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1. 发明专利

TW202003433A 氟甲基衍生物之製造方法审中-公开
简体标题：氟甲基衍生物之制造方法
公开(公告)号：TW202003433A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108116296
申请日：2019-05-10
申请人：日商大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD. , 國立大學法人佐賀大學 , SAGA UNIVERSITY
发明人：東昌弘 , HIGASHI, MASAHIRO , 岸川洋介 , KISHIKAWA, YOSUKE , 北村二雄 , KITAMURA, TSUGIO
IPC分类号： C07C45/63 , C07C29/62 , C07C67/307 , C07B61/00 , C07C49/80 , C07C69/635 , C07C33/46
摘要：本案揭示之課題為提供一種新穎之氟甲基衍生物之製造方法。前述課題為藉由下述方法而解決，該方法為式(1)之氟化有機化合物之製造方法， [式中， R1為有機基， R2為氫、鹵素或有機基， R3為氫、鹵素或有機基， L為單鍵、烷二基、-CO-、-CONR-、-NRCO-、-O-CO-或 -CO-O-(此等之式中，R在各出現中獨立為氫或有機基)， R4為氫、鹵素、羥基或有機基， R3與R4亦可鍵結，及 RX為氫或氟基。但，R4為氫時，L為-CO-、-CONR-、-NRCO-、-O-CO-或 -CO-O-]，且該方法包含將式(2)之烯烴化合物於超原子價碘芳香環化合物(1a)之存在下，或在碘芳香環化合物(1b)及氧化劑(A)之存在下，與氟源[該氟源為式：MFn(該式中，M為H、周期表第一族金屬或周期表第二族金屬，及n為1或2)所表示之氟源(3a)]反應來進行氟化之步驟A， [式中，波浪線所示之單鍵表示關於此等鍵結之雙鍵之立體配置為E配置或Z配置或此等之任意比例之混合物，其他記號與前述相同含義]。
简体摘要：本案揭示之课题为提供一种新颖之氟甲基衍生物之制造方法。前述课题为借由下述方法而解决，该方法为式(1)之氟化有机化合物之制造方法， [式中， R1为有机基， R2为氢、卤素或有机基， R3为氢、卤素或有机基， L为单键、烷二基、-CO-、-CONR-、-NRCO-、-O-CO-或 -CO-O-(此等之式中，R在各出现中独立为氢或有机基)， R4为氢、卤素、羟基或有机基， R3与R4亦可键结，及 RX为氢或氟基。但，R4为氢时，L为-CO-、-CONR-、-NRCO-、-O-CO-或 -CO-O-]，且该方法包含将式(2)之烯烃化合物于超原子价碘芳香环化合物(1a)之存在下，或在碘芳香环化合物(1b)及氧化剂(A)之存在下，与氟源[该氟源为式：MFn(该式中，M为H、周期表第一族金属或周期表第二族金属，及n为1或2)所表示之氟源(3a)]反应来进行氟化之步骤A， [式中，波浪线所示之单键表示关于此等键结之双键之三維配置为E配置或Z配置或此等之任意比例之混合物，其他记号与前述相同含义]。

