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1. 发明专利

TWI687370B 二氧化氯產生用單元及二氧化氯產生裝置有权
简体标题：二氧化氯产生用单元及二氧化氯产生设备
公开(公告)号：TWI687370B
公开(公告)日：2020-03-11
申请号：TW105116600
申请日：2016-05-27
申请人：日商大幸藥品股份有限公司 , TAIKO PHARMACEUTICALS CO., LTD.
发明人：松原一喜 , MATSUBARA, KAZUKI , 滝川裕弘 , TAKIGAWA, YASUHIRO , 田口和彦 , TAGUCHI, KAZUHIKO , 田浦浩一 , TAURA, KOUICHI , 逆瀬川三有生 , SAKASEGAWA, MIYUSSE , 中原弘一 , NAKAHARA, KOICHI , 加藤大輔 , KATO, DAISUKE , 曾川甲子郎 , SOGAWA, KOSHIRO
IPC分类号： C01B11/02 , B01J7/00 , A61L9/01 , A61L9/015 , A61L9/18

2. 发明专利

TW201700398A 二氧化氯產生用單元及二氧化氯產生裝置审中-公开
简体标题：二氧化氯产生用单元及二氧化氯产生设备
公开(公告)号：TW201700398A
公开(公告)日：2017-01-01
申请号：TW105116600
申请日：2016-05-27
申请人：大幸藥品股份有限公司 , TAIKO PHARMACEUTICALS CO., LTD.
发明人：松原一喜 , MATSUBARA, KAZUKI , 滝川裕弘 , TAKIGAWA, YASUHIRO , 田口和彦 , TAGUCHI, KAZUHIKO , 田浦浩一 , TAURA, KOUICHI , 逆瀬川三有生 , SAKASEGAWA, MIYUSSE , 中原弘一 , NAKAHARA, KOICHI , 加藤大輔 , KATO, DAISUKE , 曾川甲子郎 , SOGAWA, KOSHIRO
IPC分类号： C01B11/02 , B01J7/00 , A61L9/01 , A61L9/015 , A61L9/18
CPC分类号： B01J35/02 , C01B11/02
摘要：本發明之課題在於提供一種小型且可涵蓋長時間釋出實用上為充分量之二氧化氯之二氧化氯產生用單元。本發明之解決手段係提供一種二氧化氯產生用單元，其特徵為：前述單元具備藥劑容納部及至少2個光源部，前述光源部用以產生實質上由可見區域的波長所構成之光，於前述藥劑容納部容納有包含固形的亞氯酸鹽之藥劑，於前述藥劑容納部，以使空氣可在前述藥劑容納部的內部與外部移動之方式具備1個或複數個開口部，前述藥劑容納部之前述1個或複數個開口部係由通氣性薄片所覆蓋，在此，存在於前述藥劑容納部的內部之前述藥劑，係以由前述光源部所產生之前述光來照射而產生二氧化氯氣體。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种小型且可涵盖长时间发佈实用上为充分量之二氧化氯之二氧化氯产生用单元。本发明之解决手段系提供一种二氧化氯产生用单元，其特征为：前述单元具备药剂容纳部及至少2个光源部，前述光源部用以产生实质上由可见区域的波长所构成之光，于前述药剂容纳部容纳有包含固形的亚氯酸盐之药剂，于前述药剂容纳部，以使空气可在前述药剂容纳部的内部与外部移动之方式具备1个或复数个开口部，前述药剂容纳部之前述1个或复数个开口部系由通气性薄片所覆盖，在此，存在于前述药剂容纳部的内部之前述药剂，系以由前述光源部所产生之前述光来照射而产生二氧化氯气体。

