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1. 发明专利

TWI530964B 平板狀之銀微粒子和其製造方法，及使用其之糊膏和使用糊膏之印刷電路有权
简体标题：平板状之银微粒子和其制造方法，及使用其之煳膏和使用煳膏之印刷电路
公开(公告)号：TWI530964B
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：TW104133555
申请日：2012-04-27
申请人：同和電子科技股份有限公司 , DOWA ELECTRONICS MATERIALS CO., LTD.
发明人：中野谷太郎 , NAKANOYA, TARO , 樋之津崇 , HINOTSU, TAKASHI , 齋藤宏敏 , SAITO, HIROTOSHI
IPC分类号： H01B1/02 , H05K3/12
CPC分类号： H01B1/02 , B22F1/0018 , B22F1/0062 , B22F2001/0033 , B82Y30/00 , H01B1/22 , H01L31/022425 , H05K1/097

2. 发明专利

TWI530963B 平板狀之銀微粒子和其製造方法，及使用其之糊膏和使用糊膏之印刷電路有权
简体标题：平板状之银微粒子和其制造方法，及使用其之煳膏和使用煳膏之印刷电路
公开(公告)号：TWI530963B
公开(公告)日：2016-04-21
申请号：TW101115136
申请日：2012-04-27
申请人：同和電子科技股份有限公司 , DOWA ELECTRONICS MATERIALS CO., LTD.
发明人：中野谷太郎 , NAKANOYA, TARO , 樋之津崇 , HINOTSU, TAKASHI , 齋藤宏敏 , SAITO, HIROTOSHI
IPC分类号： H01B1/02 , H05K3/12
CPC分类号： H01B1/02 , B22F1/0018 , B22F1/0062 , B22F2001/0033 , B82Y30/00 , H01B1/22 , H01L31/022425 , H05K1/097

3. 发明专利

TW201603049A 平板狀之銀微粒子和其製造方法，及使用其之糊膏和使用糊膏之印刷電路审中-公开
简体标题：平板状之银微粒子和其制造方法，及使用其之煳膏和使用煳膏之印刷电路
公开(公告)号：TW201603049A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW104133555
申请日：2012-04-27
申请人：同和電子科技股份有限公司 , DOWA ELECTRONICS MATERIALS CO., LTD.
发明人：中野谷太郎 , NAKANOYA, TARO , 樋之津崇 , HINOTSU, TAKASHI , 齋藤宏敏 , SAITO, HIROTOSHI
IPC分类号： H04B1/02 , H05K3/12
CPC分类号： H01B1/02 , B22F1/0018 , B22F1/0062 , B22F2001/0033 , B82Y30/00 , H01B1/22 , H01L31/022425 , H05K1/097
摘要：本發明係提供一種導電性糊膏，其即便經由200℃左右的低溫熱處理，仍呈現低電阻值。本發明係提供一種銀微粒子，其係平板狀之銀微粒子，在其表面上附著有碳數2~10的有機物，從SEM影像所計算出之厚度方向的粒徑平均值(以下記載為「dSEM-T」)係10~200nm，且長邊方向的粒徑平均值(dSEM-L)與上述厚度方向的粒徑平均值(dSEM-T)之比(dSEM-L/dSEM-T)的深寬比係2~100。
简体摘要：本发明系提供一种导电性煳膏，其即便经由200℃左右的低温热处理，仍呈现低电阻值。本发明系提供一种银微粒子，其系平板状之银微粒子，在其表面上附着有碳数2~10的有机物，从SEM影像所计算出之厚度方向的粒径平均值(以下记载为“dSEM-T”)系10~200nm，且长边方向的粒径平均值(dSEM-L)与上述厚度方向的粒径平均值(dSEM-T)之比(dSEM-L/dSEM-T)的深宽比系2~100。