2. 发明专利

TW200526692A 光阻層合體之形成方法 METHOD OF FORMING LAMINATED RESIST 审中-公开
简体标题：光阻层合体之形成方法 METHOD OF FORMING LAMINATED RESIST
公开(公告)号：TW200526692A
公开(公告)日：2005-08-16
申请号：TW093135671
申请日：2004-11-19
申请人：大金工業股份有限公司 DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：荒木孝之 ARAKI, TAKAYUKI , 高明天 , 佐藤數行 , 大橋美保子 , 岸川洋介
IPC分类号： C08F
CPC分类号： G03F7/0046 , C09D133/16 , G03F7/091
摘要：本發明係形成一種於利用真空紫外線區域光線之光微影製程，具有充分的防反射效果，而且於顯像製程中具有充分的顯像特性之光阻層合體。其為包含(I)於基板上形成光阻層(L1)之步驟、及(II)於光阻層(L1)上藉由塗佈含有具親水性基Y的含氟聚合物(A)之塗覆組成物形成防反射層(L2)之步驟的光阻層合體之形成方法，其特徵為，含氟聚合物(A)含有來自具親水性基Y的含氟乙烯性單體之結構單元，而且該含氟聚合物(A)為(i)親水性基Y含有pKa為11以下的酸性OH基、(ii)氟含有率為50質量％以上、及(iii)含氟聚合物(A)100g中之親水性基Y的莫耳數為0.14以上者。
简体摘要：本发明系形成一种于利用真空紫外线区域光线之光微影制程，具有充分的防反射效果，而且于显像制程中具有充分的显像特性之光阻层合体。其为包含(I)于基板上形成光阻层(L1)之步骤、及(II)于光阻层(L1)上借由涂布含有具亲水性基Y的含氟聚合物(A)之涂覆组成物形成防反射层(L2)之步骤的光阻层合体之形成方法，其特征为，含氟聚合物(A)含有来自具亲水性基Y的含氟乙烯性单体之结构单元，而且该含氟聚合物(A)为(i)亲水性基Y含有pKa为11以下的酸性OH基、(ii)氟含有率为50质量％以上、及(iii)含氟聚合物(A)100g中之亲水性基Y的莫耳数为0.14以上者。

3. 发明专利

TW201022354A 水性聚合物分散體組成物及表面處理劑 AQUEOUS POLYMER DISPERSION COMPOSITION AND SURFACE TREATMENT AGENT 审中-公开
简体标题：水性聚合物分散体组成物及表面处理剂 AQUEOUS POLYMER DISPERSION COMPOSITION AND SURFACE TREATMENT AGENT
公开(公告)号：TW201022354A
公开(公告)日：2010-06-16
申请号：TW098130873
申请日：2009-09-14
申请人：大金工業股份有限公司 , 道康寧公司
发明人：茂原健介 , 岸川洋介 , 武內留美 , 宮永繪美 , 宮原正弘 , 柏木正人 , 南晉一 , 山本育男 , 霍普菲德彼得翠思爾
IPC分类号： C08L , C09K , C08F , D06M
CPC分类号： D06M15/6436 , C08F283/122 , C08L51/085 , C09D151/085 , D06M15/277 , D06M15/3568 , C08F220/24 , C08L2666/04
摘要：本發明有關一種表面處理劑，其可賦與基材極佳之防水和防油性、防污性及觸感。表面處理劑係由含有下列各者之水性分散體防水和防油組成物獲得：(I)含氟聚合物，其包括衍生自包括含氟單體之單體之重複單元，其中，該含氟聚合物具有由官能性有機聚矽氧烷擁有之聚矽氧部分；及(II)不含氟聚合物，其包括乙烯基單體。
简体摘要：本发明有关一种表面处理剂，其可赋与基材极佳之防水和防油性、防污性及触感。表面处理剂系由含有下列各者之水性分散体防水和防油组成物获得：(I)含氟聚合物，其包括衍生自包括含氟单体之单体之重复单元，其中，该含氟聚合物具有由官能性有机聚硅氧烷拥有之聚硅氧部分；及(II)不含氟聚合物，其包括乙烯基单体。

