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热词
    • 1. 发明专利
    • 磁控裝置
    • 磁控设备
    • TW201611786A
    • 2016-04-01
    • TW103132471
    • 2014-09-19
    • 光峰科技股份有限公司EVEREST DISPLAY INC.
    • 洪惠泰HONG, HEI TAI蔡懷方TSAI, HUAI FANG呂世傑LU, SHIH CHIEH
    • A61B17/94
    • 一種磁控裝置,包括:一磁性組件,其包含:一第一磁鐵,具有一彼此相對設置的第一磁極及第二磁極;及一第二磁鐵,具有一彼此相對設置的第三磁極及第四磁極,其中該第三磁極所指向的方向定義一磁吸方向;其中該第一磁鐵可相對於該第二磁鐵而轉動地彼此共一軸心設置,以選擇性地改變該第三磁極與該第一磁極之間及該第三磁極與該第二磁極之間的重疊程度,從而改變該磁性組件沿該磁吸方向上的磁吸力,其中該第一磁極與該第三磁極之間為同極性,該磁吸力隨所述重疊程度增大而稱強,該第二磁極與該第三磁極之間為不同極性,該磁吸力隨所述重疊程度增大而減弱,藉此以調整磁場強度,並且讓磁場可擴及更遠的範圍。
    • 一种磁控设备,包括:一磁性组件,其包含:一第一磁铁,具有一彼此相对设置的第一磁极及第二磁极;及一第二磁铁,具有一彼此相对设置的第三磁极及第四磁极,其中该第三磁极所指向的方向定义一磁吸方向;其中该第一磁铁可相对于该第二磁铁而转动地彼此共一轴心设置,以选择性地改变该第三磁极与该第一磁极之间及该第三磁极与该第二磁极之间的重叠程度,从而改变该磁性组件沿该磁吸方向上的磁吸力,其中该第一磁极与该第三磁极之间为同极性,该磁吸力随所述重叠程度增大而称强,该第二磁极与该第三磁极之间为不同极性,该磁吸力随所述重叠程度增大而减弱,借此以调整磁场强度,并且让磁场可扩及更远的范围。
    • 5. 发明专利
    • 具多模式之互動投影系統及其指示裝置與控制方法
    • 具多模式之交互投影系统及其指示设备与控制方法
    • TW201409287A
    • 2014-03-01
    • TW101130397
    • 2012-08-22
    • 光峰科技股份有限公司EVEREST DISPLAY INC.
    • 洪惠泰HONG, HEI TAI李富雄LEE, FU HSIUNG林玉淇LIN, YU CHI呂世傑LU, SHIH CHIEH
    • G06F3/03G03B21/14
    • G06F3/033G06F3/03542G06F3/0386
    • 本發明提供一種具多模式之互動投影系統,包括指示裝置、紅外線光擷取裝置與投影裝置。指示裝置的時序產生模組產生多個時序訊號,並依據其中一時序訊號來控制指示裝置執行多個發光模式其中之一。指示裝置的發光模組受控於時序產生模組,並依據所執行的發光模式產生一發光時間的紅外線光。於偵測時間中,發光時間對應其中一發光模式。紅外線光擷取裝置週期性地擷取紅外線光的影像。投影模組受控於主機裝置輸出的背景影像與書寫影像,並將其投射於屏幕。主機裝置依據於偵測時間內紅外線光的影像,判斷發光模式並持續地獲得紅外線光的座標點。
    • 本发明提供一种具多模式之交互投影系统,包括指示设备、红外线光截取设备与投影设备。指示设备的时序产生模块产生多个时序信号,并依据其中一时序信号来控制指示设备运行多个发光模式其中之一。指示设备的发光模块受控于时序产生模块,并依据所运行的发光模式产生一发光时间的红外线光。于侦测时间中,发光时间对应其中一发光模式。红外线光截取设备周期性地截取红外线光的影像。投影模块受控于主机设备输出的背景影像与书写影像,并将其投射于屏幕。主机设备依据于侦测时间内红外线光的影像,判断发光模式并持续地获得红外线光的座标点。
    • 7. 发明专利
    • 用於產生均勻線性光源的光學模組及產生均勻線性光源的方法
    • 用于产生均匀线性光源的光学模块及产生均匀线性光源的方法
    • TW201523046A
    • 2015-06-16
    • TW102144799
    • 2013-12-06
    • 光峰科技股份有限公司EVEREST DISPLAY INC.
    • 洪惠泰HONG, HEI TAI蔡懷方TSAI, HUAI FANG呂世傑LU, SHIH CHIEH
    • G02B6/00G06F3/042
    • 本發明揭示一種用於產生均勻線性光源的光學模組及一種產生均勻線性光源的方法。用於產生均勻線性光源的光學模組包括:一基底單元、一第一光學單元及一第二光學單元。第一光學單元設置在基底單元上,並且第一光學單元具有一用於將至少一點光源轉換成多個模擬點光源的第一光學結構層。第二光學單元設置在基底單元上且相反於第一光學單元,並且第二光學單元具有一用於將多個模擬點光源轉換成均勻線性光源的第二光學結構層。藉此,至少一點光源通過第一光學結構層,以形成投向第二光學結構層的多個模擬點光源,且多個模擬點光源同時通過第二光學結構層,以形成從第二光學結構層投射而出的均勻線性光源。
    • 本发明揭示一种用于产生均匀线性光源的光学模块及一种产生均匀线性光源的方法。用于产生均匀线性光源的光学模块包括:一基底单元、一第一光学单元及一第二光学单元。第一光学单元设置在基底单元上,并且第一光学单元具有一用于将至少一点光源转换成多个仿真点光源的第一光学结构层。第二光学单元设置在基底单元上且相反于第一光学单元,并且第二光学单元具有一用于将多个仿真点光源转换成均匀线性光源的第二光学结构层。借此,至少一点光源通过第一光学结构层,以形成投向第二光学结构层的多个仿真点光源,且多个仿真点光源同时通过第二光学结构层,以形成从第二光学结构层投射而出的均匀线性光源。