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1. 发明专利

TW201819152A 防污性膜之製造方法审中-公开
简体标题：防污性膜之制造方法
公开(公告)号：TW201819152A
公开(公告)日：2018-06-01
申请号：TW106122839
申请日：2017-07-07
申请人：夏普股份有限公司 , SHARP KABUSHIKI KAISHA , 大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：林秀和 , HAYASHI, HIDEKAZU , 田口登喜生 , TAGUCHI, TOKIO , 中松健一郎 , NAKAMATSU, KENICHIRO , 芝井康博 , SHIBAI, YASUHIRO , 厚母賢 , ATSUMO, KEN , 山下恒雄 , YAMASHITA, TSUNEO , 新居沙弥 , NII, SAYA , 阪本英司 , SAKAMOTO, EIJI , 英翔 , HANABUSA, KAKERU , 三橋尚志 , MITSUHASHI, HISASHI , 荒木孝之 , ARAKI, TAKAYUKI
IPC分类号： B29C59/02 , B32B27/16 , B32B27/18 , B32B27/30 , B32B38/06 , C08G18/50 , C08G18/67 , C08G18/79 , G02B1/18
摘要：本發明提供一種防污性及耐擦性優異之防污性膜之製造方法。本發明之防污性膜之製造方法係製造具備於表面具有以可見光波長以下之間距設置有複數個凸部之凹凸結構的聚合物層之防污性膜者，其包括：製程(1)，其係於基材之表面上塗佈樹脂；製程(2)，其係於上述樹脂被夾於中間之狀態下將上述基材壓抵至模具，而於上述樹脂之表面形成上述凹凸結構；及製程(3)，其係使表面具有上述凹凸結構之上述樹脂硬化而形成上述聚合物層；且上述樹脂含有包含具有全氟(聚)醚基之化合物而成之防污劑，上述模具之表面經包含具有全氟(聚)醚基、可水解性基及Si原子之化合物而成之脫模劑實施脫模處理。
简体摘要：本发明提供一种防污性及耐擦性优异之防污性膜之制造方法。本发明之防污性膜之制造方法系制造具备于表面具有以可见光波长以下之间距设置有复数个凸部之凹凸结构的聚合物层之防污性膜者，其包括：制程(1)，其系于基材之表面上涂布树脂；制程(2)，其系于上述树脂被夹于中间之状态下将上述基材压抵至模具，而于上述树脂之表面形成上述凹凸结构；及制程(3)，其系使表面具有上述凹凸结构之上述树脂硬化而形成上述聚合物层；且上述树脂含有包含具有全氟(聚)醚基之化合物而成之防污剂，上述模具之表面经包含具有全氟(聚)醚基、可水解性基及Si原子之化合物而成之脱模剂实施脱模处理。