4. 发明专利

TW200946498A 聚合性含氟單體及含氟聚合物以及光阻圖型之形成方法 POLYMERIZABLE FLUORINE-CONTAINING MONOMER, FLUORINE-CONTAINING POLYMER AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN 审中-公开
简体标题：聚合性含氟单体及含氟聚合物以及光阻图型之形成方法 POLYMERIZABLE FLUORINE-CONTAINING MONOMER, FLUORINE-CONTAINING POLYMER AND METHOD OF FORMING RESIST PATTERN
公开(公告)号：TW200946498A
公开(公告)日：2009-11-16
申请号：TW097151623
申请日：2008-12-31
申请人：大金工業股份有限公司
发明人：山下恒雄 , 岸川洋介 , 田中義人 , 森田正道
IPC分类号： C07C , C08F , G03F , H01L
CPC分类号： G03F7/0397 , C08F220/22 , G03F7/0046 , G03F7/11 , G03F7/2041
摘要：本發明係提供適用於在半導體裝置之製造等之中用以形成微細圖型之光阻層合體之光阻層或保護層，進而於使用水作為液狀介質之液浸微影中特別有用之聚合性含氟單體以及含氟聚合物及光阻圖型之形成方法，其為以下式(1)表示之聚合性含氟單體，
(式中，R 1 為氫原子或可含有氧原子、氮原子、硫原子或鹵素原子之鏈狀或環狀之飽和或不飽和之1價之碳數1~15之烴基)、其均聚物或共聚物，使用該等之藉由液浸微影法形成光阻圖型之方法。
简体摘要：本发明系提供适用于在半导体设备之制造等之中用以形成微细图型之光阻层合体之光阻层或保护层，进而于使用水作为液状介质之液浸微影中特别有用之聚合性含氟单体以及含氟聚合物及光阻图型之形成方法，其为以下式(1)表示之聚合性含氟单体， (式中，R 1 为氢原子或可含有氧原子、氮原子、硫原子或卤素原子之链状或环状之饱和或不饱和之1价之碳数1~15之烃基)、其均聚物或共聚物，使用该等之借由液浸微影法形成光阻图型之方法。

5. 发明专利

TW201831397A 四氟化硫之製造方法审中-公开
简体标题：四氟化硫之制造方法
公开(公告)号：TW201831397A
公开(公告)日：2018-09-01
申请号：TW106139174
申请日：2017-11-13
申请人：日商大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：大塚達也 , OHTSUKA, TATSUYA , 黒木克親 , KUROKI, YOSHICHIKA , 白井淳 , SHIRAI, ATSUSHI , 細川萌 , HOSOKAWA, MOE , 岸川洋介 , KISHIKAWA, YOSUKE
IPC分类号： C01B17/45 , C01B7/24
摘要：本發明之課題在於提供四氟化硫之簡便製造方法。　　前述課題係藉由下述之製造方法得以解決，該製造方法係四氟化硫之製造方法，其包含使式：XFn(該式中，X為氯、溴或碘，以及n為1～5之自然數)所表示之氟化鹵化合物與氯化硫反應之步驟A。
简体摘要：本发明之课题在于提供四氟化硫之简便制造方法。　　前述课题系借由下述之制造方法得以解决，该制造方法系四氟化硫之制造方法，其包含使式：XFn(该式中，X为氯、溴或碘，以及n为1～5之自然数)所表示之氟化卤化合物与氯化硫反应之步骤A。

