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1. 实用新型

TWM509419U 在化學氣相沉積系統內具有供改善加熱一致性之設計的晶圓舟盒有权
简体标题：在化学气相沉积系统内具有供改善加热一致性之设计的晶圆舟盒
公开(公告)号：TWM509419U
公开(公告)日：2015-09-21
申请号：TW103204332
申请日：2014-03-14
申请人：威科精密儀器公司 , VEECO INSTRUMENTS, INC.
发明人：克里斯南山迪普 , KRISHNAN, SANDEEP , 昆恩威廉E , QUINN, WILLIAM E. , 蒙哥馬利傑佛瑞S , MONTGOMERY, JEFFERY S. , 麥格南約書亞 , MANGUM, JOSHUA , 厄本盧卡斯 , URBAN, LUKAS
IPC分类号： H01L21/02
CPC分类号： C30B25/12 , B23P19/04 , C23C16/4584 , C23C16/4585 , H01L21/68728 , H01L21/68735 , H01L21/68764 , H01L21/68771 , Y10T29/49826

2. 发明专利

TW201441418A 在化學氣相沉積系統內具有供改善加熱一致性之設計的晶圓舟盒审中-公开
简体标题：在化学气相沉积系统内具有供改善加热一致性之设计的晶圆舟盒
公开(公告)号：TW201441418A
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW103109201
申请日：2014-03-14
申请人：威科精密儀器公司 , VEECO INSTRUMENTS, INC.
发明人：克里斯南山迪普 , KRISHNAN, SANDEEP , 昆恩威廉E , QUINN, WILLIAM E. , 蒙哥馬利傑佛瑞S , MONTGOMERY, JEFFERY S. , 麥格南約書亞 , MANGUM, JOSHUA , 厄本盧卡斯 , URBAN, LUKAS
IPC分类号： C23C16/54
CPC分类号： C30B25/12 , B23P19/04 , C23C16/4584 , C23C16/4585 , H01L21/68728 , H01L21/68735 , H01L21/68764 , H01L21/68771 , Y10T29/49826
摘要：本發明提供一種晶圓舟盒及其製造方法，可於一系統內藉由化學氣相沉積的方式形成多層磊晶層於一片或多片晶圓上。該晶圓舟盒包括多個晶圓留置區，凹陷於其主體內。一熱絕緣墊片至少部分地設在該至少一晶圓留置區內，且於其周圍壁面與該晶圓之間保持間隔。該墊片之材料的熱傳導率係小於該晶圓舟盒的熱傳導率，因此藉由該墊片可以限制該晶圓舟盒主體之多個部分將熱傳導至該晶圓。該晶圓舟盒還包括與該墊片配合之一墊片固定結構，該墊片固定結構包括一表面，可防止該墊片在相對於該中心軸做旋轉時產生離心位移。
简体摘要：本发明提供一种晶圆舟盒及其制造方法，可于一系统内借由化学气相沉积的方式形成多层磊晶层于一片或多片晶圆上。该晶圆舟盒包括多个晶圆留置区，凹陷于其主体内。一热绝缘垫片至少部分地设在该至少一晶圆留置区内，且于其周围壁面与该晶圆之间保持间隔。该垫片之材料的热传导率系小于该晶圆舟盒的热传导率，因此借由该垫片可以限制该晶圆舟盒主体之多个部分将热传导至该晶圆。该晶圆舟盒还包括与该垫片配合之一垫片固定结构，该垫片固定结构包括一表面，可防止该垫片在相对于该中心轴做旋转时产生离心位移。

3. 发明专利

TW201411125A 改善聲學轉換的裝置及方法审中-公开
简体标题：改善声学转换的设备及方法
公开(公告)号：TW201411125A
公开(公告)日：2014-03-16
申请号：TW102131583
申请日：2013-09-02
申请人：威科精密儀器公司 , VEECO INSTRUMENTS, INC.
发明人：洛格雷蒙C , LOGUE, RAYMOND C. , 西羅塔唐N , SIROTA, DON N. , 昆恩威廉E , QUINN, WILLIAM E. , 費瑞拉瑪利亞D , FERREIRA, MARIA D. , 華金斯歐文C , WATKINS, OWAN C. , 張巍 , ZHANG, WEI
IPC分类号： G01N29/12
CPC分类号： G01N29/00 , G01N29/036 , G01N29/222 , G01N29/2437 , G01N29/28 , G01N2291/022 , G10K11/02
摘要：一種具有包含低穿透性之保護阻障的最終匹配部之聲學轉換器。保護阻障係接觸測試介質。於一實施例中，保護阻障包含一或多個低穿透性層，例如設置於低阻抗層(例如聚亞醯氨)上之金屬箔片或金屬塗層，使得低阻抗層及保護阻障構成聲學轉換器之最終匹配部。於其他實施例中，保護阻障包含氟聚合物。亦揭露一種用以決定聲學轉換器之各種層的厚度之用於改善效能的方法。
简体摘要：一种具有包含低穿透性之保护阻障的最终匹配部之声学转换器。保护阻障系接触测试介质。于一实施例中，保护阻障包含一或多个低穿透性层，例如设置于低阻抗层(例如聚亚酰氨)上之金属箔片或金属涂层，使得低阻抗层及保护阻障构成声学转换器之最终匹配部。于其他实施例中，保护阻障包含氟聚合物。亦揭露一种用以决定声学转换器之各种层的厚度之用于改善性能的方法。

