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1. 发明专利

TW201947561A 顯示裝置及其製造方法审中-公开
简体标题：显示设备及其制造方法
公开(公告)号：TW201947561A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW108101503
申请日：2019-01-15
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORPORATION
发明人：王碩宏 , WANG, SHUO-HONG , 林俊男 , LIN, CHUN-NAN , 高宏龍 , KAO, HUNG-LUNG , 黃朝琨 , HUANG, CHAO-KUN , 宋文清 , SUNG, WEN-CHING , 張家銘 , CHANG, CHIA-MING
IPC分类号： G09F9/30
摘要：一種顯示裝置及其製造方法，其中顯示裝置的製造方法包括：提供基板，具有相對的第一表面及第二表面；於基板的第一表面上形成驅動元件層；形成保護層，以覆蓋驅動元件層；在保護層覆蓋驅動元件層的情況下，於基板的第二表面上形成至少一接墊；設置至少一發光二極體元件於驅動元件層上，以使至少一發光二極體元件與驅動元件層電性連接；於基板的側面上形成至少一導電線路圖案，且電性連接於驅動元件層與至少一接墊，其中側面連接於第一表面與第二表面之間；以及設置驅動晶片於基板的第二表面上，以使驅動晶片與至少一接墊電性連接。
简体摘要：一种显示设备及其制造方法，其中显示设备的制造方法包括：提供基板，具有相对的第一表面及第二表面；于基板的第一表面上形成驱动组件层；形成保护层，以覆盖驱动组件层；在保护层覆盖驱动组件层的情况下，于基板的第二表面上形成至少一接垫；设置至少一发光二极管组件于驱动组件层上，以使至少一发光二极管组件与驱动组件层电性连接；于基板的侧面上形成至少一导电线路图案，且电性连接于驱动组件层与至少一接垫，其中侧面连接于第一表面与第二表面之间；以及设置驱动芯片于基板的第二表面上，以使驱动芯片与至少一接垫电性连接。

2. 发明专利

TW201947774A 半導體裝置及其製造方法审中-公开
简体标题：半导体设备及其制造方法
公开(公告)号：TW201947774A
公开(公告)日：2019-12-16
申请号：TW107114836
申请日：2018-05-02
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORPORATION
发明人：簡廷峰 , CHIEN, TING-FONG , 葉柏良 , YEH, PO-LIANG , 吳振中 , WU, CHEN-CHUNG , 張家銘 , CHANG, CHIA-MING , 張君安 , CHANG, CHUN-AN
IPC分类号： H01L29/786 , G02F1/13
摘要：一種半導體裝置包括第一基板以設置於第一基板上的薄膜電晶體。薄膜晶體包括閘極、半導體圖案、第一絕緣層、源極以及汲極。第一絕緣層設置於閘極與半導體圖案之間。源極與汲極彼此分離且各自與半導體圖案對應設置。源極與汲極的至少一者具有第一銅圖案層與第一氮氧化銅圖案層。第一氮氧化銅圖案層覆蓋第一銅圖案層。第一銅圖案層設置於第一氮氧化銅圖案層與第一基板之間。此外，上述半導體裝置的製造方法也被提出。
简体摘要：一种半导体设备包括第一基板以设置于第一基板上的薄膜晶体管。薄膜晶体包括闸极、半导体图案、第一绝缘层、源极以及汲极。第一绝缘层设置于闸极与半导体图案之间。源极与汲极彼此分离且各自与半导体图案对应设置。源极与汲极的至少一者具有第一铜图案层与第一氮氧化铜图案层。第一氮氧化铜图案层覆盖第一铜图案层。第一铜图案层设置于第一氮氧化铜图案层与第一基板之间。此外，上述半导体设备的制造方法也被提出。

3. 发明专利

TWI694521B 半導體結構及其製作方法有权
简体标题：半导体结构及其制作方法
公开(公告)号：TWI694521B
公开(公告)日：2020-05-21
申请号：TW108109930
申请日：2019-03-22
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORPORATION
发明人：葉柏良 , YEH, PO-LIANG , 吳振中 , WU, CHEN-CHUNG , 鄧德彰 , DENG, DE-ZHANG , 張家銘 , CHANG, CHIA-MING
IPC分类号： H01L21/311 , H01L27/12 , G02F1/1368

4. 发明专利

TWI695356B 顯示裝置及其製造方法有权
简体标题：显示设备及其制造方法
公开(公告)号：TWI695356B
公开(公告)日：2020-06-01
申请号：TW108101503
申请日：2019-01-15
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORPORATION
发明人：王碩宏 , WANG, SHUO-HONG , 林俊男 , LIN, CHUN-NAN , 高宏龍 , KAO, HUNG-LUNG , 黃朝琨 , HUANG, CHAO-KUN , 宋文清 , SUNG, WEN-CHING , 張家銘 , CHANG, CHIA-MING
IPC分类号： G09F9/30