2. 发明专利

TW201823004A 防污性膜之製造方法审中-公开
简体标题：防污性膜之制造方法
公开(公告)号：TW201823004A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW106122838
申请日：2017-07-07
申请人：夏普股份有限公司 , SHARP KABUSHIKI KAISHA , 大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：林秀和 , HAYASHI, HIDEKAZU , 田口登喜生 , TAGUCHI, TOKIO , 中松健一郎 , NAKAMATSU, KENICHIRO , 芝井康博 , SHIBAI, YASUHIRO , 厚母賢 , ATSUMO, KEN , 山下恒雄 , YAMASHITA, TSUNEO , 阪本英司 , SAKAMOTO, EIJI , 新居沙弥 , NII, SAYA , 荒木孝之 , ARAKI, TAKAYUKI
IPC分类号： B32B3/30 , B29C59/02
摘要：本發明提供一種能夠長時間連續製造防污性優異之防污性膜的防污性膜之製造方法。本發明之防污性膜之製造方法係製造具備於表面具有以可見光波長以下之間距設置有複數個凸部之凹凸結構的聚合物層之防污性膜者，其包括：製程(1)，其係於基材之表面上塗佈樹脂；製程(2)，其係於塗佈有第一脫模劑之模具之表面上塗佈第二脫模劑；製程(3)，其係於上述樹脂被夾於中間之狀態下，將上述基材壓抵至上述模具之塗佈有上述第二脫模劑之表面，而於上述樹脂之表面形成上述凹凸結構；及製程(4)，其係使表面具有上述凹凸結構之上述樹脂硬化而形成上述聚合物層；且上述樹脂含有包含特定化合物而成之防污劑，上述第一脫模劑包含特定化合物而成，上述第二脫模劑包含特定化合物而成。
简体摘要：本发明提供一种能够长时间连续制造防污性优异之防污性膜的防污性膜之制造方法。本发明之防污性膜之制造方法系制造具备于表面具有以可见光波长以下之间距设置有复数个凸部之凹凸结构的聚合物层之防污性膜者，其包括：制程(1)，其系于基材之表面上涂布树脂；制程(2)，其系于涂布有第一脱模剂之模具之表面上涂布第二脱模剂；制程(3)，其系于上述树脂被夹于中间之状态下，将上述基材压抵至上述模具之涂布有上述第二脱模剂之表面，而于上述树脂之表面形成上述凹凸结构；及制程(4)，其系使表面具有上述凹凸结构之上述树脂硬化而形成上述聚合物层；且上述树脂含有包含特定化合物而成之防污剂，上述第一脱模剂包含特定化合物而成，上述第二脱模剂包含特定化合物而成。

3. 发明专利

TW201400562A 具有含氟矽烷系塗覆層之物品的製造方法审中-公开
简体标题：具有含氟硅烷系涂覆层之物品的制造方法
公开(公告)号：TW201400562A
公开(公告)日：2014-01-01
申请号：TW102112053
申请日：2013-04-03
申请人：大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：阪本英司 , SAKAMOTO, EIJI , 英翔 , HANABUSA, KAKERU , 福田晃之 , FUKUDA, TERUYUKI , 荒木孝之 , ARAKI, TAKAYUKI , 小澤香織 , OZAWA, KAORI
IPC分类号： C09D183/07 , C09D171/00 , C09D5/16
CPC分类号： C08J7/04 , C08J2401/10 , C08J2427/12
摘要：本發明提供一種在有機基底材料之塗覆表面上包含含氟矽烷系塗覆層之物品之製造方法，其中該製造方法包括下列步驟：(a)藉由使用包含不飽和矽烷化合物、光觸媒與光固化有機材料之組成物，在有機基底材料表面上形成前驅物塗覆層；(b)對前驅物塗覆層進行光照射，藉此在有機基底材料表面上形成衍生自前驅物塗覆層的固化之塗覆層；及(c)利用包含含氟矽烷化合物之表面處理劑，在固化之塗覆層上直接形成或透過無機材料層形成含氟矽烷系塗覆層。該製造方法可形成具有高耐摩擦性之含氟矽烷系塗覆層。
简体摘要：本发明提供一种在有机基底材料之涂覆表面上包含含氟硅烷系涂覆层之物品之制造方法，其中该制造方法包括下列步骤：(a)借由使用包含不饱和硅烷化合物、光触媒与光固化有机材料之组成物，在有机基底材料表面上形成前驱物涂覆层；(b)对前驱物涂覆层进行光照射，借此在有机基底材料表面上形成衍生自前驱物涂覆层的固化之涂覆层；及(c)利用包含含氟硅烷化合物之表面处理剂，在固化之涂覆层上直接形成或透过无机材料层形成含氟硅烷系涂覆层。该制造方法可形成具有高耐摩擦性之含氟硅烷系涂覆层。