4. 发明专利

TW201306049A 平板狀之銀微粒子和其製造方法，及使用其之糊膏和使用糊膏之印刷電路审中-公开
简体标题：平板状之银微粒子和其制造方法，及使用其之煳膏和使用煳膏之印刷电路
公开(公告)号：TW201306049A
公开(公告)日：2013-02-01
申请号：TW101115136
申请日：2012-04-27
申请人：同和電子科技股份有限公司 , DOWA ELECTRONICS MATERIALS CO., LTD.
发明人：中野谷太郎 , NAKANOYA, TARO , 樋之津崇 , HINOTSU, TAKASHI , 齋藤宏敏 , SAITO, HIROTOSHI
IPC分类号： H01B1/02 , H05K3/12
CPC分类号： H01B1/02 , B22F1/0018 , B22F1/0062 , B22F2001/0033 , B82Y30/00 , H01B1/22 , H01L31/022425 , H05K1/097
摘要：本發明係提供一種導電性糊膏，其即便經由200℃左右的低溫熱處理，仍呈現低電阻值。本發明係提供一種銀微粒子，其係平板狀之銀微粒子，在其表面上附著有碳數2~10的有機物，從SEM影像所計算出之厚度方向的粒徑平均值(以下記載為「dSEM-T」)係10~200nm，且長邊方向的粒徑平均值(dSEM-L)與上述厚度方向的粒徑平均值(dSEM-T)之比(dSEM-L/dSEM-T)的深寬比係2~100。
简体摘要：本发明系提供一种导电性煳膏，其即便经由200℃左右的低温热处理，仍呈现低电阻值。本发明系提供一种银微粒子，其系平板状之银微粒子，在其表面上附着有碳数2~10的有机物，从SEM影像所计算出之厚度方向的粒径平均值(以下记载为“dSEM-T”)系10~200nm，且长边方向的粒径平均值(dSEM-L)与上述厚度方向的粒径平均值(dSEM-T)之比(dSEM-L/dSEM-T)的深宽比系2~100。

5. 发明专利

TW202003387A 醇系銀奈米線分散液及其製造方法审中-公开
简体标题：醇系银奈米线分散液及其制造方法
公开(公告)号：TW202003387A
公开(公告)日：2020-01-16
申请号：TW108119911
申请日：2019-06-10
申请人：日商同和電子科技有限公司 , DOWA ELECTRONICS MATERIALS CO., LTD.
发明人：中山征司 , NAKAYAMA, SEIJI , 齋藤宏敏 , SAITO, HIROTOSHI , 佐藤王高 , SATO, KIMITAKA
IPC分类号： C01G5/00 , B22F9/24 , B82Y40/00
摘要：本發明之課題係提供一種醇系銀奈米線分散液，其在形成透明導電膜時之點狀異物的減低效果較高且賦予優異的導電性之效果較高。本發明之解決手段係提供一種醇系銀奈米線分散液，其係有機保護劑附著在表面且長度5.0μm以下的線之個數比率為18%以下，平均直徑為50nm以下之銀奈米線分散在以碳數1至4的醇作為主成分的液狀介質中而成之銀奈米線分散液，前述有機保護劑係以乙烯基吡咯啶酮與其它單體的共聚物作為主成分之物，前述有機保護劑的附著量相對於銀之質量比率為7.5至12.5%。
简体摘要：本发明之课题系提供一种醇系银奈米线分散液，其在形成透明导电膜时之点状异物的减低效果较高且赋予优异的导电性之效果较高。本发明之解决手段系提供一种醇系银奈米线分散液，其系有机保护剂附着在表面且长度5.0μm以下的线之个数比率为18%以下，平均直径为50nm以下之银奈米线分散在以碳数1至4的醇作为主成分的液状介质中而成之银奈米线分散液，前述有机保护剂系以乙烯基吡咯啶酮与其它单体的共聚物作为主成分之物，前述有机保护剂的附着量相对于银之质量比率为7.5至12.5%。

