专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TW200927456A 控制殘餘層厚度之技術 CONTROLLING THICKNESS OF RESIDUAL LAYER 失效
简体标题：控制残余层厚度之技术 CONTROLLING THICKNESS OF RESIDUAL LAYER
公开(公告)号：TW200927456A
公开(公告)日：2009-07-01
申请号：TW097147456
申请日：2008-12-05
申请人：分子壓模公司 MOLECULAR IMPRINTS, INC.
发明人：拉布拉克德威恩L LABRAKE, DWAYNE L. , 庫斯納迪諾夫尼耶茲 KHUSNATDINOV, NIYAZ , 强尼克里斯多佛E JONES, CHRISTOPHER ELLIS , 徐法蘭克Y XU, FRANK Y.
IPC分类号： B29C , B82B , G03F
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要：本發明揭露於基板上製造一圖案表面之方法。一般來說,圖案表面係藉由具有小於約5nm之厚度的殘餘層所界定。
简体摘要：本发明揭露于基板上制造一图案表面之方法。一般来说,图案表面系借由具有小于约5nm之厚度的残余层所界定。

2. 发明专利

TW200710566A 用以將材料黏著在一起的方法及組成物 METHOD AND COMPOSITION FOR ADHERING MATERIALS TOGETHER 审中-公开
简体标题：用以将材料黏着在一起的方法及组成物 METHOD AND COMPOSITION FOR ADHERING MATERIALS TOGETHER
公开(公告)号：TW200710566A
公开(公告)日：2007-03-16
申请号：TW095121031
申请日：2006-06-13
申请人：分子壓模公司 MOLECULAR IMPRINTS, INC.
发明人：徐法蘭克Y XU, FRANK Y.
IPC分类号： G03F , C08L
CPC分类号： B32B37/14 , B32B38/06 , B81C1/0046 , B81C2201/0153 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , C08L59/00 , C09J5/00 , C09J2205/31 , C09J2451/00 , G03F7/0002 , Y10T156/10
摘要：本發明提供一種將一層與基板黏著之方法,其特徵為可界定第一及第二介面,其係藉使一組成物存在於該層與基板之間,其可以與該層形成共價鍵並使用共價鍵、離子鍵及凡得瓦爾力(Van der waals forces)中之一或多種與該基板黏著。使用此種方法,可確定該層對該組成物之黏著力强度高於該層對自預定黏著機制,亦即不包括共價鍵結之黏著機制,所形成之組成物的黏著力。另外,本發明係有關於一種將第一及第二材料黏著在一起之組成物。該組成物具有多官能基反應性化合物的特徵,該化合物包括一主鏈基團及第一與第二官能基;一支聯劑,及一觸媒。該第一官能基可以與第一光化能反應以形成交聯分子並使該等交聯分子之亞組與該第一材料黏著。該第二官能基可以與不同於該第一光化能之第二光化能反應以黏著該第二材料。
简体摘要：本发明提供一种将一层与基板黏着之方法,其特征为可界定第一及第二界面,其系藉使一组成物存在于该层与基板之间,其可以与该层形成共价键并使用共价键、离子键及凡得瓦尔力(Van der waals forces)中之一或多种与该基板黏着。使用此种方法,可确定该层对该组成物之黏着力强度高于该层对自预定黏着机制,亦即不包括共价键结之黏着机制,所形成之组成物的黏着力。另外,本发明系有关于一种将第一及第二材料黏着在一起之组成物。该组成物具有多官能基反应性化合物的特征,该化合物包括一主链基团及第一与第二官能基;一支联剂,及一触媒。该第一官能基可以与第一光化能反应以形成交联分子并使该等交联分子之亚组与该第一材料黏着。该第二官能基可以与不同于该第一光化能之第二光化能反应以黏着该第二材料。