4. 发明专利

TWI673152B 具有轉印圖型之被轉印物之製造方法有权
简体标题：具有转印图型之被转印物之制造方法
公开(公告)号：TWI673152B
公开(公告)日：2019-10-01
申请号：TW106119839
申请日：2017-06-14
申请人：日商大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：山下恒雄 , YAMASHITA, TSUNEO , 阪本英司 , SAKAMOTO, EIJI , 英翔 , HANABUSA, KAKERU , 新居沙弥 , NII, SAYA , 荒木孝之 , ARAKI, TAKAYUKI
IPC分类号： B29C33/38 , C08G65/00

5. 发明专利

TW201825293A 機能性膜审中-公开
简体标题：机能性膜
公开(公告)号：TW201825293A
公开(公告)日：2018-07-16
申请号：TW106136646
申请日：2017-10-25
申请人：日商大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：山下恒雄 , YAMASHITA, TSUNEO , 阪本英司 , SAKAMOTO, EIJI , 新居沙 , NII, SAYA , 坂倉淳史 , SAKAKURA, ATSUSHI
IPC分类号： B32B27/08 , B32B3/30 , G02B1/111 , G02B1/18
摘要：提供一種機能性膜，其具有所期望的微細凹凸圖型構造，可充分地發揮作為用來對機能性膜賦予機能的主材料的樹脂所具有之特性，且具有優異的防汚性、撥水性及撥油性。本發明之機能性膜，其係包含含有樹脂之層(A)、及、含有具有全氟聚醚基之化合物之層(B)，其特徵係層(B)的與層(A)為相反側的面具有微細凹凸圖型構造，在一邊以氬氣體團簇離子束由層(B)側進行蝕刻，一邊以X線光電子分光法進行元素分析時，符合關係式(1)，且在一邊以氬氣體團簇離子束由層(B)側進行蝕刻，一邊以X線光電子分光法進行碳的1s頻譜測定時，符合關係式(2)，關係式(1)：D1
简体摘要：提供一种机能性膜，其具有所期望的微细凹凸图型构造，可充分地发挥作为用来对机能性膜赋予机能的主材料的树脂所具有之特性，且具有优异的防污性、拨水性及拨油性。本发明之机能性膜，其系包含含有树脂之层(A)、及、含有具有全氟聚醚基之化合物之层(B)，其特征系层(B)的与层(A)为相反侧的面具有微细凹凸图型构造，在一边以氩气体团簇离子束由层(B)侧进行蚀刻，一边以X线光电子分光法进行元素分析时，符合关系式(1)，且在一边以氩气体团簇离子束由层(B)侧进行蚀刻，一边以X线光电子分光法进行碳的1s频谱测定时，符合关系式(2)，关系式(1)：D1<2×X1 (式中，X1为层(B)的膜厚(nm)，D1为氟原子浓度成为1atom%以下之深度(nm)) 关系式(2)：D2<2×X1 (式中，X1为层(B)的膜厚(nm)，D2为在键结能量290~300eV之范围内未检测出波峰的深度(nm))。

6. 发明专利

TW201821460A 硬化性組成物、其製造方法，以及使用該硬化性組成物之物品审中-公开
简体标题：硬化性组成物、其制造方法，以及使用该硬化性组成物之物品
公开(公告)号：TW201821460A
公开(公告)日：2018-06-16
申请号：TW106122852
申请日：2017-07-07
申请人：大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：山下恒雄 , YAMASHITA, TSUNEO , 阪本英司 , SAKAMOTO, EIJI , 新居沙弥 , NII, SAYA , 椛澤誠 , HANAZAWA, MAKOTO
IPC分类号： C08F290/00
摘要：本發明之課題在於提供一種可形成不易產生白濁的表面處理層之硬化性組成物。上述課題之解決手段為一種硬化性組成物，其係含有具有全氟聚醚基及硬化性部位的化合物、及硬化性樹脂及/或硬化性單體而成者，且實質上不含不具有自由基反應性基的有機溶劑。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种可形成不易产生白浊的表面处理层之硬化性组成物。上述课题之解决手段为一种硬化性组成物，其系含有具有全氟聚醚基及硬化性部位的化合物、及硬化性树脂及/或硬化性单体而成者，且实质上不含不具有自由基反应性基的有机溶剂。

