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1. 发明专利

TWI649932B 使用面鏡及／或稜鏡之雷射重覆率倍增器及平頂射束分佈產生器有权
简体标题：使用面镜及／或棱镜之激光重复率倍增器及平顶射束分布产生器
公开(公告)号：TWI649932B
公开(公告)日：2019-02-01
申请号：TW104119859
申请日：2015-06-18
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：莊勇和艾力克斯 , CHUANG, YUNG-HO ALEX , 陸曉旭 , LU, XIAOXU , 劉典瓛 , LIOU, JUSTIN DIANHUAN , 阿姆斯壯 J 喬瑟夫 , ARMSTRONG, J. JOSEPH , 鄧宇俊 , DENG, YUJUN , 費爾登約翰 , FIELDEN, JOHN
IPC分类号： H01S3/00 , G02B27/00 , G02B17/00 , G01N21/84

2. 发明专利

TW201830809A 183奈米連續波雷射及檢測系統审中-公开
简体标题： 183奈米连续波激光及检测系统
公开(公告)号：TW201830809A
公开(公告)日：2018-08-16
申请号：TW107100009
申请日：2018-01-02
申请人：美商克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：莊勇和艾力克斯 , CHUANG, YUNG-HO ALEX , 陸曉旭 , LU, XIAOXU , 張百鋼 , ZHANG, BAIGANG , 費爾登約翰 , FIELDEN, JOHN , 杜立賓斯基維拉得摩 , DRIBINSKI, VLADIMIR
IPC分类号： H01S3/0933 , H01S3/05 , H01S3/16
摘要：一種雷射總成藉由下列步驟產生在約181奈米至約185奈米之範圍中之連續波(CW)雷射輸出光：自具有介於1微米與1.1微米之間的一第一基諧波長之第一基諧波CW光產生四次諧波光；藉由混合該四次諧波光與該第一基諧波CW光而產生五次諧波光；及接著混合該五次諧波光與具有介於1.26微米與1.82微米之間的一第二波長之第二基諧波或信號CW光。使用使第一基諧波CW光循環通過一第一非線性晶體之一外部腔且藉由引導該四次諧波光通過該第一非線性晶體而產生該五次諧波光。使用使經循環第二基諧波或信號CW光通過一第二非線性晶體之一第二腔且引導該五次諧波光通過該第二非線性晶體而產生該雷射輸出光。
简体摘要：一种激光总成借由下列步骤产生在约181奈米至约185奈米之范围中之连续波(CW)激光输出光：自具有介于1微米与1.1微米之间的一第一基谐波长之第一基谐波CW光产生四次谐波光；借由混合该四次谐波光与该第一基谐波CW光而产生五次谐波光；及接着混合该五次谐波光与具有介于1.26微米与1.82微米之间的一第二波长之第二基谐波或信号CW光。使用使第一基谐波CW光循环通过一第一非线性晶体之一外部腔且借由引导该四次谐波光通过该第一非线性晶体而产生该五次谐波光。使用使经循环第二基谐波或信号CW光通过一第二非线性晶体之一第二腔且引导该五次谐波光通过该第二非线性晶体而产生该激光输出光。

3. 发明专利

TWI614558B 深紫外光連續波雷射及產生深紫外光連續波雷射輻射之方法有权
简体标题：深紫外光连续波激光及产生深紫外光连续波激光辐射之方法
公开(公告)号：TWI614558B
公开(公告)日：2018-02-11
申请号：TW103120220
申请日：2014-06-11
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：莊勇何 , CHUANG, YUNG-HO , 陸曉旭 , LU, XIAOXU , 費爾登約翰 , FIELDEN, JOHN
IPC分类号： G02F1/35 , G02F1/37 , H01S3/109
CPC分类号： H01S3/109 , G02F1/353 , G02F1/3534 , G02F1/3558 , G02F2001/3507 , G02F2001/354 , G02F2201/17 , G02F2203/15 , H01S3/0092

