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1. 发明专利

TW201311833A 撥液性硬化性墨水組成物审中-公开
简体标题：拨液性硬化性墨水组成物
公开(公告)号：TW201311833A
公开(公告)日：2013-03-16
申请号：TW101128919
申请日：2012-08-10
申请人：大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：森田正道 , MORITA, MASAMICHI , 木下佳子 , KINOSHITA, YOSHIKO
IPC分类号： C09D133/16 , C09D133/14 , C09D11/00 , C08J5/18 , G02B5/20
CPC分类号： C09D11/101 , C08F220/24 , C08F220/32 , C08F2220/285 , C09D11/38 , G02B5/223 , G02B27/0006
摘要：本發明揭示一種硬化性墨水組成物用撥液劑，該撥液劑含有以下述者為重複單位而成之含氟聚合物(A)：(a1)100重量份的具有碳數為1至8之氟烷基(碳原子間可具有醚性氧原子)之α位置經取代之丙烯酸酯、(a2)5至60重量份的具有環氧基之單體、及(a3)10至100重量份的含有-(R1O)nR2所示之環氧烷基之單體。當使用此撥液劑，僅藉由微量吐出法，便可於基材上形成具有高撥液性之硬化膜，以及，即使於硬化前接觸毗鄰之圖案，仍不會混雜而維持圖案形狀。
简体摘要：本发明揭示一种硬化性墨水组成物用拨液剂，该拨液剂含有以下述者为重复单位而成之含氟聚合物(A)：(a1)100重量份的具有碳数为1至8之氟烷基(碳原子间可具有醚性氧原子)之α位置经取代之丙烯酸酯、(a2)5至60重量份的具有环氧基之单体、及(a3)10至100重量份的含有-(R1O)nR2所示之环氧烷基之单体。当使用此拨液剂，仅借由微量吐出法，便可于基材上形成具有高拨液性之硬化膜，以及，即使于硬化前接触毗邻之图案，仍不会混杂而维持图案形状。

2. 发明专利

TW268902B 水中氟系油型乳化劑及表面處理劑組成物失效
简体标题：水中氟系油型乳化剂及表面处理剂组成物
公开(公告)号：TW268902B
公开(公告)日：1996-01-21
申请号：TW084100777
申请日：1995-01-27
申请人：大金工業股份有限公司
发明人：上杉憲正 , 久保元伸 , 森田正道
IPC分类号： B01F
CPC分类号： D06M15/277 , C08L51/003 , C08L55/005 , C09K3/18 , C08L2666/14
摘要：本發明為一種纖維處理劑組成物，係由含有使用分子中含氟系部分及親水性部分的接枝共聚合物或嵌段共聚合物形成之高分子型界面活性劑，將氟係油與水經乳化得到的水中氟系油型乳化劑所構成，安定性非常良好的乳化劑，且優異的初期防水防油性及防水防油或的耐磨損性提供良好的觸感。
简体摘要：本发明为一种纤维处理剂组成物，系由含有使用分子中含氟系部分及亲水性部分的接枝共聚合物或嵌段共聚合物形成之高分子型界面活性剂，将氟系油与水经乳化得到的水中氟系油型乳化剂所构成，安定性非常良好的乳化剂，且优异的初期防水防油性及防水防油或的耐磨损性提供良好的触感。

3. 发明专利

TW200946498A 聚合性含氟單體及含氟聚合物以及光阻圖型之形成方法 POLYMERIZABLE FLUORINE-CONTAINING MONOMER, FLUORINE-CONTAINING POLYMER AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN 审中-公开
简体标题：聚合性含氟单体及含氟聚合物以及光阻图型之形成方法 POLYMERIZABLE FLUORINE-CONTAINING MONOMER, FLUORINE-CONTAINING POLYMER AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
公开(公告)号：TW200946498A
公开(公告)日：2009-11-16
申请号：TW097151623
申请日：2008-12-31
申请人：大金工業股份有限公司
发明人：山下恒雄 , 岸川洋介 , 田中義人 , 森田正道
IPC分类号： C07C , C08F , G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/22 , G03F7/0046 , G03F7/11 , G03F7/2041
摘要：本發明係提供適用於在半導體裝置之製造等之中用以形成微細圖型之光阻層合體之光阻層或保護層，進而於使用水作為液狀介質之液浸微影中特別有用之聚合性含氟單體以及含氟聚合物及光阻圖型之形成方法，其為以下式(1)表示之聚合性含氟單體，
(式中，R 1 為氫原子或可含有氧原子、氮原子、硫原子或鹵素原子之鏈狀或環狀之飽和或不飽和之1價之碳數1~15之烴基)、其均聚物或共聚物，使用該等之藉由液浸微影法形成光阻圖型之方法。
简体摘要：本发明系提供适用于在半导体设备之制造等之中用以形成微细图型之光阻层合体之光阻层或保护层，进而于使用水作为液状介质之液浸微影中特别有用之聚合性含氟单体以及含氟聚合物及光阻图型之形成方法，其为以下式(1)表示之聚合性含氟单体， (式中，R 1 为氢原子或可含有氧原子、氮原子、硫原子或卤素原子之链状或环状之饱和或不饱和之1价之碳数1~15之烃基)、其均聚物或共聚物，使用该等之借由液浸微影法形成光阻图型之方法。

