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热词
    • 2. 发明专利
    • 圖案化基板之製造方法
    • 图案化基板之制造方法
    • TW201209909A
    • 2012-03-01
    • TW099127835
    • 2010-08-20
    • 兆晶科技股份有限公司
    • 魏明德
    • H01L
    • 本發明有關於一種圖案化基板之製造方法,主要結合乾式蝕刻之優點及濕式蝕刻之優點。本發明之製造方法先使用乾式蝕刻基板形成圖案化基板,最後利用濕式蝕刻之高溫的化學蝕刻液對圖案化基板之表面進行處理,不但可穩定地控制製程品質及具有高良率,圖案化基板更具有良好的表面狀態,磊晶後之圖案化基板之電性表現不會受到影響。
    • 本发明有关于一种图案化基板之制造方法,主要结合干式蚀刻之优点及湿式蚀刻之优点。本发明之制造方法先使用干式蚀刻基板形成图案化基板,最后利用湿式蚀刻之高温的化学蚀刻液对图案化基板之表面进行处理,不但可稳定地控制制程品质及具有高良率,图案化基板更具有良好的表面状态,磊晶后之图案化基板之电性表现不会受到影响。
    • 3. 实用新型
    • 圖案化基板結構
    • 图案化基板结构
    • TWM406262U
    • 2011-06-21
    • TW099216978
    • 2010-09-01
    • 兆晶科技股份有限公司
    • 魏明德
    • H01L
    • 本創作有關於一種圖案化基板結構,主要於一基板上設有複數凸出物,每一凸出物之頂端具有一凹陷部,當磊晶於本創作之圖案化基板結構時,該磊晶層沉積於該些凸出物之該些凹陷部內及該些凸出物之間,如此之後所使用之緩衝層之厚度較薄。另外,當光進入具有該凹陷部之該凸出物時,具有該凹陷部之該凸出物將利用其凸凹結構改變光的折射反射路徑,如此可有效降低產生光全反射之機會。
    • 本创作有关于一种图案化基板结构,主要于一基板上设有复数凸出物,每一凸出物之顶端具有一凹陷部,当磊晶于本创作之图案化基板结构时,该磊晶层沉积于该些凸出物之该些凹陷部内及该些凸出物之间,如此之后所使用之缓冲层之厚度较薄。另外,当光进入具有该凹陷部之该凸出物时,具有该凹陷部之该凸出物将利用其凸凹结构改变光的折射反射路径,如此可有效降低产生光全反射之机会。