4. 发明专利

TW201514475A 用於提升檢測靈敏度之多點照明审中-公开
简体标题：用于提升检测灵敏度之多点照明
公开(公告)号：TW201514475A
公开(公告)日：2015-04-16
申请号：TW103127509
申请日：2014-08-11
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：莊勇和艾力克斯 , CHUANG, YUNG-HO ALEX , 陸曉旭 , LU, XIAOXU , 費爾登約翰 , FIELDEN, JOHN , 伊凡馬立夫 , MALEEV, IVAN
IPC分类号： G01N21/88 , G01N21/956
CPC分类号： G01N21/9501 , G01J1/04 , G01N21/8806
摘要：本發明揭示用於最小化自一不均勻照明源產生之多個照明光束之間之干擾以在一檢驗系統之視域上提供一有效均勻照明輪廓之方法及系統。在一些實例中，將一脈衝光束分割成多個照明光束，使得光束之各者在受檢驗之樣本之表面處時間分離。在一些實例中，將自一不均勻照明源產生之多個照明光束投射至該樣本之該表面上之空間分離之區域上。將由各區域照明之所關注之一點目標成像至一時間延遲積分(TDI)檢測器之表面上。該等映像經積分使得該等照明區域沿著所關注之該點目標之運動方向之相對位置不影響在該視域上之照明效率分佈。
简体摘要：本发明揭示用于最小化自一不均匀照明源产生之多个照明光束之间之干扰以在一检验系统之视域上提供一有效均匀照明轮廓之方法及系统。在一些实例中，将一脉冲光束分割成多个照明光束，使得光束之各者在受检验之样本之表面处时间分离。在一些实例中，将自一不均匀照明源产生之多个照明光束投射至该样本之该表面上之空间分离之区域上。将由各区域照明之所关注之一点目标成像至一时间延迟积分(TDI)检测器之表面上。该等图像经积分使得该等照明区域沿着所关注之该点目标之运动方向之相对位置不影响在该视域上之照明效率分布。

5. 发明专利

TW201504739A 具有改良穩定度之連續波深紫外光雷射审中-公开
简体标题：具有改良稳定度之连续波深紫外光激光
公开(公告)号：TW201504739A
公开(公告)日：2015-02-01
申请号：TW103120220
申请日：2014-06-11
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：莊勇何 , CHUANG, YUNG-HO , 陸曉旭 , LU, XIAOXU , 費爾登約翰 , FIELDEN, JOHN
IPC分类号： G02F1/35 , G02F1/37 , H01S3/109
CPC分类号： H01S3/109 , G02F1/353 , G02F1/3534 , G02F1/3558 , G02F2001/3507 , G02F2001/354 , G02F2201/17 , G02F2203/15 , H01S3/0092
摘要：一種深紫外光(DUV)連續波(CW)雷射，其包含：一基諧波CW雷射，其經組態以產生具有在約1μm與1.1μm之間之一對應波長之一基諧波頻率；一個三次諧波產生器模組，其包含產生一個三次諧波及一選用二次諧波之一或多個週期性極化之非線性光學(NLO)晶體；及一個四次諧波產生器模組及一個五次諧波產生器中之一者。該四次諧波產生器模組包含經組態以使基諧波頻率與三次諧波組合以產生一個四次諧波之以該基諧波頻率諧振之一腔。該四次諧波產生器模組包含用於使基諧波頻率與三次諧波組合以產生一個五次諧波之以該基諧波頻率諧振之一腔，或用於使二次諧波與該三次諧波組合以產生該五次諧波之以該二次諧波頻率諧振之一腔。
简体摘要：一种深紫外光(DUV)连续波(CW)激光，其包含：一基谐波CW激光，其经组态以产生具有在约1μm与1.1μm之间之一对应波长之一基谐波频率；一个三次谐波产生器模块，其包含产生一个三次谐波及一选用二次谐波之一或多个周期性极化之非线性光学(NLO)晶体；及一个四次谐波产生器模块及一个五次谐波产生器中之一者。该四次谐波产生器模块包含经组态以使基谐波频率与三次谐波组合以产生一个四次谐波之以该基谐波频率谐振之一腔。该四次谐波产生器模块包含用于使基谐波频率与三次谐波组合以产生一个五次谐波之以该基谐波频率谐振之一腔，或用于使二次谐波与该三次谐波组合以产生该五次谐波之以该二次谐波频率谐振之一腔。

6. 发明专利

TWI612292B 用於提升檢測靈敏度之多點照明有权
简体标题：用于提升检测灵敏度之多点照明
公开(公告)号：TWI612292B
公开(公告)日：2018-01-21
申请号：TW103127509
申请日：2014-08-11
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：莊勇和艾力克斯 , CHUANG, YUNG-HO ALEX , 陸曉旭 , LU, XIAOXU , 費爾登約翰 , FIELDEN, JOHN , 伊凡馬立夫 , MALEEV, IVAN
IPC分类号： G01N21/88 , G01N21/956
CPC分类号： G01N21/9501 , G01J1/04 , G01N21/8806

