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1. 发明专利

TW201617466A 可提升蒸鍍材料使用率之線性蒸鍍裝置审中-公开
简体标题：可提升蒸镀材料使用率之线性蒸镀设备
公开(公告)号：TW201617466A
公开(公告)日：2016-05-16
申请号：TW103138648
申请日：2014-11-07
申请人：國家中山科學研究院 , NATIONAL CHUNG-SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：梁仕昌 , LIANG, SHIH CHANG , 黃偉傑 , HUANG, WEI CHIEH , 魏肇男 , WEI, CHAO NAN , 倪國裕 , NI, CUO YO , 薄慧雲 , BOR, HUI YUN
IPC分类号： C23C14/24
摘要：一種可提升蒸鍍材料使用率之線性蒸鍍裝置，具有一反應腔體，供以對一基材進行鍍膜製程，其特徵在於反應腔體內具有至少一絕熱腔體，且於絕熱腔體內設有一線性蒸鍍源，並透過一混合腔體均勻混合線性蒸鍍源蒸氣，於該絕熱腔體內導入一反應式蒸鍍材之蒸氣，使線性蒸鍍源自混合腔體散出時與反應式蒸鍍材蒸氣進行反應並一併自絕熱腔體噴出以於該基板進行鍍膜，藉此使各蒸鍍材料蒸氣皆可被充分有效利用，提升材料之使用率，同時透過絕熱腔體之高溫環境使反應式蒸鍍材蒸氣產生裂解效應形成更小分子團，係可提升製備而成薄膜之品質。
简体摘要：一种可提升蒸镀材料使用率之线性蒸镀设备，具有一反应腔体，供以对一基材进行镀膜制程，其特征在于反应腔体内具有至少一绝热腔体，且于绝热腔体内设有一线性蒸镀源，并透过一混合腔体均匀混合线性蒸镀源蒸气，于该绝热腔体内导入一反应式蒸镀材之蒸气，使线性蒸镀源自混合腔体散出时与反应式蒸镀材蒸气进行反应并一并自绝热腔体喷出以于该基板进行镀膜，借此使各蒸镀材料蒸气皆可被充分有效利用，提升材料之使用率，同时透过绝热腔体之高温环境使反应式蒸镀材蒸气产生裂解效应形成更小分子团，系可提升制备而成薄膜之品质。

2. 实用新型

TWM507432U 可提升蒸鍍材料使用率之線性蒸鍍裝置有权
简体标题：可提升蒸镀材料使用率之线性蒸镀设备
公开(公告)号：TWM507432U
公开(公告)日：2015-08-21
申请号：TW103219719
申请日：2014-11-07
申请人：國家中山科學研究院 , NATIONAL CHUNG-SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：梁仕昌 , LIANG, SHIH CHANG , 黃偉傑 , HUANG, WEI CHIEH , 魏肇男 , WEI, CHAO NAN , 倪國裕 , NI, CUO YO , 薄慧雲 , BOR, HUI YUN
IPC分类号： C23C14/00

3. 发明专利

TWI485276B 提升硒化物薄膜成長品質之蒸鍍裝置有权
简体标题：提升硒化物薄膜成长品质之蒸镀设备
公开(公告)号：TWI485276B
公开(公告)日：2015-05-21
申请号：TW102144505
申请日：2013-12-05
申请人：國家中山科學研究院 , NATIONAL CHUNG SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：梁仕昌 , LIANG, SHIH CHANG , 黃偉傑 , HUANG, WEI CHIEH , 魏肇男 , WEI, CHAO NAN , 倪國裕 , NI, CUO YO , 薄慧雲 , BOR, HUI YUN
IPC分类号： C23C14/24

4. 发明专利

TWI588279B 可提升蒸鍍材料使用率之線性蒸鍍裝置有权
简体标题：可提升蒸镀材料使用率之线性蒸镀设备
公开(公告)号：TWI588279B
公开(公告)日：2017-06-21
申请号：TW103138648
申请日：2014-11-07
申请人：國家中山科學研究院 , NATIONAL CHUNG-SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：梁仕昌 , LIANG, SHIH CHANG , 黃偉傑 , HUANG, WEI CHIEH , 魏肇男 , WEI, CHAO NAN , 倪國裕 , NI, CUO YO , 薄慧雲 , BOR, HUI YUN
IPC分类号： C23C14/24