3. 发明专利

TW200612492A 用以供設一具有均一蝕刻特性的層之方法及組成物 METHOD AND COMPOSITION TO PROVIDE A LAYER WITH UNIFORM ETCH CHARACTERISTICS 失效
简体标题：用以供设一具有均一蚀刻特性的层之方法及组成物 METHOD AND COMPOSITION TO PROVIDE A LAYER WITH UNIFORM ETCH CHARACTERISTICS
公开(公告)号：TW200612492A
公开(公告)日：2006-04-16
申请号：TW094127323
申请日：2005-08-11
申请人：分子壓模公司 MOLECULAR IMPRINTS, INC.
发明人：徐法蘭克Y XU, FRANK Y. , 史塔希尼可拉斯A STACEY, NICHOLAS A.
IPC分类号： H01L
CPC分类号： C09D4/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002
摘要：本發明包括一種於一基材上形成具有均勻蝕刻特性之一層之方法及組成物。為了達成該項目的，該方法包括沉積一種可聚合液體於該基材上作為多種成分組成之組成物。各別成分具有與其相關聯之蒸鍍速率。然後該可聚合組成物經固化。與該等多種成分之一子集相關聯之相對蒸鍍速率，經確立係於一預定範圍內。特別本發明係基於發現，於經由沉積液體固化所形成之一層之蝕刻非均勻度係依形成該層之各成分之相對蒸鍍速率之函數而變化。結果，該組成物係由多種成分形成，該等多種成分之一子集具有實質上相同之蒸鍍速率經歷一段時間。
简体摘要：本发明包括一种于一基材上形成具有均匀蚀刻特性之一层之方法及组成物。为了达成该项目的，该方法包括沉积一种可聚合液体于该基材上作为多种成分组成之组成物。各别成分具有与其相关联之蒸镀速率。然后该可聚合组成物经固化。与该等多种成分之一子集相关联之相对蒸镀速率，经确立系于一预定范围内。特别本发明系基于发现，于经由沉积液体固化所形成之一层之蚀刻非均匀度系依形成该层之各成分之相对蒸镀速率之函数而变化。结果，该组成物系由多种成分形成，该等多种成分之一子集具有实质上相同之蒸镀速率经历一段时间。

4. 发明专利

TW200906600A 用於壓印微影術之以溶劑輔助的層形成技術 SOLVENT-ASSISTED LAYER FORMATION FOR IMPRINT LITHOGRAPHY 审中-公开
简体标题：用于压印微影术之以溶剂辅助的层形成技术 SOLVENT-ASSISTED LAYER FORMATION FOR IMPRINT LITHOGRAPHY
公开(公告)号：TW200906600A
公开(公告)日：2009-02-16
申请号：TW097122528
申请日：2008-06-17
申请人：分子壓模公司 MOLECULAR IMPRINTS, INC.
发明人：盧偉俊 LIU, WEIJUN , 徐法蘭克Y XU, FRANK Y. , 福萊柴爾艾德華B FLETCHER, EDWARD B.
IPC分类号： B29C , H01L
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要：一固體層藉由下述方式形成:施用液體組成物之多個個別部份至壓印微影術基材之表面上,及允許組成物之個別部份於基材之表面上自發地展開以形成一實質上連續的層。該組成物包括一溶劑及一固體或一溶劑及一可聚合材料。該組成物可為一溶液或一分散液。從組成物中蒸發至少一些溶劑,且一固體層形成(如聚合或乾燥)在該基材上。該固體層係實質上無縫隙空洞的。
简体摘要：一固体层借由下述方式形成:施用液体组成物之多个个别部份至压印微影术基材之表面上,及允许组成物之个别部份于基材之表面上自发地展开以形成一实质上连续的层。该组成物包括一溶剂及一固体或一溶剂及一可聚合材料。该组成物可为一溶液或一分散液。从组成物中蒸发至少一些溶剂,且一固体层形成(如聚合或干燥)在该基材上。该固体层系实质上无缝隙空洞的。

5. 发明专利

TW200903146A 供壓印微影術用之使用一黏著底層的方法 METHOD FOR IMPRINT LITHOGRAPHY UTILIZING AN ADHESION PRIMER LAYER 审中-公开
简体标题：供压印微影术用之使用一黏着底层的方法 METHOD FOR IMPRINT LITHOGRAPHY UTILIZING AN ADHESION PRIMER LAYER
公开(公告)号：TW200903146A
公开(公告)日：2009-01-16
申请号：TW097110543
申请日：2008-03-25
申请人：分子壓模公司 MOLECULAR IMPRINTS, INC.
发明人：徐法蘭克Y XU, FRANK Y. , 史瑞尼瓦森思蓋塔V SREENIVASAN, SIDLGATA V. , 福萊柴爾艾德華B FLETCHER, EDWARD B.
IPC分类号： G03F , H01L
CPC分类号： C08L59/00 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , G03F7/0002 , G11B5/855 , Y10T428/31663 , Y10T428/31678 , Y10T428/31692
摘要：本發明提供一種塗佈供壓印微影方法用之黏著底層的方法,其包括在塗佈製程中讓一流體與基材表面接觸;及起始化學反應以便在流體中的組分與基材表面間形成共價鍵,如此一黏著底層黏著至基材表面。聚合層可黏著至已塗佈黏著底層的基材表面。此方法允許用於雙面壓印應用(包括圖案化的磁性媒質)之黏著底塗層。
简体摘要：本发明提供一种涂布供压印微影方法用之黏着底层的方法,其包括在涂布制程中让一流体与基材表面接触;及起始化学反应以便在流体中的组分与基材表面间形成共价键,如此一黏着底层黏着至基材表面。聚合层可黏着至已涂布黏着底层的基材表面。此方法允许用于双面压印应用(包括图案化的磁性媒质)之黏着底涂层。

