专利快速检索-快速检索全球专利，免费商用专利数据库-IPRDB

1. 发明专利

TWI576958B 晶圓夾持裝置有权
简体标题：晶圆夹持设备
公开(公告)号：TWI576958B
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW104117000
申请日：2015-05-27
申请人：億力鑫系統科技股份有限公司 , ELS SYSTEM TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：鄧志明 , TENG, CHIH MING , 陳紹禹
IPC分类号： H01L21/687

2. 发明专利

TW201524611A 多重噴頭裝置审中-公开
简体标题：多重喷头设备
公开(公告)号：TW201524611A
公开(公告)日：2015-07-01
申请号：TW102148418
申请日：2013-12-26
申请人：億力鑫系統科技股份有限公司 , ELS SYSTEM TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：鄧志明 , TENG, CHIH MING
IPC分类号： B05B15/00 , B05B1/14
摘要：一種多重噴頭裝置，包含：一噴頭單元及一間隔單元。該噴頭單元包括左右相間隔設置的一第一噴頭及一第二噴頭，該第一噴頭及該第二噴頭都具有一流體通道，各該流體通道界定出一進液口，及一相反於該進液口的出液口。該間隔單元包括一可拆卸地設置該第一噴頭與該第二噴頭之間的第一間隔體。透過搭配不同型態的第一間隔體，使得該第一噴頭的第一軸線與該基板間的第一夾角，及該第二噴頭的第二軸線與該基板間的第二夾角可呈現直角、鈍角及銳角的型態，針對不同的基板的表面能有效清潔。
简体摘要：一种多重喷头设备，包含：一喷头单元及一间隔单元。该喷头单元包括左右相间隔设置的一第一喷头及一第二喷头，该第一喷头及该第二喷头都具有一流体信道，各该流体信道界定出一进液口，及一相反于该进液口的出液口。该间隔单元包括一可拆卸地设置该第一喷头与该第二喷头之间的第一间隔体。透过搭配不同型态的第一间隔体，使得该第一喷头的第一轴线与该基板间的第一夹角，及该第二喷头的第二轴线与该基板间的第二夹角可呈现直角、钝角及锐角的型态，针对不同的基板的表面能有效清洁。

3. 实用新型

TWM482444U 流體噴頭及流體噴頭裝置有权
简体标题：流体喷头及流体喷头设备
公开(公告)号：TWM482444U
公开(公告)日：2014-07-21
申请号：TW103200843
申请日：2014-01-15
申请人：億力鑫系統科技股份有限公司 , ELS SYSTEM TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：鄧志明 , TENG, CHIH MING
IPC分类号： B05B1/14 , H01L21/67

4. 实用新型

TWM481772U 流體噴頭有权
简体标题：流体喷头
公开(公告)号：TWM481772U
公开(公告)日：2014-07-11
申请号：TW103205096
申请日：2014-03-25
申请人：億力鑫系統科技股份有限公司 , ELS SYSTEM TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：鄧志明 , TENG, CHIH MING
IPC分类号： B05B7/02 , H01L21/30

5. 发明专利

TWI576944B 晶圓承載裝置有权
简体标题：晶圆承载设备
公开(公告)号：TWI576944B
公开(公告)日：2017-04-01
申请号：TW104138259
申请日：2015-11-19
申请人：億力鑫系統科技股份有限公司 , ELS SYSTEM TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：鄧志明 , TENG, CHIH MING , 陳紹禹
IPC分类号： H01L21/67

6. 发明专利

TWI552262B 承載裝置有权
简体标题：承载设备
公开(公告)号：TWI552262B
公开(公告)日：2016-10-01
申请号：TW103129551
申请日：2014-08-27
申请人：億力鑫系統科技股份有限公司 , ELS SYSTEM TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：鄧志明 , TENG, CHIH MING
IPC分类号： H01L21/683

7. 发明专利

TW201615522A 用於化學處理中的晶圓收納裝置审中-公开
简体标题：用于化学处理中的晶圆收纳设备
公开(公告)号：TW201615522A
公开(公告)日：2016-05-01
申请号：TW103136486
申请日：2014-10-22
申请人：億力鑫系統科技股份有限公司 , ELS SYSTEM TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：鄧志明 , TENG, CHIH MING
IPC分类号： B65D85/90
摘要：一種用於化學處理中的晶圓收納裝置，包含一包括二間隔且相向設置之基板的盒本體，及至少三間隔地位於該盒本體中的承載單元。各承載單元包括一自其中一基板朝其中另一基板延伸以固定於該基板的中央軸柱，及複數沿該中央軸柱之一軸線依序相鄰地設置於該中央軸柱的承載輪。各承載單元的各承載輪具有一能沿該軸線的任一徑向移動地圍設於該中央軸柱外之套接部，及兩個自其套接部沿該軸線的所有徑向向外延伸之突部，且各承載輪之突部沿其軸線間隔設置，以令各承載輪之該兩突部的二相向的表面間形成一凹槽，且該兩相向的表面之間距是沿該軸線的任一徑向向外遞增。
简体摘要：一种用于化学处理中的晶圆收纳设备，包含一包括二间隔且相向设置之基板的盒本体，及至少三间隔地位于该盒本体中的承载单元。各承载单元包括一自其中一基板朝其中另一基板延伸以固定于该基板的中央轴柱，及复数沿该中央轴柱之一轴线依序相邻地设置于该中央轴柱的承载轮。各承载单元的各承载轮具有一能沿该轴线的任一径向移动地围设于该中央轴柱外之套接部，及两个自其套接部沿该轴线的所有径向向外延伸之突部，且各承载轮之突部沿其轴线间隔设置，以令各承载轮之该两突部的二相向的表面间形成一凹槽，且该两相向的表面之间距是沿该轴线的任一径向向外递增。

8. 发明专利

TWI520794B 具有清洗裝置之浸泡設備有权
简体标题：具有清洗设备之浸泡设备
公开(公告)号：TWI520794B
公开(公告)日：2016-02-11
申请号：TW103136488
申请日：2014-10-22
申请人：億力鑫系統科技股份有限公司 , ELS SYSTEM TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：鄧志明 , TENG, CHIH MING
IPC分类号： B08B3/02 , B08B13/00 , H01L21/304

9. 发明专利

TWI569879B 噴嘴有权
简体标题：喷嘴
公开(公告)号：TWI569879B
公开(公告)日：2017-02-11
申请号：TW104128346
申请日：2015-08-28
申请人：億力鑫系統科技股份有限公司 , ELS SYSTEM TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：鄧志明 , TENG, CHIH MING
IPC分类号： B05B1/34 , B05B17/06

10. 发明专利

TWI556342B 基板夾持裝置有权
简体标题：基板夹持设备
公开(公告)号：TWI556342B
公开(公告)日：2016-11-01
申请号：TW103136478
申请日：2014-10-22
申请人：億力鑫系統科技股份有限公司 , ELS SYSTEM TECHNOLOGY CO., LTD.
发明人：鄧志明 , TENG, CHIH MING
IPC分类号： H01L21/67

你已经成功收藏专利！

检索式保存成功!

IPRDB

热门服务

关于我们

友情链接

联系方式