5. 发明专利

TWI671913B 半導體裝置及其製造方法有权
简体标题：半导体设备及其制造方法
公开(公告)号：TWI671913B
公开(公告)日：2019-09-11
申请号：TW107114836
申请日：2018-05-02
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORPORATION
发明人：簡廷峰 , CHIEN, TING-FONG , 葉柏良 , YEH, PO-LIANG , 吳振中 , WU, CHEN-CHUNG , 張家銘 , CHANG, CHIA-MING , 張君安 , CHANG, CHUN-AN
IPC分类号： H01L29/786 , G02F1/13

6. 发明专利

TW201823815A 畫素結構审中-公开
简体标题：像素结构
公开(公告)号：TW201823815A
公开(公告)日：2018-07-01
申请号：TW105144243
申请日：2016-12-30
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORP.
发明人：曾賢楷 , TSENG, HSIEN-KAI , 林岱佐 , LIN, TAI-TSO , 張家銘 , CHANG, CHIA-MING
IPC分类号： G02F1/1333 , G02F1/1345
摘要：一種畫素結構，包括共通線、第一絕緣層、第一連接電極、第二絕緣層、保護層、第一電極、第三絕緣層、第二連接電極以及與主動元件電性連接的第二電極。第一連接電極透過第一絕緣層的第一開口與共通線電性連接。第二絕緣層覆蓋部分的第一連接電極。保護層位於第二絕緣層上且具有第一保護層開口。第一電極位於保護層上，且具有設置於第一保護層開口內的突出部。第三絕緣層位於第一電極上，其中第三絕緣層與第二絕緣層共同形成第一接觸窗，位於第一保護層開口內。第二連接電極於第一接觸窗上，且第一電極的突出部透過第二連接電極與第一連接電極電性連接。
简体摘要：一种像素结构，包括共通线、第一绝缘层、第一连接电极、第二绝缘层、保护层、第一电极、第三绝缘层、第二连接电极以及与主动组件电性连接的第二电极。第一连接电极透过第一绝缘层的第一开口与共通线电性连接。第二绝缘层覆盖部分的第一连接电极。保护层位于第二绝缘层上且具有第一保护层开口。第一电极位于保护层上，且具有设置于第一保护层开口内的突出部。第三绝缘层位于第一电极上，其中第三绝缘层与第二绝缘层共同形成第一接触窗，位于第一保护层开口内。第二连接电极于第一接触窗上，且第一电极的突出部透过第二连接电极与第一连接电极电性连接。

7. 发明专利

TWI605284B 畫素結構有权
简体标题：像素结构
公开(公告)号：TWI605284B
公开(公告)日：2017-11-11
申请号：TW105144243
申请日：2016-12-30
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORP.
发明人：曾賢楷 , TSENG, HSIEN-KAI , 林岱佐 , LIN, TAI-TSO , 張家銘 , CHANG, CHIA-MING
IPC分类号： G02F1/1333 , G02F1/1345

8. 发明专利

TW201810641A 低反射金屬結構、顯示面板及其製作方法审中-公开
简体标题：低反射金属结构、显示皮肤及其制作方法
公开(公告)号：TW201810641A
公开(公告)日：2018-03-16
申请号：TW105110002
申请日：2016-03-30
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORP.
发明人：王碩宏 , WANG, SHUO-HONG , 林巧雯 , LIN, CHIAU-WEN , 張家銘 , CHANG, CHIA-MING , 林俊男 , LIN, CHUN-NAN
IPC分类号： H01L27/32 , G02F1/1345
摘要：本發明提供一種製作低反射金屬層的方法，包括下列步驟。於金屬層的上及/或下形成一低反射層，其中低反射層包括一金屬氧化物層或一金屬氮氧化物層。對低反射層與金屬層進行一圖案化製程，以同時形成一圖案化低反射層以及一圖案化金屬層。
简体摘要：本发明提供一种制作低反射金属层的方法，包括下列步骤。于金属层的上及/或下形成一低反射层，其中低反射层包括一金属氧化物层或一金属氮氧化物层。对低反射层与金属层进行一图案化制程，以同时形成一图案化低反射层以及一图案化金属层。

9. 发明专利

TWI591820B 低反射金屬結構、顯示面板及其製作方法有权
简体标题：低反射金属结构、显示皮肤及其制作方法
公开(公告)号：TWI591820B
公开(公告)日：2017-07-11
申请号：TW105110002
申请日：2016-03-30
申请人：友達光電股份有限公司 , AU OPTRONICS CORP.
发明人：王碩宏 , WANG, SHUO-HONG , 林巧雯 , LIN, CHIAU-WEN , 張家銘 , CHANG, CHIA-MING , 林俊男 , LIN, CHUN-NAN
IPC分类号： H01L27/32 , G02F1/1345

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