4. 发明专利

TW201108304A 連續進給式化學氣相沉積系統 CONTINUOUS FEED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM 审中-公开
简体标题：连续进给式化学气相沉积系统 CONTINUOUS FEED CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM
公开(公告)号：TW201108304A
公开(公告)日：2011-03-01
申请号：TW099118053
申请日：2010-06-04
申请人：威科精密儀器公司
发明人：阿莫艾瑞克A , 昆恩威廉E , 史佛拉索派爾洛
IPC分类号： H01L , C23C
CPC分类号： C23C16/54 , C23C16/4582 , C30B25/025 , C30B35/00
摘要：一種連續進給式化學氣相沈積系統,其包括於化學氣相沈積加工之過程中,用以將一晶圓傳送經過一沈積室之晶圓傳送機構。該沈積室界定出一用於該晶圓傳送機構於傳送該晶圓時容許該晶圓通過之通路。該沈積室包括若干處理室,該等處理室是被阻障層所隔離,用以維持在每一個該等若干處理室內的個別不同製程化學作用。每一個該等若干處理室包括一進氣口和一排氣口,以及若干化學氣相沈積氣體來源。至少二個該等若干化學氣相沈積氣體來源被連接至每一個該等若干處理室之該進氣口。
简体摘要：一种连续进给式化学气相沉积系统,其包括于化学气相沉积加工之过程中,用以将一晶圆发送经过一沉积室之晶圆发送机构。该沉积室界定出一用于该晶圆发送机构于发送该晶圆时容许该晶圆通过之通路。该沉积室包括若干处理室,该等处理室是被阻障层所隔离,用以维持在每一个该等若干处理室内的个别不同制程化学作用。每一个该等若干处理室包括一进气口和一排气口,以及若干化学气相沉积气体来源。至少二个该等若干化学气相沉积气体来源被连接至每一个该等若干处理室之该进气口。

5. 发明专利

TW201105817A 捲軸式化學氣相沉積系統 ROLL-TO-ROLL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM 审中-公开
简体标题：卷轴式化学气相沉积系统 ROLL-TO-ROLL CHEMICAL VAPOR DEPOSITION SYSTEM
公开(公告)号：TW201105817A
公开(公告)日：2011-02-16
申请号：TW099118054
申请日：2010-06-04
申请人：威科精密儀器公司
发明人：阿莫艾瑞克A , 昆恩威廉E , 史佛拉索派爾洛
IPC分类号： C23C
CPC分类号： C23C16/545 , C23C16/45502 , C30B25/14
摘要：一種捲軸式化學氣相沈積系統,其包括至少二滾輪,該至少二滾輪於化學氣相沈積加工之過程中,用以將一腹板傳送經過一沈積室。該沈積室界定出一用於容許該腹板通過之通路,且同時藉由該至少二滾輪來傳送該腹板。該沈積室包括若干處理室,該等處理室是被阻障層所隔離,用以維持在每一個該等若干處理室內的個別不同製程化學作用。每一個該等若干處理室包括一進氣口和一排氣口,以及若干化學氣相沈積氣體來源。至少二個該等若干化學氣相沈積氣體來源被連接至每一個該等若干處理室之該進氣口。
简体摘要：一种卷轴式化学气相沉积系统,其包括至少二滚轮,该至少二滚轮于化学气相沉积加工之过程中,用以将一腹板发送经过一沉积室。该沉积室界定出一用于容许该腹板通过之通路,且同时借由该至少二滚轮来发送该腹板。该沉积室包括若干处理室,该等处理室是被阻障层所隔离,用以维持在每一个该等若干处理室内的个别不同制程化学作用。每一个该等若干处理室包括一进气口和一排气口,以及若干化学气相沉积气体来源。至少二个该等若干化学气相沉积气体来源被连接至每一个该等若干处理室之该进气口。

