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    • 1. 发明专利
    • 玻璃板之製造方法、及玻璃板之研磨裝置
    • 玻璃板之制造方法、及玻璃板之研磨设备
    • TW201545838A
    • 2015-12-16
    • TW104110565
    • 2015-03-31
    • 安瀚視特控股股份有限公司AVANSTRATE INC.
    • 板倉慧ITAKURA, SATORU三隅寶MISUMI, TAKARA
    • B24B37/02C03C19/00
    • 本發明之目的在於提供一種可提高玻璃板之端面研磨效率之玻璃板之製造方法、及玻璃板之研磨裝置。 於玻璃板之製造方法中,使由第1磁場形成構件22及第2磁場形成構件23所形成之磁場保持之研磨漿料24,與第1磁場形成構件22及第2磁場形成構件23一併繞旋轉軸21旋轉,於該狀態下,使玻璃板92之端部92a接觸研磨漿料24,而對端部92a進行研磨。利用磁通集中構件25,使自第1磁場形成構件22朝向第2磁場形成構件23之磁通集中,從而增加磁通密度。磁通集中構件25係安裝於第1磁場形成構件22及第2磁場形成構件23上之磁性體。使玻璃板92之端部92a,接觸藉由磁通集中構件25而磁通密度增加之空間所保持之研磨漿料24。
    • 本发明之目的在于提供一种可提高玻璃板之端面研磨效率之玻璃板之制造方法、及玻璃板之研磨设备。 于玻璃板之制造方法中,使由第1磁场形成构件22及第2磁场形成构件23所形成之磁场保持之研磨浆料24,与第1磁场形成构件22及第2磁场形成构件23一并绕旋转轴21旋转,于该状态下,使玻璃板92之端部92a接触研磨浆料24,而对端部92a进行研磨。利用磁通集中构件25,使自第1磁场形成构件22朝向第2磁场形成构件23之磁通集中,从而增加磁通密度。磁通集中构件25系安装于第1磁场形成构件22及第2磁场形成构件23上之磁性体。使玻璃板92之端部92a,接触借由磁通集中构件25而磁通密度增加之空间所保持之研磨浆料24。
    • 3. 发明专利
    • 玻璃基板之製造方法及玻璃基板研磨用磁性流動體
    • 玻璃基板之制造方法及玻璃基板研磨用磁性流动体
    • TW201417958A
    • 2014-05-16
    • TW102138543
    • 2013-10-24
    • 安瀚視特控股股份有限公司AVANSTRATE INC.
    • 板倉慧ITAKURA, SATORU三隅寶MISUMI, TAKARA
    • B24B9/08B24B37/04C09K3/14
    • 本發明可平滑地加工玻璃基板之端面、且較先前更加縮短加工時間。於研磨玻璃基板之端面之研磨步驟中使用研磨輪,該研磨輪包括:旋轉軸;磁場形成部,其具備由磁鐵構成,於上述旋轉軸之軸向上隔開間隔配置,且與上述旋轉軸一併旋轉之第1構件及第2構件;及磁性流動體,其係由磁性體研磨粒與液體構成,藉由於第1構件與第2構件之間形成之磁場而被保持。於上述研磨步驟中,將磁性流動體中之磁性體研磨粒之濃度調整為70%以上,於使旋轉軸旋轉之狀態下使磁性流動體與玻璃基板之端面接觸,並沿著要研磨之玻璃基板之端緣使研磨輪與上述玻璃基板相對移動。
    • 本发明可平滑地加工玻璃基板之端面、且较先前更加缩短加工时间。于研磨玻璃基板之端面之研磨步骤中使用研磨轮,该研磨轮包括:旋转轴;磁场形成部,其具备由磁铁构成,于上述旋转轴之轴向上隔开间隔配置,且与上述旋转轴一并旋转之第1构件及第2构件;及磁性流动体,其系由磁性体研磨粒与液体构成,借由于第1构件与第2构件之间形成之磁场而被保持。于上述研磨步骤中,将磁性流动体中之磁性体研磨粒之浓度调整为70%以上,于使旋转轴旋转之状态下使磁性流动体与玻璃基板之端面接触,并沿着要研磨之玻璃基板之端缘使研磨轮与上述玻璃基板相对移动。