6. 发明专利

TWI648749B 銀奈米線及其製造法以及銀奈米線印墨及透明導電膜有权
简体标题：银奈米线及其制造法以及银奈米线印墨及透明导电膜
公开(公告)号：TWI648749B
公开(公告)日：2019-01-21
申请号：TW106118263
申请日：2017-06-02
申请人：同和電子科技有限公司 , DOWA ELECTRONICS MATERIALS CO., LTD.
发明人：齋藤宏敏 , SAITO, HIROTOSHI , 佐藤王高 , SATO, KIMITAKA
IPC分类号： H01B1/22 , B22F9/24 , C22C5/06 , B82Y40/00

7. 发明专利

TW201829097A 銀奈米線及該銀奈米線之製造方法，以及銀奈米線墨水审中-公开
简体标题：银奈米线及该银奈米线之制造方法，以及银奈米线墨水
公开(公告)号：TW201829097A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW106142953
申请日：2017-12-07
申请人：日商同和電子科技有限公司 , DOWA ELECTRONICS MATERIALS CO., LTD.
发明人：齊藤宏敏 , SAITO, HIROTOSHI , 佐藤王高 , SATO, KIMITAKA , 児玉大輔 , KODAMA, DAISUKE
IPC分类号： B22F9/24 , C09D11/52
摘要：本發明之課題為提供一種銀奈米線，係可顯著改善透明導電體中的導電性及辨識特性(透光性及霧度特性)。本發明之解決手段為一種銀奈米線，係於表面附著有機保護劑之平均直徑為50nm以下、平均長度為10μm以上，且，前述有機保護劑附著量相對於有機保護劑與銀之總量為1.5至8.0質量%。該銀奈米線可藉由以下方法製造：於中途具有交叉流過濾過濾器之循環流路中，使附著有機保護劑之銀奈米線與液狀介質流一起循環，一邊於循環流路內連續性或間歇性補給液狀介質，一邊以前述過濾器進行交叉流過濾，藉此，洗淨去除銀奈米線表面之有機保護劑的一部分，並調整有機保護劑之附著量。
简体摘要：本发明之课题为提供一种银奈米线，系可显着改善透明导电体中的导电性及辨识特性(透光性及雾度特性)。本发明之解决手段为一种银奈米线，系于表面附着有机保护剂之平均直径为50nm以下、平均长度为10μm以上，且，前述有机保护剂附着量相对于有机保护剂与银之总量为1.5至8.0质量%。该银奈米线可借由以下方法制造：于中途具有交叉流过滤过滤器之循环流路中，使附着有机保护剂之银奈米线与液状介质流一起循环，一边于循环流路内连续性或间歇性补给液状介质，一边以前述过滤器进行交叉流过滤，借此，洗净去除银奈米线表面之有机保护剂的一部分，并调整有机保护剂之附着量。

8. 发明专利

TWI668048B 線彼此之分離性良好之銀奈米線分散液的製造法有权
简体标题：线彼此之分离性良好之银奈米线分散液的制造法
公开(公告)号：TWI668048B
公开(公告)日：2019-08-11
申请号：TW107108670
申请日：2018-03-14
申请人：日商同和電子科技有限公司 , DOWA ELECTRONICS MATERIALS CO., LTD.
发明人：佐藤王高 , SATO, KIMITAKA , 齋藤宏敏 , SAITO, HIROTOSHI , 児玉大輔 , KODAMA, DAISUKE
IPC分类号： B01D61/14 , C22C5/06 , B82Y40/00