3. 发明专利

TWI684678B 電解式二氧化氯氣體製造裝置有权
简体标题：电解式二氧化氯气体制造设备
公开(公告)号：TWI684678B
公开(公告)日：2020-02-11
申请号：TW104128285
申请日：2015-08-28
申请人：日商大幸藥品股份有限公司 , TAIKO PHARMACEUTICALS CO., LTD.
发明人：松原一喜 , MATSUBARA, KAZUKI , 滝川裕弘 , TAKIGAWA, YASUHIRO , 田口和彦 , TAGUCHI, KAZUHIKO , 麻田茂雄 , ASADA, SHIGEO , 田浦浩一 , TAURA, KOUICHI , 中原弘一 , NAKAHARA, KOICHI , 加藤大輔 , KATO, DAISUKE
IPC分类号： C25B1/26 , C01B11/02

4. 发明专利

TW201610236A 電解式二氧化氯氣體製造裝置审中-公开
简体标题：电解式二氧化氯气体制造设备
公开(公告)号：TW201610236A
公开(公告)日：2016-03-16
申请号：TW104128285
申请日：2015-08-28
申请人：大幸藥品股份有限公司 , TAIKO PHARMACEUTICALS CO., LTD.
发明人：松原一喜 , MATSUBARA, KAZUKI , 滝川裕弘 , TAKIGAWA, YASUHIRO , 田口和彦 , TAGUCHI, KAZUHIKO , 麻田茂雄 , ASADA, SHIGEO , 田浦浩一 , TAURA, KOUICHI , 中原弘一 , NAKAHARA, KOICHI , 加藤大輔 , KATO, DAISUKE
IPC分类号： C25B1/26 , C01B11/02
CPC分类号： C25B1/26 , C01B11/022 , C25B9/02 , C25B9/06 , C25B9/08 , C25B15/02
摘要：本發明提供一種可正確地控制二氧化氯產生量的二氧化氯製造裝置。本發明提供的二氧化氯製造裝置具備電解室、液位測定室以及起泡氣體供給裝置。於電解室及液位測定室中，各別含有電解液以及氣體，電解液含有亞氯酸鹽水溶液，而電解室與液位測定室係以使各室中所含的電解液的高度成為實質相等的方式，於各別電解液的液面上方通過氣體配管使彼此連結，而且於各別電解液的液面下方通過電解液配管使彼此連結。電解室具備陰極與陽極，前述陰極與陽極固定於間隔件，而電解室係於電解室的電解液中具備起泡氣體供給部，該起泡氣體供給部係用以從電解室外藉由起泡將氣體供給到電解室中的電解液，氣體供給部是通過配管與配置在電解室外的前述起泡氣體供給裝置連接，而液位測定室具有用以測定液位的手段。
简体摘要：本发明提供一种可正确地控制二氧化氯产生量的二氧化氯制造设备。本发明提供的二氧化氯制造设备具备电解室、液位测定室以及起泡气体供给设备。于电解室及液位测定室中，各别含有电解液以及气体，电解液含有亚氯酸盐水溶液，而电解室与液位测定室系以使各室中所含的电解液的高度成为实质相等的方式，于各别电解液的液面上方通过气体配管使彼此链接，而且于各别电解液的液面下方通过电解液配管使彼此链接。电解室具备阴极与阳极，前述阴极与阳极固定于间隔件，而电解室系于电解室的电解液中具备起泡气体供给部，该起泡气体供给部系用以从电解室外借由起泡将气体供给到电解室中的电解液，气体供给部是通过配管与配置在电解室外的前述起泡气体供给设备连接，而液位测定室具有用以测定液位的手段。