7. 发明专利

TW201817768A 具有異三聚氰骨格之新穎化合物以及包含其之組成物审中-公开
简体标题：具有异三聚氰骨格之新颖化合物以及包含其之组成物
公开(公告)号：TW201817768A
公开(公告)日：2018-05-16
申请号：TW106132791
申请日：2017-09-25
申请人：日商大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：山下恒雄 , YAMASHITA, TSUNEO , 能勢雅聡 , NOSE, MASATOSHI , 三橋尚志 , MITSUHASHI, HISASHI , 新居沙 , NII, SAYA , 阪本英司 , SAKAMOTO, EIJI , 小澤香織 , OZAWA, KAORI
IPC分类号： C08G65/333 , C09D5/16 , C09D171/00
摘要：本發明之目的為提供一種能夠適當地利用在防污劑之新穎化合物。　　本發明為一種式(1)所表示之化合物(式中，R1表示包含聚醚鏈之一價有機基，X1以及X2獨立表示一價基，上述聚醚鏈為(式中，m11、m12、m13、m14、m15以及m16獨立為0或1以上之整數，X10獨立為H、F或Cl，各重複單位之存在順序為任意)所表示之鏈) 　　式(1)：。
简体摘要：本发明之目的为提供一种能够适当地利用在防污剂之新颖化合物。　　本发明为一种式(1)所表示之化合物(式中，R1表示包含聚醚链之一价有机基，X1以及X2独立表示一价基，上述聚醚链为(式中，m11、m12、m13、m14、m15以及m16独立为0或1以上之整数，X10独立为H、F或Cl，各重复单位之存在顺序为任意)所表示之链) 　　式(1)：。

8. 发明专利

TW201803717A 具有轉印圖型之被轉印物之製造方法审中-公开
简体标题：具有转印图型之被转印物之制造方法
公开(公告)号：TW201803717A
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW106119839
申请日：2017-06-14
申请人：大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD.
发明人：山下恒雄 , YAMASHITA, TSUNEO , 阪本英司 , SAKAMOTO, EIJI , 英翔 , HANABUSA, KAKERU , 新居沙弥 , NII, SAYA , 荒木孝之 , ARAKI, TAKAYUKI
IPC分类号： B29C33/38 , C08G65/00
CPC分类号： B29C33/62 , B29C59/02 , H01L21/027
摘要：本發明提供一種即使進行重複轉印，轉印物仍不易從基板剝離，不易附著於模具之製造方法。一種被轉印物之製造方法，其特徵為包含，步驟(1)：對已形成脫模層之於表面具有凹凸圖型之模具之上述脫模層塗佈包含氟聚醚之組成物；步驟(2)：將上述模具壓向被轉印物而轉印上述凹凸圖型；及，步驟(3)：從上述被轉印物使上述模具脫模而取得具有轉印圖型之上述被轉印物。
简体摘要：本发明提供一种即使进行重复转印，转印物仍不易从基板剥离，不易附着于模具之制造方法。一种被转印物之制造方法，其特征为包含，步骤(1)：对已形成脱模层之于表面具有凹凸图型之模具之上述脱模层涂布包含氟聚醚之组成物；步骤(2)：将上述模具压向被转印物而转印上述凹凸图型；及，步骤(3)：从上述被转印物使上述模具脱模而取得具有转印图型之上述被转印物。

