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1. 实用新型

TWM555362U 電鍍輔助板及應用其之電鍍系統有权
简体标题：电镀辅助板及应用其之电镀系统
公开(公告)号：TWM555362U
公开(公告)日：2018-02-11
申请号：TW106213642
申请日：2017-09-13
申请人：先豐通訊股份有限公司 , BOARDTEK ELECTRONICS CORPORATION
发明人：鄭文鋒 , CHENG, WEN-FENG , 許吉昌 , HSU, CHI-CHANG , 孫尚培 , SUN, SHANG-PEI , 吳博軒 , WU, PO-HSUAN , 許宏瑋 , HSU, HUNG-WEI
IPC分类号： C25D17/00

2. 发明专利

TWI664321B 電鍍輔助板及應用其之電鍍系統有权
简体标题：电镀辅助板及应用其之电镀系统
公开(公告)号：TWI664321B
公开(公告)日：2019-07-01
申请号：TW106131489
申请日：2017-09-13
申请人：先豐通訊股份有限公司 , BOARDTEK ELECTRONICS CORPORATION
发明人：鄭文鋒 , CHENG, WEN-FENG , 許吉昌 , HSU, CHI-CHANG , 孫尚培 , SUN, SHANG-PEI , 吳博軒 , WU, PO-HSUAN , 許宏瑋 , HSU, HUNG-WEI
IPC分类号： C25D17/10 , C25D21/12

3. 发明专利

TWI696586B 電化學處理系統有权
简体标题：电化学处理系统
公开(公告)号：TWI696586B
公开(公告)日：2020-06-21
申请号：TW108101384
申请日：2019-01-14
申请人：先豐通訊股份有限公司 , BOARDTEK ELECTRONICS CORPORATION
发明人：鄭文鋒 , CHENG, WEN-FENG , 許吉昌 , HSU, CHI-CHANG , 孫尚培 , SUN, SHANG-PEI , 許宏瑋 , HSU, HUNG-WEI
IPC分类号： C02F1/46 , C02F9/06 , B01D61/00 , C02F103/00

4. 实用新型

TWM600060U 噴盤檢測系統有权
简体标题：喷盘检测系统
公开(公告)号：TWM600060U
公开(公告)日：2020-08-11
申请号：TW109203612
申请日：2020-03-27
申请人：先豐通訊股份有限公司 , BOARDTEK ELECTRONICS CORPORATION
发明人：鄭文鋒 , CHENG, WEN-FENG , 許吉昌 , HSU, CHI-CHANG , 孫尚培 , SUN, SHANG-PEI , 許宏瑋 , HSU, HUNG-WEI
IPC分类号： H05K3/00 , G01F23/14 , B05B7/12

5. 发明专利

TW202026250A 電化學處理系統审中-公开
简体标题：电化学处理系统
公开(公告)号：TW202026250A
公开(公告)日：2020-07-16
申请号：TW108101384
申请日：2019-01-14
申请人：先豐通訊股份有限公司 , BOARDTEK ELECTRONICS CORPORATION
发明人：鄭文鋒 , CHENG, WEN-FENG , 許吉昌 , HSU, CHI-CHANG , 孫尚培 , SUN, SHANG-PEI , 許宏瑋 , HSU, HUNG-WEI
IPC分类号： C02F1/46 , C02F9/06 , B01D61/00 , C02F103/00
摘要：本發明之電化學處理系統至少包含：第一基體、第二基體、離子膜以及二隔板，該第一、第二基體結構大致相同，分別具有進水口出水口以及位於側面之副出水口，而該第一基體其中一側係為陽極表面，該第二基體其中一側係為陰極表面，且該陰極表面與該陽極表面相對設置，該離子膜係位於該陽極表面與該陰極表面之間，並區隔成一陽極室及一陰極室，該二隔板分別配置於該陽極室及該陰極室內，可分別導引該陽極室及該陰極室之液體，利用本發明之電化學處理系統可處理例如蝕刻廢液之回收再利用。
简体摘要：本发明之电化学处理系统至少包含：第一基体、第二基体、离子膜以及二隔板，该第一、第二基体结构大致相同，分别具有进水口出水口以及位于侧面之副出水口，而该第一基体其中一侧系为阳极表面，该第二基体其中一侧系为阴极表面，且该阴极表面与该阳极表面相对设置，该离子膜系位于该阳极表面与该阴极表面之间，并区隔成一阳极室及一阴极室，该二隔板分别配置于该阳极室及该阴极室内，可分别导引该阳极室及该阴极室之液体，利用本发明之电化学处理系统可处理例如蚀刻废液之回收再利用。