7. 发明专利

TW201801132A 高亮度雷射維持電漿寬頻源审中-公开
简体标题：高亮度激光维持等离子宽带源
公开(公告)号：TW201801132A
公开(公告)日：2018-01-01
申请号：TW106110264
申请日：2017-03-28
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：莊勇和艾力克斯 , CHUANG, YUNG-HO ALEX , 陸曉旭 , LU, XIAOXU , 劉典瓛 , LIOU, JUSTIN , 費爾登約翰 , FIELDEN, JOHN
IPC分类号： H01J61/02 , H01J61/30 , H01J65/04
CPC分类号： H01J61/025 , H01J61/125 , H01J61/16 , H01J61/20 , H01J61/54 , H01J65/04 , H05H1/24
摘要：本發明提供一種高亮度雷射維持寬頻光源，其包含一氣體圍阻結構及經組態以產生包含至少接近該氣體圍阻結構中所含有之一中性氣體之一弱吸收線之一波長之照明之一泵浦光束之一泵浦雷射。該寬頻光源包含經組態以將該泵浦光束聚焦至定位在該氣體圍阻結構之中心中或定位成接近該中心之一近似橢圓光束腰中之一或多個變形照明光學器件。該寬頻光源包含經組態以在實質上與該橢圓光束腰之一較長軸對準之一方向上收集由該電漿發射之寬頻輻射之一或多個第一集光光學器件。
简体摘要：本发明提供一种高亮度激光维持宽带光源，其包含一气体围阻结构及经组态以产生包含至少接近该气体围阻结构中所含有之一中性气体之一弱吸收线之一波长之照明之一泵浦光束之一泵浦激光。该宽带光源包含经组态以将该泵浦光束聚焦至定位在该气体围阻结构之中心中或定位成接近该中心之一近似椭圆光束腰中之一或多个变形照明光学器件。该宽带光源包含经组态以在实质上与该椭圆光束腰之一较长轴对准之一方向上收集由该等离子发射之宽带辐射之一或多个第一集光光学器件。

8. 发明专利

TW201603424A 使用面鏡及／或稜鏡之雷射重覆率倍增器及平頂射束分佈產生器审中-公开
简体标题：使用面镜及／或棱镜之激光重复率倍增器及平顶射束分布产生器
公开(公告)号：TW201603424A
公开(公告)日：2016-01-16
申请号：TW104119859
申请日：2015-06-18
申请人：克萊譚克公司 , KLA-TENCOR CORPORATION
发明人：莊勇和艾力克斯 , CHUANG, YUNG-HO ALEX , 陸曉旭 , LU, XIAOXU , 劉典瓛 , LIOU, JUSTIN DIANHUAN , 阿姆斯壯 J 喬瑟夫 , ARMSTRONG, J. JOSEPH , 鄧宇俊 , DENG, YUJUN , 費爾登約翰 , FIELDEN, JOHN
IPC分类号： H01S3/00 , G02B27/00 , G02B17/00 , G01N21/84
摘要：一種重覆率(脈衝)倍增器包含一或多個射束分裂器及稜鏡，該等稜鏡形成具有延遲各脈衝之能量之部分之不同光學路徑長度之一或多個環形腔。一系列輸入雷射脈衝在該等環形腔中循環且各脈衝之該能量之部分在橫穿較短腔路徑之後離開該系統，而該能量之另一部分在橫穿較長腔路徑及/或兩個腔路徑之一組合之後離開該系統。藉由該環形腔光學路徑長度之適當選擇，一輸出系列之雷射脈衝之該重覆率可變為該輸入重覆率之一倍數。可藉由選擇該等射束分裂器之透射及反射係數來控制該等輸出脈衝之相對能量。一些實施例產生實質上在一個維度上平坦之一時間平均輸出射束分佈。
简体摘要：一种重复率(脉冲)倍增器包含一或多个射束分裂器及棱镜，该等棱镜形成具有延迟各脉冲之能量之部分之不同光学路径长度之一或多个环形腔。一系列输入激光脉冲在该等环形腔中循环且各脉冲之该能量之部分在横穿较短腔路径之后离开该系统，而该能量之另一部分在横穿较长腔路径及/或两个腔路径之一组合之后离开该系统。借由该环形腔光学路径长度之适当选择，一输出系列之激光脉冲之该重复率可变为该输入重复率之一倍数。可借由选择该等射束分裂器之透射及反射系数来控制该等输出脉冲之相对能量。一些实施例产生实质上在一个维度上平坦之一时间平均输出射束分布。

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