4. 发明专利

TW303404B 非水乳化型之表面處理劑組成物失效
简体标题：非水乳化型之表面处理剂组成物
公开(公告)号：TW303404B
公开(公告)日：1997-04-21
申请号：TW082109728
申请日：1993-11-19
申请人：大金工業股份有限公司
发明人：久保元伸 , 山本育男 , 山名雅之 , 阪本英司 , 森田正道
IPC分类号： D06M
摘要：本發明係有關以使用分子中具有聚合含有聚氟化烷基，或全氟化聚醚基的聚合性化合物之聚合物鏈或全氟化聚醚基所成的氟系嵌段與聚合烴系聚合性化合物之聚合物所成的烴系嵌段之高分子型界面活性劑乳化液狀之氟碳化物，全氟化聚醚，聚氯三氟化乙烯與液狀之烴類，氯系溶劑，酯類，酮類，醚類，醇類所得之烴系油中氟系油型乳液所成的表面處理劑組成物係有極優之長期安定者。
简体摘要：本发明系有关以使用分子中具有聚合含有聚氟化烷基，或全氟化聚醚基的聚合性化合物之聚合物链或全氟化聚醚基所成的氟系嵌段与聚合烃系聚合性化合物之聚合物所成的烃系嵌段之高分子型界面活性剂乳化液状之氟碳化物，全氟化聚醚，聚氯三氟化乙烯与液状之烃类，氯系溶剂，酯类，酮类，醚类，醇类所得之烃系油中氟系油型乳液所成的表面处理剂组成物系有极优之长期安定者。

5. 发明专利

TWI572683B 防水．防濕用塗覆組成物有权
简体标题：防水．防湿用涂覆组成物
公开(公告)号：TWI572683B
公开(公告)日：2017-03-01
申请号：TW102116693
申请日：2013-05-10
申请人：大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：久保田浩治 , KUBOTA, KOUJI , 椛澤誠 , HANAZAWA, MAKOTO , 森田正道 , MORITA, MASAMICHI , 山口央基 , YAMAGUCHI, HIROKI
IPC分类号： C09D133/16 , C09D5/16 , C09K3/18
CPC分类号： C09D133/16 , C08F220/24 , H01L23/293 , H01L2924/0002 , C08F2220/1875 , H01L2924/00

6. 发明专利

TW324016B 水性分散組成物之製法、以及拒水拒油劑與脫模劑失效
简体标题：水性分散组成物之制法、以及拒水拒油剂与脱模剂
公开(公告)号：TW324016B
公开(公告)日：1998-01-01
申请号：TW082109724
申请日：1993-11-19
申请人：大金工業股份有限公司
发明人：森田正道
IPC分类号： C08J
CPC分类号： D06M15/53 , B29C33/62 , C08F220/24 , C08F259/08 , C08F265/04 , C08F285/00 , C08F287/00 , D06M15/277 , C08F214/18
摘要：本發明係有關一種水性分散組成物之製法，其特徵係藉由將含聚氟化烷基之可聚合化合物３０～９０重量％及與其不相溶之其他可共聚合的化合物，在至少含有對於全聚合物為０‧１～２０重量％之相溶劑與界面活性劑的水中使用乳化裝置乳化，再用引發劑聚合所得之含氟共聚物１０～５０重量％，其中相溶劑係為選自由（ａ）分子中含有過氟化烷基與烴系烷基之低分子化合物，（ｂ）分子中含有過氟化聚醚基與烴系烷基之低分子化合物，（ｃ）含過氟化烷基之聚合性化合物與烴系聚合性化合物共聚合所成的高分子化合物，及（ｄ）分子中導入過氟化聚醚基之烴系高分子化合物所成群者。藉由該製法不會產生凝固物，可以提供聚合性化合物之相溶性經提高的水性分散組成物，做成拒水拒油劑或脫模劑時極為有用。
简体摘要：本发明系有关一种水性分散组成物之制法，其特征系借由将含聚氟化烷基之可聚合化合物３０～９０重量％及与其不相溶之其他可共聚合的化合物，在至少含有对于全聚合物为０‧１～２０重量％之相溶剂与界面活性剂的水中使用乳化设备乳化，再用引发剂聚合所得之含氟共聚物１０～５０重量％，其中相溶剂系为选自由（ａ）分子中含有过氟化烷基与烃系烷基之低分子化合物，（ｂ）分子中含有过氟化聚醚基与烃系烷基之低分子化合物，（ｃ）含过氟化烷基之聚合性化合物与烃系聚合性化合物共聚合所成的高分子化合物，及（ｄ）分子中导入过氟化聚醚基之烃系高分子化合物所成群者。借由该制法不会产生凝固物，可以提供聚合性化合物之相溶性经提高的水性分散组成物，做成拒水拒油剂或脱模剂时极为有用。