6. 发明专利

TW200417556A 含光硬化性含氟聚合物之光學材料及光硬化性含氟樹脂組成物审中-公开
简体标题：含光硬化性含氟聚合物之光学材料及光硬化性含氟树脂组成物
公开(公告)号：TW200417556A
公开(公告)日：2004-09-16
申请号：TW092122168
申请日：2003-08-12
申请人：大金工業股份有限公司 DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：大橋美保子 , 岸川洋介 , 佐藤數行 , 荒木孝之
IPC分类号： C08F
CPC分类号： G02B1/045 , C08F20/22 , C08K5/0025 , C09D127/12 , G02B6/1221 , G02B6/138 , G02B2006/12069 , G02B2006/1219 , G03F7/0046 , G03F7/038 , C08L27/12
摘要：本發明為有關一種含有式(1)092122168p01.bmp(式中，結構單位M為於支鏈上具有交聯性環狀醚結構之含氟有機基產生之結構單位，結構單位A為可與該式(M)所示含氟乙烯性單體共聚之單體所產生之結構單位)，又，結構單位M為含0.1至100莫耳％與結構單位A為含0至99.9莫耳％，數平均分子量為500至1000000之硬化性含氟聚合物(I)，及光酸產生劑(II)所組成之光學材料，其適合作為光波導路或封裝構件等光設備(device)用材料及反射防止膜等顯示裝置用材料，且於近紅外線區域中具有優良透明性，又具有優良耐吸濕性、耐熱性等之光學材料，及硬化所得之元件。
简体摘要：本发明为有关一种含有式(1)092122168p01.bmp(式中，结构单位M为于支链上具有交联性环状醚结构之含氟有机基产生之结构单位，结构单位A为可与该式(M)所示含氟乙烯性单体共聚之单体所产生之结构单位)，又，结构单位M为含0.1至100莫耳％与结构单位A为含0至99.9莫耳％，数平均分子量为500至1000000之硬化性含氟聚合物(I)，及光酸产生剂(II)所组成之光学材料，其适合作为光波导路或封装构件等光设备(device)用材料及反射防止膜等显示设备用材料，且于近红外线区域中具有优良透明性，又具有优良耐吸湿性、耐热性等之光学材料，及硬化所得之组件。

7. 发明专利

TW201838963A 二氟亞甲基化合物的製造方法审中-公开
简体标题：二氟亚甲基化合物的制造方法
公开(公告)号：TW201838963A
公开(公告)日：2018-11-01
申请号：TW106145660
申请日：2017-12-26
申请人：日商大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：大達也 , OHTSUKA, TATSUYA , 黒木克親 , KUROKI, YOSHICHIKA , 白井淳 , SHIRAI, ATSUSHI , 細川萌 , HOSOKAWA, MOE , 岸川洋介 , KISHIKAWA, YOSUKE
IPC分类号： C07C67/307 , C07C69/63
摘要：本發明之課題在於提供新穎之二氟亞甲基化合物的製造方法。　　前述課題可藉由下述製造方法解決，該製造方法係具有-CF2-部分之二氟亞甲基化合物的製造方法，其包含混合下述a)~e)之步驟A：　　a)具有-C(O)-部分之羰基化合物；　　b)胺，視期望添加；　　c)式：MF(該式中，M表示週期表1族之元素)所表示之氟化物；　　d)式：XFn(該式中，X為氯、溴或碘，及n為1~5之自然數)所表示之鹵化氟化合物；及　　e)氯化硫。
简体摘要：本发明之课题在于提供新颖之二氟亚甲基化合物的制造方法。　　前述课题可借由下述制造方法解决，该制造方法系具有-CF2-部分之二氟亚甲基化合物的制造方法，其包含混合下述a)~e)之步骤A：　　a)具有-C(O)-部分之羰基化合物；　　b)胺，视期望添加；　　c)式：MF(该式中，M表示周期表1族之元素)所表示之氟化物；　　d)式：XFn(该式中，X为氯、溴或碘，及n为1~5之自然数)所表示之卤化氟化合物；及　　e)氯化硫。