6. 发明专利

TW200936361A 在多表面上之接觸角度減少技術 CONTACT ANGLE ATTENUATIONS ON MULTIPLE SURFACES 审中-公开
简体标题：在多表面上之接触角度减少技术 CONTACT ANGLE ATTENUATIONS ON MULTIPLE SURFACES
公开(公告)号：TW200936361A
公开(公告)日：2009-09-01
申请号：TW097149399
申请日：2008-12-18
申请人：分子壓模公司 MOLECULAR IMPRINTS, INC.
发明人：徐法蘭克Y XU, FRANK Y. , 麥馬金伊恩M MCMACKIN, IAN MATTHEW , 萊德班克傑B LAD, PANKAJ B.
IPC分类号： B29C , G03F
摘要：一模板會被處理來提供一表面活化劑富足區及一表面活化劑貧乏區。在該表面活化劑富足區之一接觸角可能大於、小於或實質上似同於該表面活化劑貧乏區之一接觸角。
简体摘要：一模板会被处理来提供一表面活化剂富足区及一表面活化剂贫乏区。在该表面活化剂富足区之一接触角可能大于、小于或实质上似同于该表面活化剂贫乏区之一接触角。

7. 发明专利

TW200907562A 具有氮化矽、碳化矽或氧氮化矽薄膜之模板 TEMPLATE HAVING A SILICON NITRIDE, SILICON CARBIDE OR SILICON OXYNITRIDE FILM 审中-公开
简体标题：具有氮化硅、碳化硅或氧氮化硅薄膜之模板 TEMPLATE HAVING A SILICON NITRIDE, SILICON CARBIDE OR SILICON OXYNITRIDE FILM
公开(公告)号：TW200907562A
公开(公告)日：2009-02-16
申请号：TW097120233
申请日：2008-05-30
申请人：分子壓模公司 MOLECULAR IMPRINTS, INC.
发明人：瑞斯尼克道格拉斯J RESNICK, DOUGLAS J. , 梅索馬力歐J MEISSL, MARIO J. , 西里尼迪斯科斯塔S SELINIDIS, KOSTA S. , 徐法蘭克Y XU, FRANK Y.
IPC分类号： G03F
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00
摘要：一種壓印微影術模板,其特別包括有一具有與其有關之第一厚度的本體、一具有與其有關之第二厚度的圖案化層,其包含有一具有與其有關之第三厚度的特徵結構,其中該第二厚度係被界定為:c1xd
简体摘要：一种压印微影术模板,其特别包括有一具有与其有关之第一厚度的本体、一具有与其有关之第二厚度的图案化层,其包含有一具有与其有关之第三厚度的特征结构,其中该第二厚度系被界定为:c1xd< t < a/c2;其中d系为该第一厚度,t系为该第二厚度,a系为该第三厚度,c1系具有一大于20之数値,而c2具有一大于350之数値。

8. 发明专利

TWI250560B 單相流體壓印微影法 SINGLE PHASE FLUID IMPRINT LITHOGRAPHY METHOD 有权
简体标题：单相流体压印微影法 SINGLE PHASE FLUID IMPRINT LITHOGRAPHY METHOD
公开(公告)号：TWI250560B
公开(公告)日：2006-03-01
申请号：TW093129415
申请日：2004-09-29
申请人：分子壓模公司 MOLECULAR IMPRINTS, INC. , 德州大學董事會 BOARD OF REGENTS, THE UNIVERSITY OF TEXAS SYSTEM
发明人：麥克馬基伊恩M MCMACKIN, IAN M. , 巴比斯丹尼爾A BABBS, DANIEL A. , 弗斯道尼J VOTH, DUANE J. , 瓦特麥可P C WATTS, MICHAEL P.C. , 特魯斯基凡恩 N TRUSKETT, VAN N. , 徐法蘭克Y XU, FRANK Y. , 弗伊辛羅奈爾得D VOISIN, RONALD D. , 拉德班克B LAD, PANKAJ B. , 史黛西尼可拉斯A STACEY, NICHOLAS A.
IPC分类号： H01L
CPC分类号： G03F7/0002 , B82Y10/00 , B82Y40/00 , Y10S425/06 , Y10S425/815 , Y10S438/909
摘要：本發明係有關一種藉減少被沉積在一基材上之一層黏性液體中的氣袋，而來消減壓印層中之圖案變形的方法。其中，該方法包括改變靠近於該黏性液體之氣體的遷移性。具言之，靠近該要被複製圖案之基材的氛圍會被充滿某些氣體，其相對於被沉積的黏性液體具有較高的溶解度及/或擴散性。可附加地或取代填滿該氛圍，該氛圍的壓力亦可被減低。
简体摘要：本发明系有关一种藉减少被沉积在一基材上之一层黏性液体中的气袋，而来消减压印层中之图案变形的方法。其中，该方法包括改变靠近于该黏性液体之气体的迁移性。具言之，靠近该要被复制图案之基材的氛围会被充满某些气体，其相对于被沉积的黏性液体具有较高的溶解度及/或扩散性。可附加地或取代填满该氛围，该氛围的压力亦可被减低。