5. 发明专利

TW201532954A 以照射可見光而產生二氧化氯之組成物审中-公开
简体标题：以照射可见光而产生二氧化氯之组成物
公开(公告)号：TW201532954A
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW103145447
申请日：2014-12-25
申请人：大幸藥品股份有限公司 , TAIKO PHARMACEUTICALS CO., LTD.
发明人：滝川裕弘 , TAKIGAWA, YASUHIRO , 中原弘一 , NAKAHARA, KOICHI , 加藤大輔 , KATO, DAISUKE , 田口和彦 , TAGUCHI, KAZUHIKO , 松原一喜 , MATSUBARA, KAZUKI , 曾川甲子郎 , SOGAWA, KOSHIRO , 田浦浩一 , TAURA, KOUICHI , 逆瀬川三有生 , SAKASEGAWA, MIYUSSE
IPC分类号： C01B11/02 , B01J19/08
CPC分类号： B01J7/00 , B01J19/123 , B01J19/127 , B01J21/063 , B01J35/004 , B01J2219/0879 , B01J2219/0892 , B01J2219/1203 , C01B11/024
摘要：本發明之課題在於提供一種用以穩定地產生實用上為充分量之二氧化氯之組成物。本發明之解決手段係提供一種組成物，係以照射可見光而產生二氧化氯之組成物，其特徵為：前述組成物包含(A)載持亞氯酸鹽之多孔質物質與(B)二氧化鈦，前述組成物為固體。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种用以稳定地产生实用上为充分量之二氧化氯之组成物。本发明之解决手段系提供一种组成物，系以照射可见光而产生二氧化氯之组成物，其特征为：前述组成物包含(A)载持亚氯酸盐之多孔质物质与(B)二氧化钛，前述组成物为固体。

6. 发明专利

TWI638767B 二氧化氯產生裝置及二氧化氯產生用單元有权
简体标题：二氧化氯产生设备及二氧化氯产生用单元
公开(公告)号：TWI638767B
公开(公告)日：2018-10-21
申请号：TW103145449
申请日：2014-12-25
申请人：大幸藥品股份有限公司 , TAIKO PHARMACEUTICALS CO., LTD.
发明人：滝川裕弘 , TAKIGAWA, YASUHIRO , 中原弘一 , NAKAHARA, KOICHI , 加藤大輔 , KATO, DAISUKE , 田口和彦 , TAGUCHI, KAZUHIKO
IPC分类号： C01B11/02 , B01J7/00 , B01J19/08 , B01J21/06 , B01J23/04 , B01J23/44 , B01J23/755 , B01J35/02 , A61L2/20 , A61L9/01 , A61L9/015 , A61L9/18

7. 发明专利

TWI635042B 以照射可見光而產生二氧化氯之組成物有权
简体标题：以照射可见光而产生二氧化氯之组成物
公开(公告)号：TWI635042B
公开(公告)日：2018-09-11
申请号：TW103145447
申请日：2014-12-25
申请人：大幸藥品股份有限公司 , TAIKO PHARMACEUTICALS CO., LTD.
发明人：滝川裕弘 , TAKIGAWA, YASUHIRO , 中原弘一 , NAKAHARA, KOICHI , 加藤大輔 , KATO, DAISUKE , 田口和彦 , TAGUCHI, KAZUHIKO , 松原一喜 , MATSUBARA, KAZUKI , 曾川甲子郎 , SOGAWA, KOSHIRO , 田浦浩一 , TAURA, KOUICHI , 逆瀬川三有生 , SAKASEGAWA, MIYUSSE
IPC分类号： C01B11/02 , B01J19/08

8. 发明专利

TW201532955A 二氧化氯產生裝置及二氧化氯產生用單元审中-公开
简体标题：二氧化氯产生设备及二氧化氯产生用单元
公开(公告)号：TW201532955A
公开(公告)日：2015-09-01
申请号：TW103145449
申请日：2014-12-25
申请人：大幸藥品股份有限公司 , TAIKO PHARMACEUTICALS CO., LTD.
发明人：滝川裕弘 , TAKIGAWA, YASUHIRO , 中原弘一 , NAKAHARA, KOICHI , 加藤大輔 , KATO, DAISUKE , 田口和彦 , TAGUCHI, KAZUHIKO
IPC分类号： C01B11/02 , B01J7/00 , B01J19/08 , B01J21/06 , B01J23/04 , B01J23/44 , B01J23/755 , B01J35/02 , A61L2/20 , A61L9/01 , A61L9/015 , A61L9/18
CPC分类号： B01J35/02 , B01J21/063 , B01J23/8946 , C01B11/024
摘要：本發明之課題在於提供一種小型且可涵蓋極長時間釋出實用上為充分的量之二氧化氯之二氧化氯產生裝置。本發明之解決手段係提供一種二氧化氯產生裝置，其特徵為：前述裝置具備光源部及藥劑容納部，前述光源部用以產生實質上由可見區域的波長所構成之光，於前述藥劑容納部，容納有包含固形的亞氯酸鹽及金屬觸媒或金屬氧化物觸媒之藥劑，於前述藥劑容納部，以使空氣可在內部與外部移動之方式具備1個或複數個開口部，在此，存在於前述藥劑容納部的內部之前述藥劑，係以由前述光源部所產生之前述光來照射而產生二氧化氯氣體。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种小型且可涵盖极长时间发佈实用上为充分的量之二氧化氯之二氧化氯产生设备。本发明之解决手段系提供一种二氧化氯产生设备，其特征为：前述设备具备光源部及药剂容纳部，前述光源部用以产生实质上由可见区域的波长所构成之光，于前述药剂容纳部，容纳有包含固形的亚氯酸盐及金属触媒或金属氧化物触媒之药剂，于前述药剂容纳部，以使空气可在内部与外部移动之方式具备1个或复数个开口部，在此，存在于前述药剂容纳部的内部之前述药剂，系以由前述光源部所产生之前述光来照射而产生二氧化氯气体。

