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    • 3. 发明专利
    • 新穎咪唑衍生物 NOVEL IMIDAZOLE DERIVATIVES
    • 新颖咪唑衍生物 NOVEL IMIDAZOLE DERIVATIVES
    • TW201002203A
    • 2010-01-16
    • TW098112158
    • 2009-04-13
    • 先正達合夥公司
    • 督門尤尼爾 瑞菲爾藍伯斯 克萊門斯崔 史帝芬
    • A01NC07DA61KA01PA61P
    • C07D233/68C07D233/60C07D403/12
    • 本發明係關於式I的新穎咪唑衍生物作為活性成分,其具有殺微生物活性,特別是殺真菌活性:
      其中R 1 為鹵素,C1-C4烷基或C1-C4鹵烷基;R 2 為視需要經取代的芳基;R 3 為鹵素或OR 7 ;R 4 和R 5 彼此獨立地為氫,鹵素或OR 7 ;R 6 為鹵素或C1-C4烷基;以及R 7 為氫,C1-C6烷基,C3-C7環烷基,C3-C10環烷基烷基,C1-C6鹵烷基,C2-C6烯基,C2-C6鹵烯基,C3-C7環烯基,C2-C6炔基,C2-C6鹵炔基,C2-C6烷氧基烷基,C3-C8二烷基胺基烷基,C4-C10環烷基胺基烷基或C4-C10雜環基烷基;或其農化上可用鹽形式;其限制條件為當R 3 為鹵素時,R 4 或R 5 中至少一者為OR 7 ;或當R 3 為OR 7 時,R 4 或R 5 中至少一者為OR 7 或鹵素。
    • 本发明系关于式I的新颖咪唑衍生物作为活性成分,其具有杀微生物活性,特别是杀真菌活性: 其中R 1 为卤素,C1-C4烷基或C1-C4卤烷基;R 2 为视需要经取代的芳基;R 3 为卤素或OR 7 ;R 4 和R 5 彼此独立地为氢,卤素或OR 7 ;R 6 为卤素或C1-C4烷基;以及R 7 为氢,C1-C6烷基,C3-C7环烷基,C3-C10环烷基烷基,C1-C6卤烷基,C2-C6烯基,C2-C6卤烯基,C3-C7环烯基,C2-C6炔基,C2-C6卤炔基,C2-C6烷氧基烷基,C3-C8二烷基胺基烷基,C4-C10环烷基胺基烷基或C4-C10杂环基烷基;或其农化上可用盐形式;其限制条件为当R 3 为卤素时,R 4 或R 5 中至少一者为OR 7 ;或当R 3 为OR 7 时,R 4 或R 5 中至少一者为OR 7 或卤素。
    • 4. 发明专利
    • 用於製備吡唑羧醯胺之方法 PROCESS FOR THE PREPARATION OF PYRAZOLE CARBOXYLIC ACID AMIDES
    • 用于制备吡唑羧酰胺之方法 PROCESS FOR THE PREPARATION OF PYRAZOLE CARBOXYLIC ACID AMIDES
    • TW201204705A
    • 2012-02-01
    • TW100113509
    • 2011-04-19
    • 先正達合夥公司
    • 督門尤尼爾 瑞菲爾托比勒 漢斯
    • C07DC07C
    • C07D231/14C07D303/08C07D303/36
    • 本發明係關於一種用於製備式I之方法,該方法包含a)使化合物II,與環戊二烯反應,形成;b)在氧化劑存在下使此化合物反應,形成式IV化合物;c)在金屬催化劑及惰性溶劑存在下在氫氣氛圍下使此化合物氫化為式V化合物;d)在布朗斯特酸(Brnsted acid)、及隨後之還原劑存在下使此化合物反應,形成式VI化合物;e)在鹼存在下使VI與式VII反應
      形成式VIII化合物;f)在氧化劑存在下使該式VIII化合物轉化為式IX化合物;及g)在三苯基膦/四氯化碳或三苯基膦/溴三氯甲烷存在下使該式IX化合物反應,形成該式I化合物。
    • 本发明系关于一种用于制备式I之方法,该方法包含a)使化合物II,与环戊二烯反应,形成;b)在氧化剂存在下使此化合物反应,形成式IV化合物;c)在金属催化剂及惰性溶剂存在下在氢气氛围下使此化合物氢化为式V化合物;d)在布朗斯特酸(Brnsted acid)、及随后之还原剂存在下使此化合物反应,形成式VI化合物;e)在碱存在下使VI与式VII反应 形成式VIII化合物;f)在氧化剂存在下使该式VIII化合物转化为式IX化合物;及g)在三苯基膦/四氯化碳或三苯基膦/溴三氯甲烷存在下使该式IX化合物反应,形成该式I化合物。