9. 发明专利

TW200931175A 超薄聚合性黏著層 ULTRA-THIN POLYMERIC ADHESION LAYER 审中-公开
简体标题：超薄聚合性黏着层 ULTRA-THIN POLYMERIC ADHESION LAYER
公开(公告)号：TW200931175A
公开(公告)日：2009-07-16
申请号：TW097146918
申请日：2008-12-03
申请人：分子壓模公司 MOLECULAR IMPRINTS, INC.
发明人：徐法蘭克Y XU, FRANK Y. , 福萊柴爾艾德華B FLETCHER, EDWARD B.
IPC分类号： G03F
摘要：一種壓印微影術壓印堆疊體包括一基板以及一附著至該基板的聚合性黏著層。該聚合性黏著層包括具有至少約2奈米延伸主鏈長度的聚合成分。該聚合成分的主鏈在基板表面上實質上對齊成一平面構形,使該聚合性黏著層的厚度小於約2奈米。
简体摘要：一种压印微影术压印堆栈体包括一基板以及一附着至该基板的聚合性黏着层。该聚合性黏着层包括具有至少约2奈米延伸主链长度的聚合成分。该聚合成分的主链在基板表面上实质上对齐成一平面构形,使该聚合性黏着层的厚度小于约2奈米。

10. 发明专利

TW200931174A 用於奈米壓印微影術之多孔性模板及壓印堆疊體 POROUS TEMPLATE AND IMPRINTING STACK FOR NANO-IMPRINT LITHOGRAPHY 审中-公开
简体标题：用于奈米压印微影术之多孔性模板及压印堆栈体 POROUS TEMPLATE AND IMPRINTING STACK FOR NANO-IMPRINT LITHOGRAPHY
公开(公告)号：TW200931174A
公开(公告)日：2009-07-16
申请号：TW097146748
申请日：2008-12-02
申请人：分子壓模公司 MOLECULAR IMPRINTS, INC.
发明人：徐法蘭克Y XU, FRANK Y. , 盧偉俊 LIU, WEIJUN , 福萊柴爾艾德華B FLETCHER, EDWARD B. , 史瑞尼瓦森思蓋塔V SREENIVASAN, SIDLGATA V. , 崔炳鎮 CHOI, BYUNG-JIN , 庫斯納迪諾夫尼耶茲 KHUSNATDINOV, NIYAZ , 齊雷拉安雪曼 CHERALA, ANSHUMAN , 西里尼迪斯科斯塔S SELINIDIS, KOSTA S.
IPC分类号： G03F
摘要：一種壓印微影術模板或是壓印堆疊體,其包括一多孔材料,該多孔材料界定多個平均孔隙尺寸係至少約為0.4奈米之孔隙。該多孔材料之一孔隙率係至少約為10%。多孔性模板、多孔性壓印堆疊體或二者能夠用於一壓印微影術程序中,以有助於將困在模板與壓印堆疊體之間的氣體擴散進入該模板、壓印堆疊體或二者,以致於使位於壓印堆疊體與模板之間的可聚合材料快速地在壓印堆疊體以及模板之間形成一實質連續層聚合化材料快速地在壓印堆疊體以及模板之間形成一大體上的連續層。
简体摘要：一种压印微影术模板或是压印堆栈体,其包括一多孔材料,该多孔材料界定多个平均孔隙尺寸系至少约为0.4奈米之孔隙。该多孔材料之一孔隙率系至少约为10%。多孔性模板、多孔性压印堆栈体或二者能够用于一压印微影术进程中,以有助于将困在模板与压印堆栈体之间的气体扩散进入该模板、压印堆栈体或二者,以致于使位于压印堆栈体与模板之间的可聚合材料快速地在压印堆栈体以及模板之间形成一实质连续层聚合化材料快速地在压印堆栈体以及模板之间形成一大体上的连续层。

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式