9. 发明专利

TW201804479A 銀奈米線及其製造法以及銀奈米線印墨及透明導電膜审中-公开
简体标题：银奈米线及其制造法以及银奈米线印墨及透明导电膜
公开(公告)号：TW201804479A
公开(公告)日：2018-02-01
申请号：TW106118263
申请日：2017-06-02
申请人：同和電子科技有限公司 , DOWA ELECTRONICS MATERIALS CO., LTD.
发明人：齋藤宏敏 , SAITO, HIROTOSHI , 佐藤王高 , SATO, KIMITAKA
IPC分类号： H01B1/22 , B22F9/24 , C22C5/06 , B82Y40/00
CPC分类号： B22F1/00 , B22F1/02 , B22F9/24 , B82Y30/00 , C09D11/52 , H01B1/00 , H01B1/22 , H01B5/14 , H01B13/00
摘要：本發明之課題在於提供一種即使於添加有醇之印墨中，分散性亦良好之銀奈米線，且係由雜質少的有機保護劑所被覆之細長的銀奈米線。本發明之解決手段為一種平均直徑30nm以下、平均長度10μm以上之銀奈米線，其係由：由具有乙烯基吡咯啶酮結構單位之1種以上的共聚物所構成，硫含量Sppm為2000ppm以下，且以由NMR光譜所決定之殘存乙烯基吡咯啶酮單體含有率VPR為6.0%以下之共聚物組成物所被覆。
简体摘要：本发明之课题在于提供一种即使于添加有醇之印墨中，分散性亦良好之银奈米线，且系由杂质少的有机保护剂所被覆之细长的银奈米线。本发明之解决手段为一种平均直径30nm以下、平均长度10μm以上之银奈米线，其系由：由具有乙烯基吡咯啶酮结构单位之1种以上的共聚物所构成，硫含量Sppm为2000ppm以下，且以由NMR光谱所决定之残存乙烯基吡咯啶酮单体含有率VPR为6.0%以下之共聚物组成物所被覆。

10. 发明专利

TW201841674A 線彼此之分離性良好之銀奈米線分散液的製造法审中-公开
简体标题：线彼此之分离性良好之银奈米线分散液的制造法
公开(公告)号：TW201841674A
公开(公告)日：2018-12-01
申请号：TW107108670
申请日：2018-03-14
申请人：日商同和電子科技有限公司 , DOWA ELECTRONICS MATERIALS CO., LTD.
发明人：佐藤王高 , SATO, KIMITAKA , 齋藤宏敏 , SAITO, HIROTOSHI , 児玉大輔 , KODAMA, DAISUKE
IPC分类号： B01D61/14 , C22C5/06 , B82Y40/00
摘要：本發明之課題係提供一種使銀奈米線分散液通過網眼比以往更小的濾材而進行過濾之手法，特別是提供一種適合於工業上製造凝膠狀異物、其它不純物質粒子的存在量少之經淨化的銀奈米線印墨之技術。該課題之解決手段係提供一種線彼此之分離性良好之銀奈米線分散液的製造法，具有下列步驟：將分散有平均長度10μm以上的銀奈米線之液體供應於包含使用網眼尺寸8μm以上且120μm以下的有機纖維篩網濾材的過濾之1次以上之過濾，來得到分散有平均長度10μm以上的銀奈米線之濾液之步驟(預過濾步驟)；以及將前述預過濾步驟所得到的濾液供應於包含使用網眼尺寸12μm以下的有機纖維篩網濾材的過濾之1次以上之過濾，來得到分散有平均長度10μm以上的銀奈米線之濾液之步驟(精加工過濾步驟)。
简体摘要：本发明之课题系提供一种使银奈米线分散液通过网眼比以往更小的滤材而进行过滤之手法，特别是提供一种适合于工业上制造凝胶状异物、其它不纯物质粒子的存在量少之经净化的银奈米线印墨之技术。该课题之解决手段系提供一种线彼此之分离性良好之银奈米线分散液的制造法，具有下列步骤：将分散有平均长度10μm以上的银奈米线之液体供应于包含使用网眼尺寸8μm以上且120μm以下的有机纤维筛网滤材的过滤之1次以上之过滤，来得到分散有平均长度10μm以上的银奈米线之滤液之步骤(预过滤步骤)；以及将前述预过滤步骤所得到的滤液供应于包含使用网眼尺寸12μm以下的有机纤维筛网滤材的过滤之1次以上之过滤，来得到分散有平均长度10μm以上的银奈米线之滤液之步骤(精加工过滤步骤)。

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