於所有原子的比率為2%以下。
简体摘要：本发明是一种转印膜及其应用，所述转印膜自临时支撑体侧起于临时支撑体上依次具有：第1透明层，至少包含聚合性单体及树脂；第2透明层，至少包含金属氧化物粒子及树脂，且平均厚度未满200 nm；以及第3透明层，平均厚度比第2透明层的平均厚度薄。关于第3透明层，层中的金属原子相对于所有原子的比率小于第2透明层中的金属原子相对于所有原子的比率，或者于利用X射线光电子分光法自与和第2透明层相接的面为相反侧的最表面进行测定时的300 μm见方的面积中的、金属原子相对于所有原子的比率为2%以下。

5. 发明专利

TW201605626A 轉印膜、轉印膜的製造方法、積層體、積層體的製造方法、靜電電容型輸入裝置及圖像顯示裝置审中-公开
简体标题：转印膜、转印膜的制造方法、积层体、积层体的制造方法、静电电容型输入设备及图像显示设备
公开(公告)号：TW201605626A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW104126033
申请日：2015-08-11
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：兼岩秀樹 , KANEIWA, HIDEKI , 豊岡健太郎 , TOYOOKA, KENTARO
IPC分类号： B32B27/18 , B44C1/165 , G06F3/044
CPC分类号： B32B37/025 , B32B7/02 , B32B27/08 , B32B27/18 , B32B27/20 , B32B27/306 , B32B27/308 , B32B27/32 , B32B27/40 , B32B27/42 , B32B2250/03 , B32B2250/24 , B32B2255/10 , B32B2255/205 , B32B2264/102 , B32B2305/30 , B32B2307/412 , B32B2323/00 , B32B2329/04 , B32B2333/08 , B32B2375/00 , B32B2457/208 , G06F3/0416 , G06F3/044 , G06F2203/04103 , H03K17/962 , H03K2217/960755
摘要：一種轉印膜，作為第一形態，其特徵在於：具有臨時支撐體、以及包含金屬氧化抑制劑的第一透明樹脂層，且第一透明樹脂層的折射率為1.60以上。一種轉印膜，作為第二形態，其特徵在於：具有臨時支撐體、以及第一透明樹脂層，且所述第一透明樹脂層含有金屬氧化抑制劑、及金屬氧化物粒子。
简体摘要：一种转印膜，作为第一形态，其特征在于：具有临时支撑体、以及包含金属氧化抑制剂的第一透明树脂层，且第一透明树脂层的折射率为1.60以上。一种转印膜，作为第二形态，其特征在于：具有临时支撑体、以及第一透明树脂层，且所述第一透明树脂层含有金属氧化抑制剂、及金属氧化物粒子。

6. 发明专利

TW201826101A 轉印膜、電極保護膜、積層體、靜電電容型輸入裝置及觸控面板的製造方法审中-公开
简体标题：转印膜、电极保护膜、积层体、静电电容型输入设备及触摸皮肤的制造方法
公开(公告)号：TW201826101A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106140407
申请日：2017-11-22
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：豊岡健太郎 , TOYOOKA, KENTARO
IPC分类号： G06F3/044 , G03F7/004 , B32B27/30
摘要：本發明提供一種轉印膜，其具有臨時支撐體和位於上述臨時支撐體上之感光性透明樹脂層，上述感光性透明樹脂層包含黏合劑聚合物、乙烯性不飽和化合物、光聚合起始劑及藉由加熱而能夠與酸反應之化合物，上述藉由加熱而能夠與酸反應之化合物具有聚合性基。又，提供一種使用了上述轉印膜之電極保護膜、積層體、靜電電容型輸入裝置及觸控面板的製造方法。
简体摘要：本发明提供一种转印膜，其具有临时支撑体和位于上述临时支撑体上之感光性透明树脂层，上述感光性透明树脂层包含黏合剂聚合物、乙烯性不饱和化合物、光聚合起始剂及借由加热而能够与酸反应之化合物，上述借由加热而能够与酸反应之化合物具有聚合性基。又，提供一种使用了上述转印膜之电极保护膜、积层体、静电电容型输入设备及触摸皮肤的制造方法。

7. 发明专利

TW201300220A 醯化纖維素膜的製造程序、醯化纖維素膜、偏光板液晶顯示元件及光學補償膜审中-公开
简体标题：酰化纤维素膜的制造进程、酰化纤维素膜、偏光板液晶显示组件及光学补偿膜
公开(公告)号：TW201300220A
公开(公告)日：2013-01-01
申请号：TW100121610
申请日：2011-06-21
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：二村惠朗 , NIMURA, SHIGEAKI , 中村亮 , NAKAMURA, RYO , 龜江博子 , KAMEE, HIROKO , 豊岡健太郎 , TOYOOKA, KENTARO , 佐藤寬 , SATO, HIROSHI , 關口惠 , SEKIGUCHI, MEGUMI , 齊藤之人 , SAITOH, YUKITO , 山本昌 , YAMAMOTO, AKIRA , 永井道夫 , NAGAI, MICHIO
IPC分类号： B29C39/02 , B29C55/04 , C08B15/02 , C08J5/18 , G02B5/30 , G02F1/1335 , G02F1/13363
CPC分类号： B29C71/0072 , B29C41/24 , B29C55/06 , B29C71/02 , B29K2001/00 , B29K2001/12 , B29K2995/0018 , C08J5/18 , C08J2301/10 , C08L1/10 , G02B5/3033 , Y10T428/1036 , Y10T428/1041
摘要：揭露一種醯化纖維素膜的製造程序。所述程序包括：藉由將包括醯化纖維素、含芳族基團之寡聚物以及溶劑的流體澆鑄於支撐物上而形成所述流體之網狀物的形成步驟；拉伸所述網狀物，由此使所述含芳族基團之寡聚物的分子沿拉伸方向配向的拉伸步驟；以及對所述經拉伸之網狀物進行熱處理，由此至少增加含芳族基團之寡聚物的分子之配向度的熱處理步驟。
简体摘要：揭露一种酰化纤维素膜的制造进程。所述进程包括：借由将包括酰化纤维素、含芳族基团之寡聚物以及溶剂的流体浇铸于支撑物上而形成所述流体之网状物的形成步骤；拉伸所述网状物，由此使所述含芳族基团之寡聚物的分子沿拉伸方向配向的拉伸步骤；以及对所述经拉伸之网状物进行热处理，由此至少增加含芳族基团之寡聚物的分子之配向度的热处理步骤。