9. 发明专利

TWI565719B 含氟共聚物、以及撥油性及／或撥水性塗覆劑有权
简体标题：含氟共聚物、以及拨油性及／或拨水性涂覆剂
公开(公告)号：TWI565719B
公开(公告)日：2017-01-11
申请号：TW102104148
申请日：2013-02-01
申请人：大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD. , 國立大學法人大阪大學 , OSAKA UNIVERSITY
发明人：入田友美 , IRITA, TOMOMI , 永井文 , NAGAI, TAKABUMI , 足達健二 , ADACHI, KENJI , 田中義人 , TANAKA, YOSHITO , 英翔 , HANABUSA, KAKERU , 阪本英司 , SAKAMOTO, EIJI , 吉田知弘 , YOSHIDA, TOMOHIRO , 橫谷沙 , YOKOTANI, SAYA , 青島貞人 , AOSHIMA, SADAHITO , 金岡鐘局 , KANAOKA, SHOKYOKU
IPC分类号： C08F214/18 , C08F216/12 , C08F293/00 , C09K3/18
CPC分类号： C08F4/54 , C08G65/007 , C08G2650/48 , C09D5/1662 , C09D171/00

10. 发明专利

TW201348269A 含氟共聚物、以及撥油性及／或撥水性塗覆劑审中-公开
简体标题：含氟共聚物、以及拨油性及／或拨水性涂覆剂
公开(公告)号：TW201348269A
公开(公告)日：2013-12-01
申请号：TW102104148
申请日：2013-02-01
申请人：大金工業股份有限公司 , DAIKIN INDUSTRIES, LTD. , 國立大學法人大阪大學 , OSAKA UNIVERSITY
发明人：入田友美 , IRITA, TOMOMI , 永井文 , NAGAI, TAKABUMI , 足達健二 , ADACHI, KENJI , 田中義人 , TANAKA, YOSHITO , 英翔 , HANABUSA, KAKERU , 阪本英司 , SAKAMOTO, EIJI , 吉田知弘 , YOSHIDA, TOMOHIRO , 橫谷沙 , YOKOTANI, SAYA , 青島貞人 , AOSHIMA, SADAHITO , 金岡鐘局 , KANAOKA, SHOKYOKU
IPC分类号： C08F214/18 , C08F216/12 , C08F293/00 , C09K3/18
CPC分类号： C08F4/54 , C08G65/007 , C08G2650/48 , C09D5/1662 , C09D171/00
摘要：本發明以提供兼具優良撥油性與對泛用溶劑(非含有氟之有機溶劑)為高溶解性的含氟共聚物、及含有此的撥油性及/或撥水性塗覆劑為目的。本發明提供式(1)：〔式中，Ra1表示含有全氟聚醚基之基。Xa表示-O-、伸苯基、-N(-RE)-(RE表示有機基)、或伸咔唑基。Ra2表示氫原子、或烷基。Ra3表示氫原子、或烷基。各個Q於出現時係各自獨立表示含有硬化性部之構成單位或不含有硬化性部之構成單位。Rc表示含有全氟聚醚基的基、或可含有硬化性部的有機基。Xc表示-O-、-S-、-NH-、或-N(-CH3)-。k表示1、或2。n1表示1以上之重複數。但，Ra2、及Ra3的至少一方為烷基。Rc所示基非含有硬化性部之有機基時，至少1個Q為含有硬化性部之構成單位。〕所示含氟共聚物。
简体摘要：本发明以提供兼具优良拨油性与对泛用溶剂(非含有氟之有机溶剂)为高溶解性的含氟共聚物、及含有此的拨油性及/或拨水性涂覆剂为目的。本发明提供式(1)：〔式中，Ra1表示含有全氟聚醚基之基。Xa表示-O-、伸苯基、-N(-RE)-(RE表示有机基)、或伸咔唑基。Ra2表示氢原子、或烷基。Ra3表示氢原子、或烷基。各个Q于出现时系各自独立表示含有硬化性部之构成单位或不含有硬化性部之构成单位。Rc表示含有全氟聚醚基的基、或可含有硬化性部的有机基。Xc表示-O-、-S-、-NH-、或-N(-CH3)-。k表示1、或2。n1表示1以上之重复数。但，Ra2、及Ra3的至少一方为烷基。Rc所示基非含有硬化性部之有机基时，至少1个Q为含有硬化性部之构成单位。〕所示含氟共聚物。

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