6. 发明专利

TWI619942B 改善聲學轉換的裝置及方法有权
简体标题：改善声学转换的设备及方法
公开(公告)号：TWI619942B
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW102131583
申请日：2013-09-02
申请人：維克儀器公司 , VEECO INSTRUMENTS INC.
发明人：洛格雷蒙C , LOGUE, RAYMOND C. , 西羅塔唐N , SIROTA, DON N. , 昆恩威廉E , QUINN, WILLIAM E. , 費瑞拉瑪利亞D , FERREIRA, MARIA D. , 華金斯歐文C , WATKINS, OWAN C. , 張巍 , ZHANG, WEI
IPC分类号： G01N29/12
CPC分类号： G01N29/00 , G01N29/036 , G01N29/222 , G01N29/2437 , G01N29/28 , G01N2291/022 , G10K11/02

7. 发明专利

TWI471973B 具有斜邊之晶圓載體有权
简体标题：具有斜边之晶圆载体
公开(公告)号：TWI471973B
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW100107206
申请日：2011-03-03
申请人：維克儀器公司 , VEECO INSTRUMENTS INC.
发明人：密托維克波仁 , MITROVIC, BOJAN , 曼剛約書亞 , MANGUM, JOSHUA , 昆恩威廉E , QUINN, WILLIAM E.
IPC分类号： H01L21/683 , C23C16/54
CPC分类号： H01L21/68764 , C23C16/303 , C23C16/45563 , C23C16/45587 , C23C16/4584 , C23C16/4585 , H01L21/68735 , H01L21/68771

8. 发明专利

TWI619843B 在化學氣相沉積系統內具有供改善加熱一致性之設計的晶圓舟盒有权
简体标题：在化学气相沉积系统内具有供改善加热一致性之设计的晶圆舟盒
公开(公告)号：TWI619843B
公开(公告)日：2018-04-01
申请号：TW103109201
申请日：2014-03-14
申请人：維克儀器公司 , VEECO INSTRUMENTS INC.
发明人：克里斯南山迪普 , KRISHNAN, SANDEEP , 昆恩威廉E , QUINN, WILLIAM E. , 蒙哥馬利傑佛瑞S , MONTGOMERY, JEFFERY S. , 麥格南約書亞 , MANGUM, JOSHUA , 厄本盧卡斯 , URBAN, LUKAS
IPC分类号： C23C16/54
CPC分类号： C30B25/12 , B23P19/04 , C23C16/4584 , C23C16/4585 , H01L21/68728 , H01L21/68735 , H01L21/68764 , H01L21/68771 , Y10T29/49826

9. 发明专利

TWI411700B 具能量輸入之化學氣相沈積失效
简体标题：具能量输入之化学气相沉积
公开(公告)号：TWI411700B
公开(公告)日：2013-10-11
申请号：TW098133650
申请日：2009-10-02
申请人：維克儀器公司 , VEECO INSTRUMENTS INC.
发明人：亞莫艾瑞克A , ARMOUR, ERIC A. , 昆恩威廉E , QUINN, WILLIAM E. , 曼剛約書亞 , MANGUM, JOSHUA
IPC分类号： C23C16/48 , C23C16/455 , C23C16/30
CPC分类号： C23C16/511 , C23C16/303 , C23C16/45551 , C23C16/483 , C30B25/105 , C30B29/403 , C30B29/406

10. 发明专利

TW201309841A 多腔室ＣＶＤ處理系統审中-公开
简体标题：多腔室ＣＶＤ处理系统
公开(公告)号：TW201309841A
公开(公告)日：2013-03-01
申请号：TW101124661
申请日：2012-07-09
申请人：維克儀器公司 , VEECO INSTRUMENTS INC.
发明人：帕朗琵亞傑 , PARANJPE, AJIT , 亞莫艾瑞克A , ARMOUR, ERIC A. , 昆恩威廉E , QUINN, WILLIAM E.
IPC分类号： C23C16/54 , C23C16/455
CPC分类号： C23C16/4582 , C23C16/54 , C30B25/025 , C30B35/00
摘要：本發明係關於多腔室CVD系統，其包括複數個基板載體，其中每一基板載體適於支撐至少一個基板。複數個殼體各自經組態以形成封閉該複數個基板載體中一者之沈積腔室，從而維持用於實施處理步驟之獨立化學氣相沈積製程化學。輸送機構在離散步驟中將該複數個基板載體中之每一者輸送至該複數個殼體中之每一者，從而允許在該複數個殼體中實施處理步驟預定時間。在一些實施例中，該基板載體可旋轉。
简体摘要：本发明系关于多腔室CVD系统，其包括复数个基板载体，其中每一基板载体适于支撑至少一个基板。复数个壳体各自经组态以形成封闭该复数个基板载体中一者之沉积腔室，从而维持用于实施处理步骤之独立化学气相沉积制程化学。输送机构在离散步骤中将该复数个基板载体中之每一者输送至该复数个壳体中之每一者，从而允许在该复数个壳体中实施处理步骤预定时间。在一些实施例中，该基板载体可旋转。

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