8. 发明专利

TWI647598B 帶有裝飾材料的基板及其製造方法、觸控面板及資訊顯示裝置有权
简体标题：带有装饰材料的基板及其制造方法、触摸皮肤及信息显示设备
公开(公告)号：TWI647598B
公开(公告)日：2019-01-11
申请号：TW104107285
申请日：2015-03-06
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：有冨志 , ARIDOMI, TAKASHI , 豊岡健太郎 , TOYOOKA, KENTARO , 松本哲憲 , MATSUMOTO, TETSUNORI
IPC分类号： G06F3/041 , H01B5/14

9. 发明专利

TW201837674A 觸控感測器以及觸控感測器的製造方法审中-公开
简体标题：触摸传感器以及触摸传感器的制造方法
公开(公告)号：TW201837674A
公开(公告)日：2018-10-16
申请号：TW107111989
申请日：2018-04-03
申请人：日商富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：豊岡健太郎 , TOYOOKA, KENTARO , 有年陽平 , ARITOSHI, YOHEI , 霜山達也 , SHIMOYAMA, TATSUYA
IPC分类号： G06F3/041
摘要：本發明提供一種電極圖案的隱藏性優異之觸控感測器及其製造方法。觸控感測器在透明基板的同一表面上具備沿彼此交叉之方向分別延伸之第1電極圖案及第2電極圖案，在第1電極圖案及第2電極圖案上依序疊加而具有折射率為1.6以上且厚度為200nm以下的第1透明層、及折射率小於1.6且厚度為0.5μm以上的第2透明層，第1電極圖案具有在基板上沿第1方向隔開間隔配置之複數個第1島狀電極部及電連接相鄰之第1島狀電極部之第1配線部，第2電極圖案具有在基板上沿與第1方向交叉之第2方向隔開間隔配置之複數個第2島狀電極部及以橋接第1透明層及第2透明層的上面的方式電連接相鄰之第2島狀電極部之第2配線部。
简体摘要：本发明提供一种电极图案的隐藏性优异之触摸传感器及其制造方法。触摸传感器在透明基板的同一表面上具备沿彼此交叉之方向分别延伸之第1电极图案及第2电极图案，在第1电极图案及第2电极图案上依序叠加而具有折射率为1.6以上且厚度为200nm以下的第1透明层、及折射率小于1.6且厚度为0.5μm以上的第2透明层，第1电极图案具有在基板上沿第1方向隔开间隔配置之复数个第1岛状电极部及电连接相邻之第1岛状电极部之第1配线部，第2电极图案具有在基板上沿与第1方向交叉之第2方向隔开间隔配置之复数个第2岛状电极部及以桥接第1透明层及第2透明层的上面的方式电连接相邻之第2岛状电极部之第2配线部。

10. 发明专利

TW201711856A 轉印膜、靜電電容型輸入裝置的電極保護膜、積層體及靜電電容型輸入裝置审中-公开
简体标题：转印膜、静电电容型输入设备的电极保护膜、积层体及静电电容型输入设备
公开(公告)号：TW201711856A
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW105126985
申请日：2016-08-24
申请人：富士軟片股份有限公司 , FUJIFILM CORPORATION
发明人：豊岡健太郎 , TOYOOKA, KENTARO
IPC分类号： B32B27/00 , B32B27/18 , B32B7/06 , G06F3/044
CPC分类号： G06F3/044 , B32B7/02 , B32B27/14 , B32B27/18 , C08L101/06 , C08L2203/20 , G06F3/041 , G06F3/0488
摘要：本發明提供一種於轉印之後很難觀察到具有金屬氧化物粒子之透明樹脂層的缺陷，且可製作透明電極圖案的隱蔽性良好之積層體之轉印膜。本發明的轉印膜依序具有臨時支撐體、第一透明樹脂層及第二透明樹脂層，第二透明樹脂層包含金屬氧化物粒子和有機成分，將第二透明樹脂層中構成上述金屬氧化物粒子之金屬原子相對於構成有機成分之碳原子的比率的厚度方向分佈之輪廓的面積設為A，且將輪廓的峰值高度設為P之情況下，滿足式（1）。 0.01（nm）-1 ≤P/A≤0.08（nm）-1 式（1）
简体摘要：本发明提供一种于转印之后很难观察到具有金属氧化物粒子之透明树脂层的缺陷，且可制作透明电极图案的隐蔽性良好之积层体之转印膜。本发明的转印膜依序具有临时支撑体、第一透明树脂层及第二透明树脂层，第二透明树脂层包含金属氧化物粒子和有机成分，将第二透明树脂层中构成上述金属氧化物粒子之金属原子相对于构成有机成分之碳原子的比率的厚度方向分布之轮廓的面积设为A，且将轮廓的峰值高度设为P之情况下，满足式（1）。 0.01（nm）-1 ≤P/A≤0.08（nm）-1 式（1）

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