7. 发明专利

TWI529224B 耐久型防水．防濕性塗佈組成物有权
简体标题：耐久型防水．防湿性涂布组成物
公开(公告)号：TWI529224B
公开(公告)日：2016-04-11
申请号：TW102111877
申请日：2013-04-02
申请人：大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：久保田浩治 , KUBOTA, KOUJI , 椛澤誠 , HANAZAWA, MAKOTO , 森田正道 , MORITA, MASAMICHI , 山口央基 , YAMAGUCHI, HIROKI
IPC分类号： C09D5/16 , C09D133/16 , C09D153/00
CPC分类号： C08F220/22 , C08F220/24 , C09D133/16 , C08F2220/1875 , C08F2230/085

8. 发明专利

TWI485517B 撥液阻劑組成物有权
简体标题：拨液阻剂组成物
公开(公告)号：TWI485517B
公开(公告)日：2015-05-21
申请号：TW097114077
申请日：2008-04-18
申请人：大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：森田正道 , MORITA, MASAMICHI
IPC分类号： G03F7/032 , G03F7/038 , C08F20/24 , G02B5/20

9. 发明专利

TW201638292A 被膜、由其被膜而成的被覆方法以及經其被膜被覆而成的物品审中-公开
简体标题：被膜、由其被膜而成的被覆方法以及经其被膜被覆而成的物品
公开(公告)号：TW201638292A
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW104133344
申请日：2015-10-08
申请人：大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：山口央基 , YAMAGUCHI, HIROKI , 英翔 , HANABUSA, KAKERU , 森田正道 , MORITA, MASAMICHI
IPC分类号： C09K3/18 , C08F2/44 , C09D7/12 , C09C1/28 , C09C3/08 , C09D133/16 , C09D5/00
CPC分类号： C09D7/40 , C09D125/18 , C09D127/12 , C09D133/16 , C09D151/10 , C09D179/08 , C09D201/04
摘要：本發明提供耐磨耗性經改善之超撥液性被膜。一種被膜，其係含有下述聚合物之被膜，該聚合物分別具有基於(1)具有聚合性基之至少一種微粒子、以及(2)具有聚合性基之至少一種化合物之構成單位，前述微粒子(1)之至少一種以及/或前述化合物(2)之至少一種具有氟烷基，且，前述化合物(2)之至少一種為分子內具有2個以上聚合性基之化合物。
简体摘要：本发明提供耐磨耗性经改善之超拨液性被膜。一种被膜，其系含有下述聚合物之被膜，该聚合物分别具有基于(1)具有聚合性基之至少一种微粒子、以及(2)具有聚合性基之至少一种化合物之构成单位，前述微粒子(1)之至少一种以及/或前述化合物(2)之至少一种具有氟烷基，且，前述化合物(2)之至少一种为分子内具有2个以上聚合性基之化合物。

10. 发明专利

TW201441350A 用於壓印之阻劑組成物审中-公开
简体标题：用于压印之阻剂组成物
公开(公告)号：TW201441350A
公开(公告)日：2014-11-01
申请号：TW102144428
申请日：2013-12-04
申请人：大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：山下恒雄 , YAMASHITA, TSUNEO , 本多良隆 , HONDA, YOSHITAKA , 森田正道 , MORITA, MASAMICHI
IPC分类号： C09K3/00 , C08K5/06 , B29C59/02 , G03F7/00 , H01L21/027
CPC分类号： G03F7/0002 , G03F7/0046 , G03F7/027 , G03F7/032 , G03F7/033 , G03F7/038 , G03F7/0755
摘要：本發明之目的為提供一種用於壓印之阻劑組成物，此用於壓印之阻劑組成物，在維持高脫模性的同時，亦不易起泡，並抑制阻劑材料之表面張力的低下，更對環境影響小。即本發明為一種含有(A)硬化性樹脂或硬化性單體、(B)交聯觸媒、及(C)添加型脫模劑之用於壓印之阻劑組成物。
简体摘要：本发明之目的为提供一种用于压印之阻剂组成物，此用于压印之阻剂组成物，在维持高脱模性的同时，亦不易起泡，并抑制阻剂材料之表面张力的低下，更对环境影响小。即本发明为一种含有(A)硬化性树脂或硬化性单体、(B)交联触媒、及(C)添加型脱模剂之用于压印之阻剂组成物。

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