5. 发明专利

TW201614085A 穩定蒸鍍均勻性薄膜之方法及其裝置审中-公开
简体标题：稳定蒸镀均匀性薄膜之方法及其设备
公开(公告)号：TW201614085A
公开(公告)日：2016-04-16
申请号：TW103134501
申请日：2014-10-03
申请人：國家中山科學研究院 , NATIONAL CHUNG-SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：梁仕昌 , LIANG, SHIH CHANG , 黃偉傑 , HUANG, WEI CHIEH , 魏肇男 , WEI, CHAO NAN , 倪國裕 , NI, CUO YO , 薄慧雲 , BOR, HUI YUN
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/243
摘要：一種穩定蒸鍍均勻性薄膜之方法及其裝置，係針對真空環境之基材進行蒸鍍薄膜製程，藉維持蒸鍍速率提升薄膜均勻度，其係將至少一蒸鍍材置於至少一蒸鍍容器中，並透過加熱器加熱且於蒸鍍容器壁上蓋設有一蓋板，當蒸鍍材加熱至蒸發狀態並於蒸鍍容器內達到第一蒸氣飽和壓力，蒸鍍材蒸氣即往一穩壓室流動，並於穩壓室達到小於第一蒸氣飽和壓力之第二蒸氣飽和壓力，真空環境具有真空背景壓力，且真空背景壓力小於第二蒸氣飽和壓力，使蒸鍍材蒸氣藉壓力差等速率由穩壓室朝向真空環境流動以對該基材進行蒸鍍，本發明係利用固定壓差使蒸鍍速率固定以提升成形薄膜之均勻度，並免除隨時間產生之蒸鍍鍍率變異情形。
简体摘要：一种稳定蒸镀均匀性薄膜之方法及其设备，系针对真空环境之基材进行蒸镀薄膜制程，藉维持蒸镀速率提升薄膜均匀度，其系将至少一蒸镀材置于至少一蒸镀容器中，并透过加热器加热且于蒸镀容器壁上盖设有一盖板，当蒸镀材加热至蒸发状态并于蒸镀容器内达到第一蒸气饱和压力，蒸镀材蒸气即往一稳压室流动，并于稳压室达到小于第一蒸气饱和压力之第二蒸气饱和压力，真空环境具有真空背景压力，且真空背景压力小于第二蒸气饱和压力，使蒸镀材蒸气藉压力差等速率由稳压室朝向真空环境流动以对该基材进行蒸镀，本发明系利用固定压差使蒸镀速率固定以提升成形薄膜之均匀度，并免除随时间产生之蒸镀镀率变异情形。

6. 发明专利

TWI523962B 穩定蒸鍍均勻性薄膜之方法及其裝置有权
简体标题：稳定蒸镀均匀性薄膜之方法及其设备
公开(公告)号：TWI523962B
公开(公告)日：2016-03-01
申请号：TW103134501
申请日：2014-10-03
申请人：國家中山科學研究院 , NATIONAL CHUNG-SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：梁仕昌 , LIANG, SHIH CHANG , 黃偉傑 , HUANG, WEI CHIEH , 魏肇男 , WEI, CHAO NAN , 倪國裕 , NI, CUO YO , 薄慧雲 , BOR, HUI YUN
IPC分类号： C23C14/24
CPC分类号： C23C14/24 , C23C14/243

7. 发明专利

TW201522682A 提升硒化物薄膜成長品質之蒸鍍裝置审中-公开
简体标题：提升硒化物薄膜成长品质之蒸镀设备
公开(公告)号：TW201522682A
公开(公告)日：2015-06-16
申请号：TW102144505
申请日：2013-12-05
申请人：國家中山科學研究院 , NATIONAL CHUNG SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：梁仕昌 , LIANG, SHIH CHANG , 黃偉傑 , HUANG, WEI CHIEH , 魏肇男 , WEI, CHAO NAN , 倪國裕 , NI, CUO YO , 薄慧雲 , BOR, HUI YUN
IPC分类号： C23C14/24
摘要：本發明為一種可改善硒化合物薄膜蒸鍍製程所產生結晶性不佳問題的裝置。傳統的硒噴發蒸鍍源產生的硒蒸氣極易形成分子團，因此在進行銦鎵硒三元素的共蒸鍍時，難以避免產生多晶向銦鎵硒化合物薄膜，本發明即提供一種成長高品質硒化合物薄膜的裝置，從而得到緻密性高、膜面平坦且單一晶向的高品質銦鎵硒化合物薄膜，以提升薄膜的穩定性並得運用至高品質之CIGS太陽能電池。
简体摘要：本发明为一种可改善硒化合物薄膜蒸镀制程所产生结晶性不佳问题的设备。传统的硒喷发蒸镀源产生的硒蒸气极易形成分子团，因此在进行铟镓硒三元素的共蒸镀时，难以避免产生多晶向铟镓硒化合物薄膜，本发明即提供一种成长高品质硒化合物薄膜的设备，从而得到致密性高、膜面平坦且单一晶向的高品质铟镓硒化合物薄膜，以提升薄膜的稳定性并得运用至高品质之CIGS太阳能电池。

8. 实用新型

TWM491673U 可提升薄膜均勻度之線性蒸鍍裝置有权
简体标题：可提升薄膜均匀度之线性蒸镀设备
公开(公告)号：TWM491673U
公开(公告)日：2014-12-11
申请号：TW103214289
申请日：2014-08-12
申请人：國家中山科學研究院 , NATIONAL CHUNG-SHAN INSTITUTE OF SCIENCE AND TECHNOLOGY
发明人：梁仕昌 , LIANG, SHIH CHANG , 洪茂森 , HUNG, MAO SEN , 黃偉傑 , HUANG, WEI CHIEH , 魏肇男 , WEI, CHAO NAN , 倪國裕 , NI, CUO YO , 薄慧雲 , BOR, HUI YUN
IPC分类号： C23C14/30

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