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1. 发明专利

TWI392350B 固態攝像元件及其製造方法有权
简体标题：固态摄像组件及其制造方法
公开(公告)号：TWI392350B
公开(公告)日：2013-04-01
申请号：TW095135666
申请日：2006-09-27
申请人：大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：栗原正彰 , MASAAKI KURIHARA , 阿部真 , MAKOTO ABE , 鈴木勝敏 , KATSUTOSHI SUZUKI
IPC分类号： H04N5/335 , H04N5/238 , H01L27/14
CPC分类号： H01L27/14627 , H01L27/14685

2. 发明专利

TW201743368A 模片與模片基底、及壓印用模片基板之製造方法、壓印用模片之製造方法、及模片审中-公开
简体标题：模片与模片基底、及压印用模片基板之制造方法、压印用模片之制造方法、及模片
公开(公告)号：TW201743368A
公开(公告)日：2017-12-16
申请号：TW106117357
申请日：2017-05-25
申请人：大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：長井隆治 , NAGAI, TAKAHARU , 鈴木勝敏 , SUZUKI, KATSUTOSHI , 市村公二 , ICHIMURA, KOJI , 吉田幸司 , YOSHIDA, KOUJI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , B29C59/02
CPC分类号： B29C33/38 , B29C59/02 , H01L21/027
摘要：於用於將凹凸構造之轉印圖案轉印於被轉印基板之上之樹脂的壓印微影之模片與模片基底中，藉由於基部之主面之上形成第1階差構造，且於上述第1階差構造之上形成第2階差構造，並利用遮光膜覆蓋上述第1階差構造之上表面之上述第2階差構造之外側之區域而解決上述課題。
简体摘要：于用于将凹凸构造之转印图案转印于被转印基板之上之树脂的压印微影之模片与模片基底中，借由于基部之主面之上形成第1阶差构造，且于上述第1阶差构造之上形成第2阶差构造，并利用遮光膜覆盖上述第1阶差构造之上表面之上述第2阶差构造之外侧之区域而解决上述课题。

3. 发明专利

TWI633584B 模片與模片基底、及壓印用模片基板之製造方法、壓印用模片之製造方法、及模片有权
简体标题：模片与模片基底、及压印用模片基板之制造方法、压印用模片之制造方法、及模片
公开(公告)号：TWI633584B
公开(公告)日：2018-08-21
申请号：TW106117357
申请日：2017-05-25
申请人：大日本印刷股份有限公司 , DAI NIPPON PRINTING CO., LTD.
发明人：長井隆治 , NAGAI, TAKAHARU , 鈴木勝敏 , SUZUKI, KATSUTOSHI , 市村公二 , ICHIMURA, KOJI , 吉田幸司 , YOSHIDA, KOUJI
IPC分类号： H01L21/027 , G03F7/20 , B29C59/02

4. 发明专利

TWI363194B 微透鏡之製造方法 METHOD FOR MANUFACTURING MICROLENS 有权
简体标题：微透镜之制造方法 METHOD FOR MANUFACTURING MICROLENS
公开(公告)号：TWI363194B
公开(公告)日：2012-05-01
申请号：TW096127640
申请日：2007-07-27
申请人：大日本印刷股份有限公司
发明人：鈴木勝敏 , 栗原正彰
IPC分类号： G02B
CPC分类号： G02B3/0018 , G03F7/0005 , G03F7/2022
摘要：本發明主要目的係提供可依簡便方法形成具有最大膜厚位置不同於重心位置之形狀，且其形狀滑順之微透鏡的微透鏡之製造方法。
本發明係藉由提供下述微透鏡之製造方法，而解決上述問題；該方法係包括有：基礎形狀形成用曝光步驟，其係對在基板上所形成的感光性樹脂層，使用微透鏡基礎形狀形成用遮罩施行曝光；以及變形用曝光步驟，其係對上述感光性樹脂層，使用微透鏡變形用遮罩，施行具有與上述基礎形狀形成用曝光步驟施行之際的曝光不同單位格子曝光分佈之曝光；可形成最大膜厚位置不同於重心位置的微透鏡。
简体摘要：本发明主要目的系提供可依简便方法形成具有最大膜厚位置不同于重心位置之形状，且其形状滑顺之微透镜的微透镜之制造方法。本发明系借由提供下述微透镜之制造方法，而解决上述问题；该方法系包括有：基础形状形成用曝光步骤，其系对在基板上所形成的感光性树脂层，使用微透镜基础形状形成用遮罩施行曝光；以及变形用曝光步骤，其系对上述感光性树脂层，使用微透镜变形用遮罩，施行具有与上述基础形状形成用曝光步骤施行之际的曝光不同单位格子曝光分布之曝光；可形成最大膜厚位置不同于重心位置的微透镜。

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