9. 发明专利

TW201606137A 二氧化氯製造裝置及二氧化氯製造方法审中-公开
简体标题：二氧化氯制造设备及二氧化氯制造方法
公开(公告)号：TW201606137A
公开(公告)日：2016-02-16
申请号：TW103130819
申请日：2014-09-05
申请人：大幸藥品股份有限公司 , TAIKO PHARMACEUTICAL CO., LTD.
发明人：麻田茂雄 , ASADA, SHIGEO , 中原弘一 , NAKAHARA, KOICHI , 田浦浩一 , TAURA, KOUICHI , 加藤大輔 , KATO, DAISUKE
IPC分类号： C25B1/26 , C25B15/08 , C25B9/08
CPC分类号： C25B1/26 , C25B9/08 , C25B15/08
摘要：本發明之二氧化氯製造裝置(1)，係具備：隔膜式電解槽(2)、流路部(C)、排出部(D)、曝氣手段(14)、以及中和手段(12)，該隔膜式電解槽(2)，係具有陽極室(3)與陰極室(5)，且將供給至陽極室(3)的含有次氯酸鹽之陽極液進行電解處理而產生二氧化氯；該流路部(C)，係將陽極室(3)與陰極室(5)連通；該排出部(D)，係將陰極室(5)與外部連通；該曝氣手段(14)，係可自由調節供給量地將曝氣氣體供給至陽極室；該中和手段(12)，係將中和劑供給至陰極室(5)及排出部(D)中至少任一方。
简体摘要：本发明之二氧化氯制造设备(1)，系具备：隔膜式电解槽(2)、流路部(C)、排出部(D)、曝气手段(14)、以及中和手段(12)，该隔膜式电解槽(2)，系具有阳极室(3)与阴极室(5)，且将供给至阳极室(3)的含有次氯酸盐之阳极液进行电解处理而产生二氧化氯；该流路部(C)，系将阳极室(3)与阴极室(5)连通；该排出部(D)，系将阴极室(5)与外部连通；该曝气手段(14)，系可自由调节供给量地将曝气气体供给至阳极室；该中和手段(12)，系将中和剂供给至阴极室(5)及排出部(D)中至少任一方。

10. 发明专利

TWI636006B 二氧化氯氣體之捕集方法、濃度測定方法、及捕集劑有权
简体标题：二氧化氯气体之捕集方法、浓度测定方法、及捕集剂
公开(公告)号：TWI636006B
公开(公告)日：2018-09-21
申请号：TW103103213
申请日：2014-01-28
申请人：大幸藥品股份有限公司 , TAIKO PHARMACEUTICAL CO., LTD.
发明人：麻田茂雄 , ASADA, SHIGEO , 中原弘一 , NAKAHARA, KOICHI , 田口和彥 , TAGUCHI, KAZUHIKO
IPC分类号： C01B11/02 , G01N1/22 , G01N31/00

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