6. 实用新型

TWM594611U 銅離子濃度監控系統有权
简体标题：铜离子浓度监控系统
公开(公告)号：TWM594611U
公开(公告)日：2020-05-01
申请号：TW109200781
申请日：2020-01-17
申请人：先豐通訊股份有限公司 , BOARDTEK ELECTRONICS CORPORATION
发明人：鄭文鋒 , CHENG, WEN-FENG , 許吉昌 , HSU, CHI-CHANG , 孫尚培 , SUN, SHANG-PEI , 許宏瑋 , HSU, HUNG-WEI
IPC分类号： C25C7/06 , C23F1/46 , C25C1/12

7. 发明专利

TW201627229A 電化學反應方法及電化學槽审中-公开
简体标题：电化学反应方法及电化学槽
公开(公告)号：TW201627229A
公开(公告)日：2016-08-01
申请号：TW104102071
申请日：2015-01-22
申请人：先豐通訊股份有限公司
发明人：孫尚培 , 許宏瑋 , 許吉昌 , HSU, CHI CHANG , 鄭文鋒 , CHENG, WEN FENG
IPC分类号： C02F1/46 , C25B11/02 , C25B9/06 , C25C7/02 , C25D17/12
摘要：本發明首先提供一電化學槽，其電化學槽係由複數電極管構築成數個由內而外逐層串聯配置的流道，分別於相鄰的流道之間設有一引流孔，另設有一供水液自最內圈之流道進入電化學槽的進水孔，另設有一供水液自最外圈之流道離開電化學槽的排水孔，以及於最內圈之流道中穿設一中心電極桿；將水液自進入孔注入電化學槽最內圈之流道，同時將電流導入全數電極管及中心電極桿，即可令依序流經各流道之水液產生電解或電化學合成等電化學反應。俾可有效提升水液之電化學反應效能及產能，以及有效掌控各電極管之耗損狀態。
简体摘要：本发明首先提供一电化学槽，其电化学槽系由复数电极管构筑成数个由内而外逐层串联配置的流道，分别于相邻的流道之间设有一引流孔，另设有一供水液自最内圈之流道进入电化学槽的进水孔，另设有一供水液自最外圈之流道离开电化学槽的排水孔，以及于最内圈之流道中穿设一中心电极杆；将水液自进入孔注入电化学槽最内圈之流道，同时将电流导入全数电极管及中心电极杆，即可令依序流经各流道之水液产生电解或电化学合成等电化学反应。俾可有效提升水液之电化学反应性能及产能，以及有效掌控各电极管之耗损状态。

8. 实用新型

TWM498758U 電化學槽有权
简体标题：电化学槽
公开(公告)号：TWM498758U
公开(公告)日：2015-04-11
申请号：TW104201030
申请日：2015-01-22
申请人：先豐通訊股份有限公司
发明人：孫尚培 , 許宏瑋 , 許吉昌 , HSU, CHI CHANG , 鄭文鋒 , CHENG, WEN FENG
IPC分类号： C25D17/00

9. 发明专利

TWI616405B 電化學反應方法及電化學槽有权
简体标题：电化学反应方法及电化学槽
公开(公告)号：TWI616405B
公开(公告)日：2018-03-01
申请号：TW104102071
申请日：2015-01-22
申请人：先豐通訊股份有限公司
发明人：孫尚培 , 許宏瑋 , 許吉昌 , HSU, CHI CHANG , 鄭文鋒 , CHENG, WEN FENG
IPC分类号： C02F1/46 , C25B11/02 , C25B9/06 , C25C7/02 , C25D17/12

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