9. 发明专利

TWI307346B 光阻層合體之形成方法 METHOD OF FORMING LAMINATED RESIST 有权
简体标题：光阻层合体之形成方法 METHOD OF FORMING LAMINATED RESIST
公开(公告)号：TWI307346B
公开(公告)日：2009-03-11
申请号：TW093135671
申请日：2004-11-19
申请人：大金工業股份有限公司 DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：荒木孝之 ARAKI, TAKAYUKI , 高明天 , 佐藤數行 , 大橋美保子 , 岸川洋介
IPC分类号： C08F , G03F
CPC分类号： G03F7/0046 , C09D133/16 , G03F7/091
摘要：本發明係形成一種於利用真空紫外線區域光線之光微影製程,具有充分的防反射效果,而且於顯像製程中具有充分的顯像特性之光阻層合體。其為包含(I)於基板上形成光阻層(L1)之步驟、及(II)於光阻層(L1)上藉由塗佈含有具親水性基Y的含氟聚合物(A)之塗覆組成物形成防反射層(L2)之步驟的光阻層合體之形成方法,其特徵為,含氟聚合物(A)含有來自具親水性基Y的含氟乙烯性單體之結構單元,而且該含氟聚合物(A)為(i)親水性基Y含有pKa為11以下的酸性OH基、(ii)氟含有率為50質量%以上、及(iii)含氟聚合物(A)100g中之親水性基Y的莫耳數為0.14以上者。
简体摘要：本发明系形成一种于利用真空紫外线区域光线之光微影制程,具有充分的防反射效果,而且于显像制程中具有充分的显像特性之光阻层合体。其为包含(I)于基板上形成光阻层(L1)之步骤、及(II)于光阻层(L1)上借由涂布含有具亲水性基Y的含氟聚合物(A)之涂覆组成物形成防反射层(L2)之步骤的光阻层合体之形成方法,其特征为,含氟聚合物(A)含有来自具亲水性基Y的含氟乙烯性单体之结构单元,而且该含氟聚合物(A)为(i)亲水性基Y含有pKa为11以下的酸性OH基、(ii)氟含有率为50质量%以上、及(iii)含氟聚合物(A)100g中之亲水性基Y的莫耳数为0.14以上者。

10. 发明专利

TWI250999B 含光硬化性含氟聚合物之光學材料及光硬化性含氟樹脂組成物 OPTICAL MATERIAL COMPRISING PHOTO-CURABLE FLUORINE-CONTAINING POLYMER AND PHOTO-CURABLE FLUORINE-CONTAINING RESIN COMPOSITION 有权
简体标题：含光硬化性含氟聚合物之光学材料及光硬化性含氟树脂组成物 OPTICAL MATERIAL COMPRISING PHOTO-CURABLE FLUORINE-CONTAINING POLYMER AND PHOTO-CURABLE FLUORINE-CONTAINING RESIN COMPOSITION
公开(公告)号：TWI250999B
公开(公告)日：2006-03-11
申请号：TW092122168
申请日：2003-08-12
申请人：大金工業股份有限公司 DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：大橋美保子 , 岸川洋介 , 佐藤數行 , 荒木孝之 ARAKI, TAKAYUKI
IPC分类号： C08F
CPC分类号： G02B1/045 , C08F20/22 , C08K5/0025 , C09D127/12 , G02B6/1221 , G02B6/138 , G02B2006/12069 , G02B2006/1219 , G03F7/0046 , G03F7/038 , C08L27/12
摘要：本發明為有關一種含有式(1)
(1)
(式中，結構單位M為於支鏈上具有交聯性環狀醚結構之含氟有機基產生之結構單位，結構單位A為可與該式(M)所示含氟乙烯性單體共聚之單體所產生之結構單位)，又，結構單位M為含0.1至100莫耳%與結構單位A為含0至99.9莫耳%，數平均分子量為500至1000000之硬化性含氟聚合物(I)，及光酸產生劑(II)所組成之光學材料，其適合作為光波導路或封裝構件等光設備(device)用材料及反射防止膜等顯示裝置用材料，且於近紅外線區域中具有優良透明性，又具有優良耐吸濕性、耐熱性等之光學材料，及硬化所得之元件。
简体摘要：本发明为有关一种含有式(1) (1) (式中，结构单位M为于支链上具有交联性环状醚结构之含氟有机基产生之结构单位，结构单位A为可与该式(M)所示含氟乙烯性单体共聚之单体所产生之结构单位)，又，结构单位M为含0.1至100莫耳%与结构单位A为含0至99.9莫耳%，数平均分子量为500至1000000之硬化性含氟聚合物(I)，及光酸产生剂(II)所组成之光学材料，其适合作为光波导路或封装构件等光设备(device)用材料及反射防止膜等显示设备用材料，且于近红外线区域中具有优良透明性，又具有优良耐吸湿性、耐热性等之光学材料，及硬化所得之组件。

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