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    • 1. 发明专利
    • 波導構造的製作方法
    • 波导构造的制作方法
    • TW201836209A
    • 2018-10-01
    • TW106109813
    • 2017-03-23
    • 國立中山大學NATIONAL SUN YAT-SEN UNIVERSITY
    • 邱逸仁CHIU, YI JEN王伯云WANG, PO YUN林蔚LIN, WEI陳揚臻CHEN, YANG JENG
    • H01P11/00
    • 一種波導構造的製作方法,其包含步驟:提供一層狀結構,包含:形成一第一型InGaAsP層於一基板上;形成一第一型InP層於該第一型InGaAsP層上;形成一主動層於該第一型InP層上,其中該主動層的材質包含鎵;形成一第二型InP層於該主動層上;以及形成一第二型InGaAsP層於該第二型InP層上;形成一SiO2圖案層於該第二型InGaAsP層上,其中該SiO2圖案層包含多個SiO2區域,且該些SiO2區域之間形成朝向一方向的至少一通道;以及對具有該SiO2圖案層的該層狀結構進行一快速熱退火處理,其中該快速熱退火處理的一處理溫度係介於720至760℃之間,一處理時間係介於60至240秒之間。
    • 一种波导构造的制作方法,其包含步骤:提供一层状结构,包含:形成一第一型InGaAsP层于一基板上;形成一第一型InP层于该第一型InGaAsP层上;形成一主动层于该第一型InP层上,其中该主动层的材质包含镓;形成一第二型InP层于该主动层上;以及形成一第二型InGaAsP层于该第二型InP层上;形成一SiO2图案层于该第二型InGaAsP层上,其中该SiO2图案层包含多个SiO2区域,且该些SiO2区域之间形成朝向一方向的至少一信道;以及对具有该SiO2图案层的该层状结构进行一快速热退火处理,其中该快速热退火处理的一处理温度系介于720至760℃之间,一处理时间系介于60至240秒之间。